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epitaxial mesaとは 意味・読み方・使い方
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「epitaxial mesa」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
A step (S50) of selectively growing an epitaxial film constituting the mesa structure part on the substrate is performed with the second mask layer as a mask.例文帳に追加
第2のマスク層をマスクとして、基板上にメサ構造部を構成するエピタキシャル膜を選択成長させる工程(S50)を実施する。 - 特許庁
Then an epitaxial layer is etched by As or P-group etching solution to form an interlayer separating mesa structure (second step).例文帳に追加
次いでエピタキシャル層をAs系またはP系のエッチング液を用いてエッチングして素子間分離構造をなすメサを形成する(第2の工程)。 - 特許庁
With such a structure, at reverse bias, the contact part of the n- type layer 2 with the Al film 5 in a mesa part is pinched off by a depletion layer which extends to the n- type epitaxial layer 2, and at reverse bias, the potential barrier in the mesa part is made higher.例文帳に追加
このような構成にて、逆バイアス時にはn^- 型エピ層2に延びる空乏層によってメサ部分のn^- 型層2とAl膜5との接触部をピンチオフし、逆バイアス時にはメサ部分の電位障壁を高くする。 - 特許庁
Next, by providing the predetermined mesa etching, there remain an epitaxial layer 3a that serves as the solar cell body and the epitaxial layer 3b that serves as a bypass diode.例文帳に追加
次に、所定のメサエッチングを施すことによって、太陽電池セル本体となるエピタキシャル層3aと、バイパスダイオードとなるエピタキシャル層3bが残される。 - 特許庁
In this bipolar junction transistor, an epitaxial silicon carbide passivation layer 350 of the first conductivity type is provided on at least a portion of the epitaxial silicon carbide base layer 320 outside the silicon carbide emitter mesa.例文帳に追加
本発明に係るバイポーラ接合トランジスタでは、第1の導電型のエピタキシャル炭化ケイ素保護層が、炭化ケイ素エミッタメサの外側にあるエピタキシャル炭化ケイ素ベース層の少なくとも一部に設けられる。 - 特許庁
The process of a second embodiment comprises a step that the silicon substrate having the mesa encircled in the trench is formed, a step that a dielectric layer is formed in the trench abutted on the mesa, and a step that the silicon germanium layer is grown on the upper surface of the mesa by a selectively epitaxial growth method to form a silicon germanium base.例文帳に追加
第2実施例のプロセスは、トレンチに囲まれたメサを有するシリコン基板を形成するステップ、メサに隣接したトレンチに誘電層を形成するステップ、及び選択的エピタキシャル成長によりメサ上面にシリコン・ゲルマニウム層を成長させてシリコン・ゲルマニウム・ベースを形成するステップを含む。 - 特許庁
Since the crystal film (epitaxial growth film) formed in a projected shape on the crystal substrate 1 is sufficiently thinner than the thickness of the crystal substrate 1, the mesa type substrate with higher frequency accuracy can be obtained.例文帳に追加
また、水晶基板1上に凸状に形成される水晶膜(エピタキシャル成長膜)は、水晶基板1の厚さに対して十分薄いため、より周波数精度の良いメサ型基板が得られる。 - 特許庁
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「epitaxial mesa」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
To provide a bipolar junction transistor (BJT) comprising a silicon carbide (SiC) collector layer of first conductivity type an epitaxial silicon carbide base layer of second conductivity type on the silicon carbide collector layer, and an epitaxial silicon carbide emitter mesa of the first conductivity type on the epitaxial silicon carbide base layer.例文帳に追加
第1の導電型の炭化ケイ素(SiC)コレクタ層、炭化ケイ素コレクタ層上の第2の導電型のエピタキシャル炭化ケイ素ベース層、およびエピタキシャル炭化ケイ素ベース層上の第1の導電型のエピタキシャル炭化ケイ素エミッタメサを含むバイポーラ接合トランジスタ(BJT)を提供する。 - 特許庁
Composition material layers of a sub-collector layer 2, a collector layer 3, a base layer 4, an emitter layer 5, and an emitter cap layer 6, are formed on a semi-insulating substrate 1 by epitaxial growth method; and are processed into a mesa structure to form a heterojunction bipolar transistor (HBT) element 20.例文帳に追加
半絶縁性基板1の上にエピタキシャル成長法によって、サブコレクタ層2、コレクタ層3、ベース層4、エミッタ層5、エミッタキャップ層6の構成材料層を形成し、これらをメサ構造に加工してヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBT)素子20を形成する。 - 特許庁
A method for fabricating a cellular trench MOSFET includes depositing a first photoresist atop a first epitaxial (epi) layer to pattern a trench area, depositing a second photoresist atop a first gate conductor layer to pattern a mesa area, etching away part of the first gate conductor layer in the mesa area to form a second gate conductor layer with a hump, and titanizing crystally the second gate conductor layer to form a Ti-gate conductor layer.例文帳に追加
多孔質のMOSFETの製造方法は、トレンチ領域をパターニングするために第1のエピタキシャル(エピ)層の上に第1のフォトレジストを堆積する段階と、メサ領域をパターニングするために第1のゲート導体層の上に第2のフォトレジストを堆積する段階と、ハンプを有する第2のゲート導体層を形成するために前記メサ領域の前記第1のゲート導体層の部分をエッチング除去する段階と、Tiゲート導体層を形成するために前記第2のゲート導体層を結晶的にチタン化する段階と、を含む。 - 特許庁
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