rapid thermal processとは 意味・読み方・使い方

The present invention provides an apparatus and a method for achieving uniform heating to a substrate during a rapid thermal process.例文帳に追加

本発明は、急速加熱処理中に基板に対する均一な加熱を達成する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly quenchable Fe-based rare earth magnetic material that is manufactured by a rapid solidification process and exhibits good magnetic characteristics and thermal stability.例文帳に追加

急速凝固プロセスにより製造され、良好な磁気特性と熱安定性を示す、高度に急冷可能なFe系希土磁性材料を提供する。 - 特許庁

To provide a rapid thermal processing reactor which can handle wafers of multiple sizes and can heat them to an almost uniform temperature in the process.例文帳に追加

複数のサイズのウエハに対応でき、処理過程で概ね均一な温度に過熱できる、高速熱処理反応炉を提供する。 - 特許庁

To provide a solid state imaging device whose element pattern is finer, and to provide a manufacturing method of the solid state imaging device which employs a furnace annealing process with no nitriding process of a gate oxide film nor rapid thermal process in a main thermal treating process.例文帳に追加

素子パターンがより微細な固体撮像装置と、ゲート酸化膜の窒化処理と、主要熱処理工程における急速熱処理とを行うことなく、ファーネスアニール処理を採用する固体撮像装置の製造方法とを実現する。 - 特許庁

To provide a production process for safely producing a water-oxygen mixture by subjecting a hydrogen peroxide aqueous solution to safe thermal decomposition while avoiding any rapid temperature rise, and also to provide a supercritical hydroxylation treatment process incorporating the production process.例文帳に追加

過酸化水素水を急激な温度上昇を回避しながら安全に熱分解して水と酸素との混合物を製造する方法及びそれを組込んだ超臨界水酸化処理方法を提供する。 - 特許庁

To shorten a waiting time resulting from a substrate cooling process in vacuum, and to prevent a film peeling caused by thermal strain generating in the rapid cooling process.例文帳に追加

真空中において基板の冷却工程により生じる大幅な待ち時間を短縮し、急な冷却工程中に発生する熱歪みからの膜はがれを防止することである。 - 特許庁

To provide a silicon carbide material which has low optical transparency and high heat transfer properties, and can be preferably used for a heat treatment process in a semiconductor manufacturing field, and particularly for a rapid thermal process.例文帳に追加

光透過性が低く、かつ、伝熱性が高く、半導体製造等における熱処理工程、特に、急速加熱・急速冷却熱処理に好適に用いることができる炭化ケイ素材料を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SILICON WAFER INCLUDING Ar/NH3 RAPID THERMAL ANNEALING PROCESS, SILICON WAFER MANUFACTURED THEREBY, CZOCHRALSKI PULLER FOR MANUFACTURING MONOCRYSTALLINE SILICON INGOT例文帳に追加

Ａｒ／ＮＨ３急速熱的アニーリング工程を含むシリコンウェーハの製造方法、これにより製造されたシリコンウェーハ及び単結晶シリコンインゴットの製造のためのチョクラルスキープーラ - 特許庁