「"etching resist"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

CURABLE COMPOSITION FOR ETCHING RESIST例文帳に追加

エッチングレジスト用硬化型組成物 - 特許庁

PLASMA ETCHING RESIST AND ETCHING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチングレジスト及びエッチング法 - 特許庁

POST BAKING-FREE ETCHING RESIST例文帳に追加

ポストベークフリー用エッチングレジスト - 特許庁

CURING COMPOSITION FOR ETCHING RESIST例文帳に追加

エッチングレジスト用硬化型組成物 - 特許庁

After that, the etching resist 11 is peeled off in a state where the etching resist 11 is sandwiched by a mesh plate 13.例文帳に追加

その後、エッチングレジスト１１をメッシュ板１３で挟持した状態で、エッチングレジスト１１を剥離する。 - 特許庁

An etching resist layer is formed at a specified position of the conductor layer 10b.例文帳に追加

導体層１０ｂの所定の位置にエッチングレジスト層が形成される。 - 特許庁

The etching resist may be not separated so as to serve as a coloring layer.例文帳に追加

エッチングレジストは剥離せずにそのまま着色層としてもよい。 - 特許庁

QUICK-DRYING ETCHING RESIST INK COMPOSITION FOR PRODUCING ELECTRONIC CIRCUIT BOARD, AND PRINTING METHOD例文帳に追加

電子回路基板作製用速乾性インク組成物及び印刷方法 - 特許庁

A wiring etching resist pattern 30 is formed on a metal foil 2, and checking etching resist patterns 31 are formed adjacent to the wiring etching resist pattern 30.例文帳に追加

金属箔２上に配線用エッチングレジストパターン３０が形成され、配線用エッチングレジストパターン３０の近傍に複数の検査用エッチングレジストパターン３１が形成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for mounting the chip comprises the steps of providing an etching resist 3 for covering the copper wiring 2 formed on the surface of the substrate 1; removing the etching resist 3, until the surface of the copper wiring 2 is exposed; etching the copper wiring 2 partway; and exfoliating the etching resist 3.例文帳に追加

基板１表面に形成した銅配線２を覆うエッチングレジスト３を設ける工程と、前記銅配線２表面が露出するまで前記エッチングレジスト３を除去する工程と、前記銅配線２を途中までエッチングする工程と、前記エッチングレジスト３をはく離する工程とを有する。 - 特許庁

INK FOR ETCHING RESIST AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

エッチングレジスト用インクおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

ETCHING RESIST PRECURSOR COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING WIRING BOARD USING THE SAME, AND WIRING BOARD例文帳に追加

エッチングレジスト前駆体組成物及びそれを用いた配線基板の製造方法、並びに配線基板 - 特許庁

IMPROVED METHOD OF STRIPPING HOT MELT ETCHING RESIST FROM SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体上からホットメルトエッチングレジストを剥離する改良された方法 - 特許庁

Then an etching resist pattern 22a is formed by exposing and developing the resist film 22.例文帳に追加

次に、レジスト膜２２を露光および現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成する。 - 特許庁

The milling process is performed after an etching resist thin film layer 5 is formed on a surface of the metal layer.例文帳に追加

前記ミリング加工は金属層表面にエッチングレジスト薄膜層５を施した後に行なう。 - 特許庁

A conductor pattern is formed by removing the etching resist pattern 22a.例文帳に追加

エッチングレジストパターン２２ａを除去することにより導体パターンを形成する。 - 特許庁

QUICK-DRYING ETCHING RESIST INK COMPOSITION FOR MANUFACTURING ELECTRONIC CIRCUIT BOARD, AND PRINTING METHOD例文帳に追加

電子回路基板作製用速乾性エッチングレジストインク組成物及び印刷方法 - 特許庁

To reduce processes of photolithography for forming an etching resist.例文帳に追加

本発明は、エッチングレジストを形成するためのフォトリソグラフィの工程を減らすことを目的とする。 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANO-IMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST AND PERMANENT FILM例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST, AND PERMANENT FILM例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁

ETCHING RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD USING THE SAME, AND WATER-SOLUBLE POLYMER FOR ETCHING RESIST COMPOSITION例文帳に追加

エッチングレジスト組成物、これを用いたパターン形成方法及び配線基板の製造方法およびエッチングレジスト組成物用水溶性重合体 - 特許庁

Then, the etching resist 22 are exposed and sensitized, whereby a hole having a diameter of 140 μm is bored in the etching resist 22 at a point where the through-hole 14 of a metal mask 13 is to be provided.例文帳に追加

次に、露光・感光を行なって、メタルマスク１３の透孔１４の形成予定箇所のエッチングレジスト２２に、直径１４０μｍの穴を開ける。 - 特許庁

The inkjet ink composition for an etching resist includes a polymerizable monomer polymerizable by active energy beams.例文帳に追加

活性エネルギー線により重合可能な重合性モノマーを含むエッチングレジスト用インクジェットインキ組成物。 - 特許庁

The hot melt etching resist is selectively applied to an anti-reflective coating or a selective emitter on a semiconductor wafer.例文帳に追加

ホットメルトエッチングレジストが、半導体ウェハ上の反射防止コーティングもしくは選択的エミッタに選択的に適用される。 - 特許庁

The hot melt etching resist is then stripped from the semiconductor using an alkaline stripper which does not compromise the electrical integrity of the semiconductor.例文帳に追加

このホットメルトエッチングレジストは次いで、半導体の電気的一体性を悪化させないアルカリ剥離剤を用いて半導体から剥離される。 - 特許庁

The region of the conductor layer 30 exposed from the etching resist pattern 22a is removed by etching.例文帳に追加

エッチングレジストパターン２２ａから露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去する。 - 特許庁

When the etching resist layer 21R' is stripped subsequently, a through hole 9 is formed in the metal plate 4.例文帳に追加

その後、エッチングレジスト層２１Ｒ’を剥離すると、金属板４には、スルーホール９が形成される。 - 特許庁

After the mask member are removed, the metal foil etching process is conducted with the electrolytic plating surface-layer NM as an etching resist.例文帳に追加

マスク材を除去した後に、電解メッキ表面層ＮＭをエッチングレジストとした、金属箔のエッチング処理を行う。 - 特許庁

A photosensitive epoxy resin etching resist 22 25 μm thick is pasted on the upper and lower surfaces of a stainless steel plate 21 40 μm thick.例文帳に追加

厚さ４０μｍのステンレス板２１に、厚さ２５μｍの感光性エポキシ樹脂によるエッチングレジスト２２を上下両面に貼り付ける。 - 特許庁

Then processing the switching active element protection film by dry etching using patterned etching resist 10 forms a contact part 6.例文帳に追加

その後、パターニングされたエッチングレジスト１０を用いてスイッチング能動素子保護膜７をドライエッチングしコンタクト部位６を形成する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING ETCHING RESIST PATTERN WHEN CIRCUIT PATTERN IS FORMED ON PRINTED BOARD例文帳に追加

プリント基板上の回路パターンを形成する際のエッチングレジストパターンを形成する方法および装置 - 特許庁

The inspecting etching resist patterns 31 are each formed of a pair of inspecting resist patterns 31a and 31b.例文帳に追加

検査用エッチングレジストパターン３１は、１対の検査用レジストパターン３１ａ，３１ｂからなる。 - 特許庁

The photosensitive layer is printed and developed to make holes, and the insulation layer is etched using the developed layer as an etching resist to make the holes.例文帳に追加

感光層を焼付し現像で穴加工を施しこれをエッチングレジストとして絶縁層をエッチングして穴を形成する。 - 特許庁

A size of the etching resist 19a on the via hole 16 is formed to be smaller than a size of a desired land part 20 formed of the copper foil 12.例文帳に追加

ビアホール１６上のエッチングレジスト１９ａの大きさを、銅箔１２による所望のランド部２０の大きさよりも小さく形成する。 - 特許庁

An etching resist 28 having a thick first part 24 and a thin second part 26 is formed on a metal layer 22.例文帳に追加

金属層２２上に厚い第１部分２４と薄い第２部分２６を有するエッチングレジスト２８を形成する。 - 特許庁

In the step (E), a part of the plug terminal formation part except the plating lead is coated with etching resist.例文帳に追加

（Ｅ）接栓端子形成部において、前記めっきリードを除く箇所をエッチングレジストで被覆する工程。 - 特許庁

The conductive paste 18 in the via hole 16 is pressed to be formed in a rivet shape, and an etching resist 19a is provided on a surface of the board.例文帳に追加

ビアホール１６の導電性ペースト１８を押圧してリベット状に形成し、表面にエッチングレジスト１９ａを設ける。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent resolution and adhesiveness as a resist material of an etching resist, a plating resist or the like.例文帳に追加

エッチングレジスト又はめっきレジスト等のレジスト材料として優れた解像度及び密着性を有する感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive type etching resist composition excellent in operation stability and having high sensitivity and good conductor image forming property.例文帳に追加

稼働安定性に優れ、高感度、さらには導体画像生成良好なポジ型エッチングレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method further includes the steps of then, removing the plated resist layer 3, thereafter forming an etching resist layer 7 of the thickness capable of coating the bump 4 and the register mark 5, aligning and exposure developing a predetermined wiring pattern on the etching resist layer 7 to the register mark 5, and etching to form circuit wiring 9.例文帳に追加

次いで、めっきレジスト層３を除去した後、バンプ４および位置合わせ用ターゲット５を被覆できる厚さのエッチングレジスト層７を形成し、エッチングレジスト層７に所定の配線パターンを位置合わせ用ターゲット５に対して位置合わせをして露光現像し、エッチングして回路配線９を形成する。 - 特許庁

A step of peeling the etching resist having been used for etching the magnetic layer includes: a step of radiating excimer VUV laser under a reduced pressure onto the etching resist on the magnetic layer or a protection layer; and a step of cleaning and removing the resist remaining on the magnetic layer or the protection layer by soaking the resist in a release agent solution.例文帳に追加

磁性層のエッチングに用いたエッチングレジストの剥離工程が、磁性層または保護層上のエッチングレジストに、減圧下にエキシマＶＵＶレーザを照射する工程、および磁性層または保護層上に残存するレジストをレジスト剥離剤溶液に浸漬して洗浄除去する工程、からなることを特徴とする。 - 特許庁

The etching method of a conductor layer comprises a process for forming a conductor layer 22 on an insulation substrate 21, a process for forming metallic etching resist 23 on the formed conductor layer 22, and a process for etching the conductor layer 22 by a spray method for spraying etchant to the conductor layer 22 wherein the metallic etching resist 23 is formed.例文帳に追加

1)絶縁基板上に導体層を形成する工程、2)形成された前記導体層上に金属製エッチングレジストを形成する工程、および、3)前記金属製エッチングレジストが形成された導体層にエッチング液を噴霧するスプレー法により前記導体層をエッチングする工程を含むことを特徴とする導体層のエッチング方法である。 - 特許庁

Immediately after printing on an article (a copper clad multilayer board or an electronic circuit board) using a nonaqueous etching resist ink composition containing a water soluble solvent and a water insoluble solvent where a printed part dries up quickly through contact with water, the article is touched to water thus forming an etching resist film or a marking.例文帳に追加

水溶解性の溶剤および水難溶性の樹脂成分を含み、印刷直後に水と接触することにより、印刷部分が直ちに乾燥する非水系エッチングレジストインク組成物を使用し、被印刷物（銅張積層板や電子回路基板）に印刷直後に、水と接触させてエッチングレジスト皮膜やマーキングを形成させる。 - 特許庁

After fixing/hardening, a digitally applied etching-resist pattern is used in chemical etching liquid and copper on the surface of the dielectric material isetched.例文帳に追加

定着／硬化の後、該デジタル的に適用されたエッチング−レジストパターンを化学エッチング液中で用い、該誘電材料の表面上の銅をエッチングする。 - 特許庁

An exposing exposed area from a dry etching resist 54 includes an area for forming a groove 36 and an area for forming the pair of notches 22 in the pair of vibration arms 18.例文帳に追加

ドライエッチングレジスト５４からの露出領域は、一対の振動腕１８に溝３６を形成するための領域及び一対の切り込み２２を形成するための領域を含む。 - 特許庁