thickness methodsとは 意味・読み方・使い方

Subsequently, the thickness of the board 10 is decreased through etching or other methods so that a portion of the joining terminal 24 may be exposed at the backside of the board 10.例文帳に追加

その後、エッチング等により基板１０の厚みを減じて基板１０の裏面側に接続端子２４の一部を露出させる。 - 特許庁

It can be determined whether thickness of the wall 26 gets allowable thickness or not by comparing the dimension with an anticipated value dimension at a section where it is difficult to measure the wall 26 with other methods.例文帳に追加

この寸法を期待値寸法と比較することにより、その他の方法で壁２６を測定するのが困難である場所において、壁２６が許容できる厚さとなっているかどうかを判断することができる。 - 特許庁

To provide a method of estimating a thickness of a hydrate layer, capable of obtaining a more accurate hydrate layer thickness than by conventional methods by performing a reflection survey by means of low and high frequencies and processing the survey results.例文帳に追加

低周波数と高周波数による反射法地震探査を行い、探査結果を処理することにより、従来方法と比較して精度の高いハイドレート層厚を得ることができるハイドレート層の層厚推定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip having a thin thickness and high heat radiating performance which is suitable for small, light and thin electronic equipment, and to provide a semiconductor device and their manufacturing methods.例文帳に追加

小型、軽量、薄型の電子機器に用いて好適な厚みが薄くて高放熱性を備えた半導体チップ、半導体装置及びそれらの製造方法を得ること - 特許庁

To provide a manufacturing method of an oriented zeolite film which is easier than conventional methods and well controls the orientation as well as other fine structures such as compactness and film thickness.例文帳に追加

配向性だけでなく、緻密性や膜厚といった他の微細な構造についても良好に制御することができ、従来よりも容易なゼオライト配向膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To use a thickness measuring mechanism in either using form when there are two using forms of direct holding and indirect holding in methods of holding a workpiece in a chuck table.例文帳に追加

チャックテーブルへのワークの保持の仕方が直接保持と間接保持の２つの使用形態がある場合、いずれの使用形態でも厚さ測定機構を使用することを可能とする。 - 特許庁

To provide a thin film formation method capable of forming a thin film having a uniform thickness on an adhered substrate including a rotating elliptical body shape even when a film formation method wherein film formation particles come flying only in a specific direction like a film formation method by various kinds of deposition methods or sputtering methods is used.例文帳に追加

各種蒸着法やスパッタリング法による成膜方法のように特定方向からのみ成膜粒子が飛来する成膜方法を用いても、回転楕円体形状を含む被着体基板上に均一な膜厚の薄膜を形成できる薄膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide the subject methods, instrument and devices that can measure a thin film having a thickness of the wavelength of light or less, and to enhance the precision therefor, when the film thickness of the uppermost layer is measured in a sample of a multilayered film structure.例文帳に追加

多層膜構造サンプルの最上層の膜厚を測定する際、光の波長以下の薄い膜の測定を行なえ、その精度の向上を図る膜厚測定方法および装置、薄膜処理方法および装置、並びに半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁