「"light-exposure"」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

When it is irradiated with coherent exposure light, exposure light intensity can be controlled by changing the thickness and refractive index of the phase displacement layer.例文帳に追加

これにより、コヒーレントな露光光を照射したとき、位相変位層の厚み、屈折率を変更することにより露光強度を制御することが出来る。 - 特許庁

A region OLA for positive overlap is provided to a light exposure pattern PTN, including an integrated circuit chip region.例文帳に追加

集積回路チップ領域ＣＡを含む露光パターンＰＴＮに対して積極的なオーバーラップ用領域ＯＬＡが設けられる。 - 特許庁

Thereafter, when an image forming job is received (YES for S605), the image forming job is performed using the adopted light exposure system (S606).例文帳に追加

その後、画像形成ジョブを受け付けると（Ｓ６０５：ＹＥＳ）、採用した露光方式を用いて画像形成ジョブを実行する（Ｓ６０６）。 - 特許庁

To reduce the depth dimension of a coating/developing system that forms a resist film on a substrate and performs a developing process to the substrate subjected to light exposure.例文帳に追加

基板にレジスト膜を形成し、露光後の基板に対して現像処理を行う塗布、現像装置において、装置の奥行き寸法を小さく抑えること。 - 特許庁

To prevent pattern defects from occurring in extreme ultraviolet light exposure and to form a fine pattern having a good shape.例文帳に追加

極紫外線露光におけるパターン不良を防止して、良好な形状を有する微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁

Then, light exposure alignment to the GaN-based epitaxial layer is carried out referring to the second alignment mark 120.例文帳に追加

続いて、第２のアライメントマーク１２０を参照しながら、ＧａＮ系エピタキシャル層に対する露光の位置合わせを行う。 - 特許庁

To eliminate an effect on a wafer caused by a flare or a 3D effect, and to detect a light exposure on the wafer with high accuracy.例文帳に追加

ウエハ上におけるフレアや３Ｄ効果による影響を無くすことができ、ウエハ上の露光量を精度良く検出する。 - 特許庁

To align a mask with a board at high precision to match a new pattern to a base pattern for precise light exposure.例文帳に追加

マスクと基板との位置合わせを精度良く行って、新たなパターンを下地パターンに合わせて精度良く露光する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which satisfies not only fundamental characteristics such as sensitivity, resolution or light exposure margin, but also LWR (line width roughness) performance.例文帳に追加

感度、解像性、露光量マージン等の基本特性だけでなく、ＬＷＲ性能をも満足する感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink jet recording sheet, which has improved lustrous properties and color developing properties, little splitting at folding and favorable light exposure properties and mottling properties.例文帳に追加

光沢性、発色性が改善され、折割れが少なく、光耐久性、まだら性の良好なインクジェット記録用シートを提供することにある。 - 特許庁

To decide light exposure with which an object is satisfactorily printed on photographic paper, even when there is deviation in density distribution of a negative film.例文帳に追加

ネガフィルムに濃度分布の偏りがある場合であっても、被写体が印画紙に良好にプリントされる露光量を決定する。 - 特許庁

Based on the relevant amount of exposure correction, the light exposure to the substrate transferred through the each transferring path is calculated.例文帳に追加

当該露光補正量に基づいて、各搬送経路を搬送される基板に対する露光量が算出される。 - 特許庁

The dummy pattern is a through hole, etc., and drawn with light exposure of an extent where resist is not exposed.例文帳に追加

ダミーパターンはスルーホールなどであり、レジストが露光されない程度の露光量によって描画される。 - 特許庁

To improve temporal stability and pattern forming property after preparation and to suppress variation in the line width of a pattern due to variation in light exposure.例文帳に追加

調製後の経時安定性及びパターン形成性を向上し、露光量変動によるパターンの線幅変動を抑制する。 - 特許庁

Even in the case where ambient illumination is suddenly changed, an image can be displayed at appropriate light exposure.例文帳に追加

従って、周囲の照度が急変した場合においても、適切な露光量で画像表示することができる。 - 特許庁

To provide an anti-skin damage agent capable of inhibiting or reducing the skin damage caused by an ultraviolet light exposure, and a skin lotion.例文帳に追加

紫外線暴露に起因する皮膚障害を抑制又は軽減し得る抗皮膚障害剤及び皮膚外用剤を提供する。 - 特許庁

A controller 151 controls light exposure based on the intensity of EUV light detected by the EUV light intensity detector 202.例文帳に追加

制御装置１５１は、ＥＵＶ光強度検出器２０２によって検出されたＥＵＶ光の光強度に基づいて露光量を制御する。 - 特許庁

A storage space part S for storing the paper P temporarily is provided on the downstream side of a light exposure engine 7 for scanning and exposing the paper P to light on the paper P.例文帳に追加

ペーパーＰ上に走査露光する露光エンジン７の下流側に、それを一時的に収容（貯留）する収容空間部Ｓを設ける。 - 特許庁

To optimize light exposure when tarnish occurs in a reticle without preparing a reticle inspection device separately.例文帳に追加

レチクル検査装置を別途用意することなく、レチクルに曇りが発生した時の露光量を適正化する。 - 特許庁

The linear parts 52 are subjected to electron beam transfer exposure, while the corners parts 51 are subjected to light exposure by ultraviolet radiation DUV.例文帳に追加

そして、コーナー部５１を紫外光ＤＵＶで光露光する一方、直線部５２を電子線転写露光する。 - 特許庁

To provide a defect classifying device capable of highly accurately classifying even a defect due to continuous light exposure.例文帳に追加

連続する露光機起因の欠陥に対しても精度の高い欠陥分類が可能な欠陥分類装置を提供する。 - 特許庁

To expose light with an optimum light exposure amount in the early stage, even when the fluctuation of a substrate, flickering of an aligner, or the like occur.例文帳に追加

下地の変動や露光装置の揺らぎ等が生じた場合でも、早期に最適露光量で露光を行なう。 - 特許庁

In this case, a light projection direction matches a predetermined direction at the intermediate time point of the starting time point and the end time point of the light exposure.例文帳に追加

この場合、露光の開始時点と終了時点との中間の時点で、投光方向が所定の方向と一致する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, where improvement is so made that performance of a connecting part for a light exposure part and an electron beam exposure part can be made to stabilize.例文帳に追加

光露光部と電子ビーム露光部の接続部の性能を安定させることのできるよう改良を加えたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the electronic camera can properly correct the sensitivity at main light emission (flash light emission) and prevent the excess/deficiency of ordinary light exposure.例文帳に追加

これにより、本発光（閃光発光）時の感度補正を適切に行うと同時に、定常光露出の過不足を防止できる。 - 特許庁

A positive photo-resist, for example, is coated on an Mo film 12, and back light exposure from a glass substrate 1 side is carried out under masking with a bottom gate electrode 6.例文帳に追加

Ｍｏ膜１２上に例えばポジ型のフォトレジストを塗布し、ガラス基板１側から、ボトムゲート電極６をマスクとして背面露光する。 - 特許庁

To provide a plastic oil-and-fat composition comprising butter-derived oil and fat having light-exposure resistance, a bakery food product using the composition, and dough for the bakery food product.例文帳に追加

本発明の目的は、曝光耐性の有するバター由来の油脂及びこれを用いたベーカリー食品またはその生地に関するものである。 - 特許庁

OPTICAL-ENERGY INSPECTION DEVICE OF PROJECTED LIGHT, EXPOSURE-TERM ADJUSTING SYSTEM WITH SAME, EXPOSURE-TERM INSPECTION METHOD AND SEMICONDUCTOR-ELEMENT MAKING METHOD例文帳に追加

照射光の光エネルギー検査装置、これをもつ露光条件調節システム、露光条件検査方法、及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

To provide an optical film which has excellent mechanical characteristics and excellent thermal characteristics such as a high Tg and is easily not yellowed by light exposure.例文帳に追加

優れた機械特性と高いＴｇのような熱特性を有し、露光により容易に黄変しない光学フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a mask which can be arranged in a small space and has polarized light separation function, to provide a polarized light exposure device, and a method for manufacturing liquid crystal apparatus.例文帳に追加

小さなスペースに配置可能な、偏光分離機能を有するマスク、偏光露光装置、及び液晶装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

LASER DEVICE, LIGHT IRRADIATION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR GENERATING LIGHT, METHOD FOR IRRADIATING LIGHT, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

レーザ装置、光照射装置及び露光装置、並びに光生成方法、光照射方法、露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

To prepare a thermal transfer sheet, in which the sensitivity and resolution of a recorded image are improved and which has fluorescent colors with reduced hue change before and after a light exposure.例文帳に追加

記録画像の感度や解像度が向上され、曝光前後の色相変動が低減された、蛍光色を有する熱転写シートを提供すること。 - 特許庁

To prevent, using a simple arrangement reduction of alignment accuracy caused by heat and adverse influences, such as deterioration of an imaging performance, generated by light exposure.例文帳に追加

露光光に起因して発生する熱により生じるアライメント精度の低下、結像性能の劣化等の悪影響を、簡便な構成により防止する。 - 特許庁

When an operation mode is set to a line drawing image photography mode, a microcomputer 117 obtains imaged data brighter than appropriate light exposure and imaged data darker than the appropriate light exposure by continuously operating a shutter diaphragm 103 and an imaging device 106.例文帳に追加

動作モードが線画画像用撮影モードに設定された場合に、マイクロコンピュータ１１７は、シャッタ絞り１０３、撮像素子１０６を連続動作させて適正露光量よりも明るい撮像データと適正露光量よりも暗い撮像データとを得る。 - 特許庁

A deceleration plan calculation unit 33 calculates a lot progress plan that a lot progress plan for a non-processable lot with the light exposure process therefor expected not to be completed before the predetermined time, up to the light exposure process, is progressed in low priority to an existing lot progress plan set for the lot.例文帳に追加

減速計画算出部３３は、上記所定時刻までに上記露光工程が未完了の予定である処理不可能ロットの、上記露光工程までのロット進行計画を、当該ロットに対して設定されている既存のロット進行計画に比べて劣後進行させたロット進行計画を算出する。 - 特許庁

Mask data for making the number of light exposure in respective regions for a photo-sensitive material 12 same in accordance with beam locus information of a laser light to the photo-sensitive material 12, or making the difference in the number of light exposure between respective regions small, are formed in a mask data preparing part 82.例文帳に追加

感光材料１２に対するレーザ光のビーム軌跡情報に従い、感光材料１２の各領域での露光点数を同一とし、あるいは、各領域間での露光点数の差を小さくするためのマスクデータがマスクデータ作成部８２において作成される。 - 特許庁

To obtain a process for producing a semiconductor product in which pattern dimensions are brought close to the target dimensions when a resist pattern is formed by a double exposure method, and light exposure is corrected individually for two sheets of masks by correcting the light exposure while relating respective correction quantities with each other.例文帳に追加

半導体製品の製造方法に関し、二重露光法でレジスト・パターンを形成する場合、２枚のマスクに対する露光量を別個に補正する際、それぞれの露光量に於ける補正量を関連させて補正し、パターン寸法を目標に近付ける。 - 特許庁

In a projecting light exposure apparatus of a slit scanning light exposure type, there is provided, other than optical means (5) for setting an illumination area illumination distribution control means (4), luminance distribution control means (4) for making variable luminance distribution in a nonscanning direction extending perpendicularly to a scanning direction in an illumination area set by the optical means (5).例文帳に追加

スリットスキャン露光方式の投影露光装置において、照明領域を設定する光学手段（５）とは別に、その光学手段（５）によって設定された照明領域内における走査方向と直交する非走査方向の照度分布を可変とする照度分布制御手段（４）を設ける。 - 特許庁

To provide a method for forming a barrier rib for a flat display, wherein the light exposure margin where problems such as meandering and/or peeling, pattern thickening and/or residual film formation do not occur can be enlarged when forming the barrier rib for the flat display with high definition and high aspect ratio, and wherein the increase of a required light exposure is small.例文帳に追加

高精細かつ高アスペクト比の平面ディスプレイ用隔壁を形成する際に、蛇行や剥がれ、パターン太りや残膜形成といった問題が発生しない露光量マージンを拡大でき、かつ必要露光量の増大が少ない平面ディスプレイ用隔壁の形成方法を提供する。 - 特許庁

In this case, as the information regarding at least a part of the plurality of block regions which become a boundary in which the image of the measuring pattern starts emerging is detected, even if the light exposure made, while it is altered within a scope of at least the appropriate light exposure or below, it does not hinder the detection in particular.例文帳に追加

この場合、計測用パターンの像が出現し始める境界となる複数の区画領域の少なくとも一部に関する情報を検出するので、適正露光量以下の範囲で露光量を変化させながら露光を行っても、特に支障なく検出を行うことが可能となる。 - 特許庁

The photosensitive composition for near-infrared laser exposure satisfies S_2/S_1≥2 between a minimum light exposure S_1 required to perform image formation by exposure with a near-infrared laser and a minimum light exposure S_2 required to perform image formation by exposure with a near-infrared laser after irradiation with light of 400 lx for 120 min.例文帳に追加

近赤外レーザーにより露光して画像形成を行う為に必要とされる最低露光量Ｓ_１に対して、４００ルクスの光照射を１２０分間行った後の該最低露光量Ｓ_２が、Ｓ_２／Ｓ_１≧２である近赤外レーザー露光用感光性組成物。 - 特許庁

Thereafter, the variation of the light exposure and focal point of an exposure apparatus and the changing direction of the focal point between the step of preparing the data and the step of exposing the lot in the step are estimated (SA5), and the light exposure and the focal point of the exposure apparatus for a next lot are adjusted appropriately based on the estimated variation and direction (SA6).例文帳に追加

そして、前述のデータを作成する工程とそのロットの露光工程との間の、露光装置の露光量の変化量、焦点位置の変化量、および、焦点位置の変化方向を推定する（ＳＡ５）ことにより、次のロットの露光装置の露光量および焦点位置を適切に調整する（ＳＡ６）。 - 特許庁

A light exposure is altered within a scope of at least an appropriate light exposure or below, while sequentially transferring a measuring pattern disposed on a reticle R to a wafer W disposed on an image plane side of a projection optical system PL to form a first region composed of a plurality of block regions on the wafer.例文帳に追加

少なくとも適正露光量以下の範囲内で露光量を変更しながら、レチクルＲ上に配置された計測用パターンを投影光学系ＰＬの像面側に配置されたウエハＷに順次転写して複数の区画領域から成る第１領域をウエハ上に形成する。 - 特許庁

To make compensatable the adverse effect of a dimensional difference occurring, when backward scattering electrons generated at the time of electron beam exposure cover light exposure pattern in the vicinity of an EB exposure area, by light exposure pattern formed on a photomask, and to eliminate a need of complicated calculation for plotting the photomask.例文帳に追加

電子ビーム露光時に発生する後方散乱電子が、ＥＢ露光領域に近接する光露光パターンに振りかぶることで生じる寸法差の影響を、フォトマスクに形成する光露光用パターンで補正することができ、且つフォトマスクの描画に際して複雑な計算を必要としない。 - 特許庁

The effective irradiation region 2 is an effective electron irradiation region that is conductive to light exposure in an electron beam exposure method, and the irradiation restricted region 1 is not directly conductive to light exposure and serves as an electron beam irradiating region shielded by an electron gun or an aperture electrode located in a column if it is not restricted.例文帳に追加

照明有効領域２は電子ビーム露光法において、露光に寄与する有効な電子放射領域であり、照射制限領域１は露光には直接寄与せず、制限されていなければ電子銃またはカラム内のアパーチャ電極で遮蔽される電子ビームを放射する領域である。 - 特許庁