spectral featureとは 意味・読み方・使い方

When the mass spectral data of a large number of micro-regions set within the predetermined two-dimensional range on the sample is acquired (S1), this data is subjected to principal component analysis to extract mass peak feature in the two-dimensional range (S2).例文帳に追加

試料上の所定の二次元範囲内に設定された多数の微小領域の質量スペクトルデータが得られると（Ｓ１）、このデータを主成分分析することにより二次元範囲に特徴的な質量ピークを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

The leveling layer 19 is constituted of a material which has a feature such that the spectral transmission factor is sharply attenuated in a short wavelength region of 420 nm or shorter, and functions not only as an underlaying layer of the microlens 20, but also as a blue spread preventing layer which prevents blue spread.例文帳に追加

平坦化層１９は、４２０ｎｍ以下の短波長域において分光透過率が急峻に減衰する特性を持つ材料で構成され、マイクロレンズ２０の下地層として機能するだけでなく、青にじみを防止する青にじみ防止層としても機能する。 - 特許庁

The spectral shaper is for spectrally modifying an optical property of at least some frequency components of the broadband range of frequency components, such that the broadband range of frequency components is shaped producing a shaped first train of pulses to specifically probe a spectral feature of interest from a sample, and to reduce information from features that are not of object from the sample.例文帳に追加

スペクトル成形器は、広帯域範囲の周波数成分の少なくともいくつかの周波数成分の光学特性をスペクトル的に修正して、前記広帯域範囲の周波数成分を成形し、成形された第１のパルス列を生成して、試料から対象のスペクトル特徴を明確に検査しかつ試料から対象でない特徴から情報を減少させるようにするためのものである。 - 特許庁

Difference parameters set by a parameter setting process 11 for setting difference parameters α, β for noise elimination are changed as necessary by a parameter changing process 12 according to speech power of a frame being object for a spectral difference outputted from a feature extraction part.例文帳に追加

雑音除去のための差分パラメータα、βを設定する差分パラメータ設定工程１１で設定された差分パラメータは、特徴抽出部から出力されるスペクトルの差分の対象となるフレームの音声パワー値に応じて適宜パラメータをパラメータ変更工程１２で変更する。 - 特許庁

To provide a method for acquiring photomask information, for acquiring photomask information that facilitates evaluation of a photomask reflecting on factors by an optical system of an exposure machine and various factors such as spectral characteristics of a light source and developing characteristics of a resist and that facilitates determination of a pattern feature and appropriate determination of a raw material or thickness of a film to be formed in a semitransmitting portion.例文帳に追加

露光機の光学系による要因、光源の分光特性、レジストの現像特性などの諸要因を反映したフォトマスクの評価を可能として、パターン形状の決定、及び、半透過部に形成する膜の素材、または、膜厚の決定が的確に行えるようになされたフォトマスク情報を取得するフォトマスク情報の取得方法を提供する。 - 特許庁

The first feature is described as follows: a surface of the hard disk media having a pattern formed thereon is irradiated with light containing a plurality of wavelengths; each intensity of reflected light detected in each wavelength is corrected with the intensity of the stray light component generated by a detector for detecting the reflected light from the hard disk media; and a spectral reflectance is calculated from the intensity of the corrected reflected light.例文帳に追加

本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。 - 特許庁