half etchingとは 意味・読み方・使い方

The second resist film 25 on the rear surface side is removed for half-etching, and a recess 29 that has been half-etched is injected with a resin 19.例文帳に追加

裏面側の第２のレジスト膜２５を除去してハーフエッチングを行い、ハーフエッチングされた窪み部２９に樹脂１９を注入する。 - 特許庁

In the process of forming the concave portions, etching is conducted, in such a manner that deposition is suppressed by making the etch rate of the substrate from half to twice the etching rate of the mask in a final stage of etching and then etching is finished.例文帳に追加

凹部を形成する工程においては、少なくとも最後に基板のエッチング速度をマスクのエッチング速度の半分〜２倍とすることによりデポジションを抑制しながらエッチングを行ったところでエッチングを終了する。 - 特許庁

In the process of forming the concave portions, etching is conducted, in such a manner that deposition is suppressed by making the etch rate of the substrate from half to twice the etching rate of the mask in a final stage of etching and then etching is finished.例文帳に追加

凹部を形成する工程においては、少なくとも最後に基板のエッチング速度をマスクのエッチング速度の半分〜２倍とすることによりデポジションを抑制しながらエッチングを行ったところでエッチングを終了する。 - 特許庁

A lead frame 18 is prepared that has recessed portions 17' formed by half-etching on the top surfaces of leads 11.例文帳に追加

リード１１の上面にハーフエッチにより凹部１７´が形成されたリードフレーム１８を準備する。 - 特許庁

To provide copper or copper alloy foil capable of obtaining a smooth surface when being subjected to half etching.例文帳に追加

ハーフエッチングを施した時に平滑な表面が得られる銅又は銅合金箔を提供する。 - 特許庁

Etching is performed as far as half way of the p-Ga_1-z1Al_z1N clad layer 15, and a ridge part is formed.例文帳に追加

ｐ−Ｇａ_１−ｚ１Ａｌ_ｚ１Ｎクラッド層１５の途中までエッチングを行い、リッジ部を形成する。 - 特許庁

When the irradiation light transmitted through the etching pattern layer passes through the transparent layer and reaches the half-mirror part, a portion of the light is transmitted through the half-mirror part and exit from the front.例文帳に追加

エッチングパターン層を透過した照射光は、透明層を通りハーフミラー部に到達したとき、一部がハーフミラー部を透過して前面から出て行く。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING OF HALF-TONE PHASE SHIFTED FILM, HALF-TONE PHASE SHIFTED PHOTOMASK AND MANUFACTURE THEREOF, AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

ハーフトーン位相シフト膜のドライエッチング方法および装置、ハーフトーン位相シフトフォトマスクおよびその作製方法、ならびに半導体回路およびその製作方法 - 特許庁