使用可能マスクの英語

半導体デバイスの製作において使用されるリソグラフィ・マスクの製造可能性を計算すること。例文帳に追加

To provide a method for computing manufacturability of a lithographic mask to be used for manufacturing a semiconductor device. - 特許庁

さらにフラッシュランプを使用する際にマスクを使用することにより光の照射された部分のみ結晶化が可能である。例文帳に追加

Furthermore, crystallization is enabled only in a part irradiated with a light by using a mask when the flash lamp is used. - 特許庁

マスクのショップは顧客に適合した検査ツールとして、及び印刷可能な誤り検出ツールとしてそれを使用可能である。例文帳に追加

The shop of the mask is usable as an inspection tool made adaptable to customers and as a printable error inspection tool. - 特許庁

本発明は別の方法では基板に対して平坦にするのが困難なマスクの使用を可能にする。例文帳に追加

This invention realizes the use of masks that would otherwise be difficult to flatten against a substrate. - 特許庁

ハード・マスクにスピンオンされた材料を使用すると、プロセスが単一のツールで実施でき、ＣＶＤハード・マスクが使用される従来技術のパターニング・プロセスで通常使用されない単一の硬化ステップの使用が可能になる。例文帳に追加

By using the material subjected to spin-on processing to the hard mask, a process can be executed by using a single tool, and usage of a single curing step is enhance, which is not normally used in a patterning process of the conventional technique, in which a CVD hard mask is used. - 特許庁

また、払出制御用ＣＰＵ３７１の未使用であるＮＭＩ（マスク不能割込）端子およびＩＮＴ（マスク可能割込）端子はプルアップされている。例文帳に追加

An NMI (nonmaskable interruption) terminal and an INT (maskable interruption) terminal which are not used in the put-out control CPU 371 are pulled-up. - 特許庁

トリム・マスクを使用する必要なしに交互位相シフト・マスクから印刷可能交互位相シフト欠陥をなくす様々な方法を提供すること。例文帳に追加

To provide various methods which eliminate printable alternate phase shift defects from an alternate phase shift mask without the need for using a trim mask. - 特許庁

繰り返し使えるマスクとして使用可能なすだれ状円板及びその製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a cord-shaped disc which can be used as a mask repeatedly and its manufacturing method. - 特許庁