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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > pattern measurementsの意味・解説 

pattern measurementsとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「pattern measurements」の意味

pattern measurements

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「pattern measurements」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 29



例文

Measurements of the perimeter of the resist pattern is obtained.例文帳に追加

レジストパターンの周囲長を測定値する。 - 特許庁

Especially a single data pattern is selected in asymmetric measurements, and a random pattern is selected in jitter measurements in use.例文帳に追加

特にアシンメトリ測定については単一データパターン、ジッター測定についてはランダムパターンとして使い分ける。 - 特許庁

To reduce measurement errors caused by principles of pattern-projection-type three-dimensional shape measurements.例文帳に追加

パターン投影型の三次形状測定の原理に起因する測定誤差を抑えること。 - 特許庁

The phase error of this pattern can be determined to high accuracy by aerial image measurements.例文帳に追加

このパターンの位相誤差は、空中像測定によって高精度に決定することができる。 - 特許庁

To enhance pattern measurements and the like that are the processing capabilities of wafers by permitting the pattern measurements and observation of wafers of several kinds of wafer sizes by use of one kind of wafer holder.例文帳に追加

一種類のウェーハホールダで、ウェーハサイズが数種類のウェーハのパターン計測、及び観察を可能にし、ウェーハの処理能力であるパターンの計測等の向上を図ることにある。 - 特許庁

In the case of conducting measurements by phase shift method through the use of one period of a sinusoidal wave pattern or more, a first pattern, which is a sinusoidal wave pattern, and a second pattern for indicating the location of the phase boundary of the sinusoidal wave pattern are used together.例文帳に追加

1周期以上の正弦波パターンを使用して位相シフト法による計測を行う場合において、正弦波パターンである第1パターンと、その正弦波パターンの位相境界の位置を示すための第2パターンとを併用する。 - 特許庁

例文

To conduct taking of measurements (making a pattern) of a measurement-taking part of a person subjected to the taking of the measurements in a short time, by an extremely simple procedure, without requiring use of an apparatus, such as a CAD, which increases costs.例文帳に追加

CADなどのコストのかかる装置を使用する必要がなく、極めて簡単な方法で、かつ短時間に、採寸対象者の採寸部位の採寸(型取り)を行う。 - 特許庁

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「pattern measurements」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 29



例文

To provide a circuit pattern defect inspection method of substrate capable of reducing the risk of wrong measurements and reducing the measurement time.例文帳に追加

誤測定の可能性を減少させ、測定時間を節減する基板の回路パターン欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

An object 14 on which displacement measurements are to be performed is provided with a visible pattern 16, and the visible pattern 16 is projected onto a plurality of optical sensors 12 as an image pattern formed of changes in systematic radiant intensity.例文帳に追加

変位測定を行うべき物体14は可視パターン16を備えており、該可視パターンは系統的放射強度の変化よりなる画像パターンとして複数の光センサ12上に投影される。 - 特許庁

To provide test equipment, testing method and program which can reduce dependency on measurements such as leak current for logic pattern of test vector in testing of devices under test.例文帳に追加

被試験デバイスの試験において、試験ベクタの論理パターンに対する、リーク電流等の測定値の依存性を低減する。 - 特許庁

The wireless network downlink measurements obtained are then used in conjunction with a database for pattern matching or contour matching.例文帳に追加

そして、得られたワイヤレスネットワークダウンリンク測定値は、パターンマッチングまたは輪郭マッチングのために、データベースとの組合せで使用される。 - 特許庁

Because the tracks in different parts of the pattern, such as the first and second areas, are parallel to each other, improved measurements are possible.例文帳に追加

第1および第2の領域のようなパターンの異なる部分においてトラックは互いに平行なのでより良い測定が可能である。 - 特許庁

To provide a method of measurements of an even function component and an odd function component of aberration even if a pattern is not selected in use, and furthermore, a measurement of aberration near optical axis.例文帳に追加

パターンを使い分けなくとも収差の偶関数成分と奇関数成分を測定でき、更に光軸付近の収差も測定できる。 - 特許庁

To reduce a processing load required for processing the synthesis of results of three-dimensional shape measurements acquired by measuring the same object by changing the projecting direction of pattern light.例文帳に追加

同一の対象物についてパターン光の投影方向を変えて計測した3次元形状の計測結果を合成する処理の処理負荷を軽減する。 - 特許庁

例文

To provide a three-dimensional measuring apparatus capable of quickly performing three-dimensional measurements and inspections while maintaining high measuring accuracy, and of obtaining pattern data comparatively easily.例文帳に追加

高い計測精度を維持しながらスピーディに三次元計測、検査を行うこと、パターンデータを比較的容易に取得することの可能な三次元計測装置を提供する。 - 特許庁

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