flatness errorとは 意味・読み方・使い方

SYSTEMATIC ERROR MEASURING METHOD IN FLATNESS MEASURING SYSTEM ON OBJECT SURFACE TO BE INSPECTED, FLATNESS MEASURING METHOD AND APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

被検体表面の平坦度測定系の系続誤差測定方法、これを用いた平坦度測定方法、及び、装置 - 特許庁

To provide a tape reel assembly for preventing a servo error and the damage of a tape edge by improving the flatness and rigidity of flanges.例文帳に追加

フランジの平坦性と剛性とを高めることにより、サーボエラーやテープエッジの損傷を防止するようにしたテープリールアセンブリを提供する。 - 特許庁

Duet to the present invention, the distortion of a wafer grid produced by the non-flatness during the period of alignment and exposure can be corrected by feed-forward and thus an overlay error caused by the difference in the flatness characteristic can be reduced.例文帳に追加

本発明によって、位置合わせおよび露光中に非平坦度によって生じたウェハグリッドの歪みをフィードフォワード補正し、平坦度特徴の違いが引き起こすオーバレイエラーを軽減することができる。 - 特許庁

To provide a hardness testing machine and a hardness testing method that can perform an automatic test independent from an error of an inclination and a flatness of a sample.例文帳に追加

試料の傾きや平面度の誤差に依存せず、自動試験を行うことのできる硬さ試験機及び硬さ試験方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical multiplexer/demultiplexer small in wavelength dependency, capable of being used in a wide wavelength zone, being hardly affected by a manufacturing error, furthermore excellent in wavelength flatness in a passing zone and having a wide blocking zone.例文帳に追加

波長依存性が小さく、広い波長域で用いることが可能であり、製作誤差の影響を受けにくく、なおかつ通過域の波長平坦性が良く、広い阻止域を有する光合分波器を提供する。 - 特許庁

To provide a design system of an electronic circuit board for systematically reflecting an unevenness profile of a board to design information, and easily designing a board with a desired flatness without a trial and error process.例文帳に追加

基板の凹凸プロファイルを設計情報に系統的に反映させることができ、ひいては試行錯誤を経ずとも所期の平坦度を有した基板を容易に設計することができる電子回路基板の設計システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for achieving a desired flatness of the mask blank even when a thin film itself has a film stress, and avoiding degradation in positional accuracy of a mask pattern or occurrence of a pattern displacement error and a pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁