particle shiftとは 意味・読み方・使い方

To provider a charged particle beam device capable of correcting astigmatism, off-axis aberration, and focus shift simultaneously at high speed.例文帳に追加

非点収差、軸外収差、及び、焦点ずれを同時かつ高速に補正することができる荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing apparatus capable of high-precision drawing on a sample by correcting misalignment of the axis of a charged particle beam due to a shift in position of a charged particle beam generation source, and enabling beam adjustment free of beam absence and beam defocusing.例文帳に追加

荷電ビーム発生源の位置ずれに伴う荷電ビームの軸ずれを補正し、ビーム欠け、ビームぼけの無いビーム調整を可能とし試料に対して精度の高い描画を行うことができる荷電ビーム描画装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The catalyst for water-gas-shift reaction is constituted of a support containing zinc-aluminum double oxide and a catalytic particle supported by the support and containing copper.例文帳に追加

水性ガスシフト反応用触媒を、亜鉛アルミニウム複合酸化物を含む担体と、該担体に担持され銅を含む触媒粒子とから構成する。 - 特許庁

To provide a minute particle measuring instrument for performing measurement of high precision by automatically correcting the shift of an optical axis caused during measurement.例文帳に追加

測定中に生じたで光軸のずれを自動的に補正して、高精度な測定を行うことが可能な微小粒子測定装置の提供。 - 特許庁

To provide a gas sensor capable of reducing a shift in a λ point, and capable of controlling combustion finely, while preventing a catalyst metal particle from being poisoned.例文帳に追加

触媒金属粒子の被毒を防止しつつ、λポイントのずれを小さくし、精密な燃焼制御が可能なガスセンサ及びその製造方法を提供。 - 特許庁

To provide a sputtering target which is used for the manufacture of a halftone phase shift mask and a blank and which does not produce particle defects during depositing a film.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク及びブランクの製造に用いるスパッタリングターゲットであって成膜時にパーティクル欠陥を発生させることのないスパッタリングターゲットを提供すること。 - 特許庁

The DAC amplifiers 20, 21 are diagnosed by detecting shift of the charged particle beam irradiation position when application of the same voltage to the electrodes 14a, 14b is instructed.例文帳に追加

電極１４ａ，１４ｂに同じ電圧を印加指示をした場合の荷電粒子ビーム照射位置の移動を検出することでＤＡＣアンプ２０，２１の診断を行う。 - 特許庁

To solve such a failure problem as shift of processing point position, focusing shift, and image quality deterioration accompanying degradation of beam resolution or the like, caused by inflow of reactive gas into an optical lens barrel, in a charged particle beam processing device.例文帳に追加

本発明は、荷電粒子線加工装置において、反応性ガスが光学鏡筒内に流入することによって発生する、加工点位置ずれ，フォーカスずれ、及びビーム分解能低下に伴う像質劣化などの不良問題を解決することに関する。 - 特許庁