「"light-exposure"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

LIGHT EXPOSURE APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

露光装置および画像形成装置 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE HEAD AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

露光ヘッド、画像形成装置 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING IT例文帳に追加

露光装置およびその製造方法 - 特許庁

CHOCOLATE FOR LIGHT-EXPOSURE FOOD例文帳に追加

曝光食品用チョコレート類 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE DEVICE FOR COLOR CATHODE RAY TUBE例文帳に追加

カラー陰極線管用露光装置 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE SYSTEM AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

露光装置及び画像形成装置 - 特許庁

NEAR-FIELD LIGHT EXPOSURE DEVICE AND PHOTOMASK FOR NEAR-FIELD LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

近接場光露光装置および近接場光露光用フォトマスク - 特許庁

LIGHT EXPOSURE DOSE DETECTOR AND LIGHT EXPOSURE DOSE WARNING DEVICE USING IT例文帳に追加

光照射量検出装置及びそれを用いた光照射量警告装置 - 特許庁

To improve the uniformity of light exposure on a substrate after the light exposure.例文帳に追加

露光後の基板上の露光量均一性を良好にする。 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE HEAD, METHOD FOR CONTROLLING LIGHT EXPOSURE HEAD, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

露光ヘッド、露光ヘッドの制御方法、画像形成装置 - 特許庁

LIGHT SOURCE DEVICE FOR LIGHT EXPOSURE AND LIGHT EXPOSURE DEVICE OF COLOR PICTURE TUBE例文帳に追加

露光用光源装置及びカラー受像管の露光装置 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE HEAD, METHOD FOR CONTROLLING LIGHT EXPOSURE HEAD AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

露光ヘッド、露光ヘッドの制御方法、画像形成装置 - 特許庁

MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE, MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極限紫外線露光用マスク、極限紫外線露光用マスクブランク、およびパターン転写方法 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE CALCULATING METHOD AND MEDIUM WITH LIGHT EXPOSURE CALCULATING PROGRAM RECORDED例文帳に追加

露光量算出方法及び露光量算出プログラムを記録した媒体 - 特許庁

a method of measuring the correct light exposure for a camera, called TTL metering 例文帳に追加

TTL測光という,カメラの適正露光の測定方式 - EDR日英対訳辞書

PROJECTION LIGHT EXPOSURE FACILITY PROVIDED WITH PLURAL PROJECTION OBJECTIVE LENSES例文帳に追加

複数の投影対物レンズを備えた投影露光装置 - 特許庁

A semiconductor wafer is exposed by 1/N of a required light exposure.例文帳に追加

半導体ウエハを必要露光量の１／Ｎで露光する。 - 特許庁

HEAT DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR LASER LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

レーザー光露光用熱現像感光材料 - 特許庁

EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND MASK FOR LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

露光装置及び方法並びに光露光用マスク - 特許庁

PRINT HEAD AND METHOD OF CORRECTING QUANTITY OF LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

プリントヘッド及び露光量補正方法 - 特許庁

MASK, POLARIZED LIGHT EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL APPARATUS例文帳に追加

マスク、偏光露光装置、液晶装置の製造方法 - 特許庁

MASK FOR NEAR FIELD LIGHT EXPOSURE AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

近接場光露光用マスクおよびその作製方法 - 特許庁

NEARFIELD LIGHT EXPOSURE METHOD BY MASK MULTIPLE EXPOSURE例文帳に追加

マスク多重露光による近接場光露光方法 - 特許庁

All pixels of a pixel array are reset simultaneously to start light exposure and kept in a state that an overflow path is opened during light exposure.例文帳に追加

画素アレイ部の全画素を同時にリセットして露光を開始し、露光期間では前記オーバーフローパスを開いた状態に保つ。 - 特許庁

To provide an optical print head capable of performing light exposure by each light emitting element with a required amount of light exposure.例文帳に追加

各発光素子による露光を所望の露光量で行うことができる光プリントヘッドを提供する。 - 特許庁

MASK FOR EVANESCENT LIGHT EXPOSURE, EVANESCENT LIGHT EXPOSURE DEVICE, PRODUCTION OF DEVICE AND PRODUCTION OF THE MASK例文帳に追加

エバネッセント光露光用マスク、エバネッセント光露光装置、デバイスの製造方法および前記エバネッセント光露光用マスクの製造方法 - 特許庁

To identify a flash light exposure area and a non flash light exposure area at the time of flash (or strobe) photographing.例文帳に追加

フラッシュ（あるいはストロボ）撮影時にフラッシュ光照射領域と非照射領域を識別する。 - 特許庁

SYNTHETIC QUARTZ GLASS MEMBER AND ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

合成石英ガラス部材及びそれを用いた紫外線露光装置 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE例文帳に追加

極端紫外光露光装置および極端紫外光光源装置 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE MASK AND BLANK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

RETICLE, METHOD FOR MONITORING EXPOSURE LIGHT, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レチクル、露光モニタ方法、露光方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

UV LIGHT EXPOSURE FOR FUNCTIONALIZATION AND HYDROPHOBIZATION OF PURE SILICA ZEOLITE例文帳に追加

純粋シリカゼオライトを機能化及び疎水化するためのＵＶ光照射 - 特許庁

METHOD FOR MONITORING LIGHT EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光量モニタ方法及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

SCANNING PROJECTING LIGHT EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT例文帳に追加

走査型投影露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法 - 特許庁

The light exposure parameter deciding device 100 repeats change of the light exposure parameter, and execution of the lithography simulation using the changed light exposure parameter until the evaluation value falls in a predetermined tolerance, and allocates the light exposure parameter to the region.例文帳に追加

露光パラメータ決定装置１００は、前記評価値が所定の許容範囲に含まれるまで、露光パラメータの変更及び変更後の露光パラメータを用いたリソグラフィシミュレーションの実行を繰り返し、当該領域に露光パラメータを割り当てる。 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE WITH NEAR-FIELD LIGHT, EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

近接場光露光用マスク、露光装置および露光方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION-TYPE PHASE SHIFT MASK FOR EUV LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

ＥＵＶ露光用反射型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

DRIVE APPARATUS, LIGHT EXPOSURE DEVICE USING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING THE DEVICE例文帳に追加

駆動装置、それを用いた露光装置、デバイスの製造方法 - 特許庁

The density adjustment data is the number of reference clocks corresponding to the light exposure.例文帳に追加

濃度調整データは露光時間に応じた基準クロック数である。 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

露光マスクおよびそれを用いた半導体装置の作製方法 - 特許庁

To provide a light source device for light exposure wherein the necessity to make a new correcting lens or a douser at respective kinds of color picture tube is reduced to the minimum in a light exposure device used for forming a fluorescent light face of a color picture tube, and in the light source device for the light exposure to form irradiated light of this light exposure device.例文帳に追加

カラー受像管の蛍光面形成に用いられる露光装置、及びこの露光装置の照射光を形成する露光用光源装置において、カラー受像管の種類毎に新たな補正レンズ、或いは遮光板を作成する必要を最小限にした露光用光源装置を提供する。 - 特許庁

When light exposure amount distribution on a substrate (W) after scanning and light exposure is inclined in the nonscanning direction for example, characteristics of the illuminance distribution to cancel the incllination of the light exposure amount distribution are set in the illuminance distribution control means.例文帳に追加

走査露光後の基板（Ｗ）上での露光量分布が例えば非走査方向に傾斜しているような場合に、その露光量分布の傾斜を相殺するような照度分布の特性をその照度分布制御手段（４）で設定する。 - 特許庁

When a signal of larger light exposure is saturated, the synthesizing circuit 5 amplifies a signal of smaller light exposure read from a pixel adjacent to a pixel from which the signal of larger light exposure is read.例文帳に追加

合成回路５は、露光量の多い方の信号が飽和した場合に、その信号が読み出された画素に隣接した画素から読み出された、露光量の少ない方の信号を増幅する。 - 特許庁

To provide a light exposure parameter deciding device capable of improving size uniformity of a pattern, a light exposure system, a check system, and a light exposure parameter deciding method.例文帳に追加

パターンの寸法均一性を向上できる露光パラメータ決定装置、露光システム、検査システム、及び露光パラメータ決定方法を提供する。 - 特許庁

In this electrode manufacturing process, the desired electrode pattern can be obtained by applying a first light exposure with the use of a lamp whose source is cost-effective diffusion light, and then applying a second light exposure with larger amount of light than the first light exposure.例文帳に追加

本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第１の露光と第１の露光よりも大きい露光量をもった第２の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。 - 特許庁