industrial substrateとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of recycling plasma display panels (PDPs) which enables recycle, as an industrial material, of glass substrates used as a front- and a back-surface substrate.例文帳に追加

前面基板及び背面基板に使用されるガラス基板を工業用材料として再利用できるPDPのリサイクル方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A ceramic siding material (an exterior wall material utilized as an industrial product and made of cement, ceramics and metal) is used as a substrate without use of mortar.例文帳に追加

下地にモルタルを用いず、窯業系のサイディング材（工業製品化された外壁材であり、セメント、セラミック、金属を材料とするもの）を使用する。 - 特許庁

To provide a grasping device of an industrial robot capable of reducing bending of a substrate when it is sucked in a simple constitution for enabling a plate type article to be carried in and out normally in a narrow space.例文帳に追加

簡易な構成であって基板吸着時の撓みが少なく、狭い空隙において板状物品を正常に搬出入できる産業ロボットの把手装置を得る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an inorganic film having industrial advantages for manufacturing an inorganic film on a substrate safely in a short time, with an extremely low power and without using a combustible solvent.例文帳に追加

可燃性溶媒を用いることなく、基板上に無機膜を安全かつ低時間、超低電力で製膜できる、工業的に極めて有利な無機膜の製膜方法を提供する。 - 特許庁

To present an industrial method for forming a low-resistance n-type impurity layer that is indispensable in the formation of an electronic device, for a semiconductor silicon carbide substrate with a buried insulating layer.例文帳に追加

絶縁層埋め込み型半導体の炭化珪素基板において、電子デバイス作製に不可避である低抵抗ｎ型不純物層を形成するための工業的な方法を提案すること。 - 特許庁

To provide a method for producing various vinyl-substituted aryl compounds producing in a higher efficiency and stable yield not depending on substrate materials and as a result, useful for an industrial scale production.例文帳に追加

より高効率、かつ基質によらず安定した収率で製造でき、ひいては工業的規模の生産に有用な種々のビニル置換アリール化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

Relating to a composite optical film including a substrate having a diffusion microstructure and a structured surface on one surface of the substrate, the composite optical film has an internal diffusion haze of ≥5% when measured in accordance with a method stipulated in JIS K7136 (Japanese Industrial Standard).例文帳に追加

本発明は、拡散微細構造を有する基板と基板の片面上の構造化面とを含む複合光学フィルムに関し、上記複合光学フィルムは、ＪＩＳ Ｋ７１３６規格の方法に従って測定されると５％以上の内部拡散ヘーズを有する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a semiconductor thin film, in which the industrial productivity is improved by expanding a monocrystal area, without damaging the substrate.例文帳に追加

基板を損傷させることなく単結晶化領域を拡大させることができ、工業的生産性に優れた半導体薄膜の製造方法および半導体薄膜の製造装置を提供する。 - 特許庁