reflective markとは 意味・読み方・使い方

The identification mark comprises a polyimide film 2 formed on the layer upper than the reflective pattern 21, and is provided with a reflection suppressing pattern 22 which, in top view, covers the region adjoining the peripheral part of the reflective pattern 21.例文帳に追加

また、本認識マークは、反射パターン２１よりも上層に形成されたポリイミド膜２からなり、平面視において反射パターン２１の周縁部に隣接する領域を被覆する反射抑制パターン２２を備える。 - 特許庁

The authentication device 3 collates the reflective spectrum characteristics calculated on the reading device 2 with canonical reflective spectrum characteristics of the verification mark measured in advance, so as to determine whether or not the authentication medium whose verification mark read on the reading device 2 is the canonical authentication medium.例文帳に追加

認証装置３は、読取装置２で算出された反射スペクトル特性と、予め測定された照合用マークの正規の反射スペクトル特性とを照合して、読取装置２で照合用マークを読み取った認証媒体が正規の認証媒体であるか否かを判断する。 - 特許庁

It is possible to separate a signal reflecting the crystallinity of the sample and to extract a signal waveform reflecting the shape or the material of the mark by the reflective electron beam signal waveform obtained from the portion where the mark is formed.例文帳に追加

マークが形成されている部分から得られる反射電子信号波形から、試料の結晶性を反映した信号波形を分離して、マーク形状又はマーク材質を反映した信号波形を抽出できる。 - 特許庁

A reading device 2 optically reads a verification mark printed on an authentication medium, detects luminous energy within predetermined plural wavelength bands of reflecting light from the verification mark, calculates reflective spectrum characteristics of the verification mark based on the detected luminous energy of the plural wavelength bands and the spectrum calculation parameters, and transmits information indicating the calculated reflective spectrum characteristics to an authentication device 3.例文帳に追加

読取装置２は、認証媒体に印刷された照合用マークを光学的に読み取り、照合用マークからの反射光の所定の複数の波長帯域における光量を検出し、検出した複数の波長帯域の光量とスペクトル算出用パラメータとを用いて、照合用マークの反射スペクトル特性を算出し、算出した反射スペクトル特性を示す情報を認証装置３に送信する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a reflective type mask, capable of manufacturing the mask by accurately correcting a fine pattern without lowering throughput, without damaging a normal pattern and a reflection layer and without leaving a correction mark, concerning the manufacture of the reflective type mask for EUV exposure.例文帳に追加

ＥＵＶ露光用反射型マスクの製造において、スループットを低下させずに、正常パターンや反射層に損傷を与えず、修正痕を残さずに、微細パターンの修正を精度良く行ってマスクを製造することができる反射型マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A board mark 5 is coaxially and vertically illuminated with a prism pipe 2 of a hollow pipe where the perimeter of one end is formed as a reflective surface 2a, while that of the other end formed as a diffusion surface 2b and light flux from a lighting source 3a incident on the reflective surface is allowed to exit as diffused light from the other end part.例文帳に追加

一端部の周囲が反射面２ａ、他端部の周囲が拡散面２ｂとして形成され、反射面に入射した照明光源３ａからの光束を他端部から拡散光として射出させる中空なパイプ状のプリズムパイプ２を用いて、基板マーク５が同軸落射照明される。 - 特許庁

To provide a product with an alignment mark that enables spatially varying reflective properties by using a pattern of fine lines for different polarization components for radiation of selectable orders of diffraction.例文帳に追加

選択可能な回折次数の放射のために様々な偏光成分に対する微細なラインパターンにより空間的に変化する反射特性を可能にするアライメントマークを製品にもたらすことである。 - 特許庁

The convex surface of the lens A is illuminated with light from the light source 31 so that an image of a concealed mark or the like formed on the convex surface is projected onto the reflective screen 40.例文帳に追加

光源３１からの光によって被検レンズＡの凸面側表面を照射し、この凸面側表面に形成されている隠しマーク等の画像を反射型スクリーン４０に投影する。 - 特許庁