「"light-exposure"」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a light exposure device for a color cathode ray tube that enables to uniform a luminous intensity distribution in an inner face of a face panel, to improve a quality of panel by precision rising in light exposing using a masking plate having a taper portion of high precision, and to relieve the cost up.例文帳に追加

フェ−スパネル内面における照度分布を均一にでき、加工精度の良いテーパ部を具備したマスキングプレートにより、露光での精度ＵＰによるパネル品位の向上、露光での精度ＵＰによるパネル品位の向上、コストＵＰを軽減することのできるカラー陰極線管用露光装置を提供する。 - 特許庁

A film forming a channel protection layer is formed on an oxide semiconductor layer having a light-transmitting property, a positive photoresist is formed on the film forming the channel protection layer, and a channel protection layer is selectively formed on a channel formation region in the oxide semiconductor layer by using a back surface light exposure method.例文帳に追加

チャネル保護層を形成する膜を透光性を有する酸化物半導体層上に形成し、チャネル保護層を形成する膜上にポジ型のフォトレジストを形成し、裏面露光法を用いて酸化物半導体層中のチャネル形成領域上に選択的にチャネル保護層を形成することを要旨とするものである。 - 特許庁

To obtain a photo-radical polymerization initiator which does not remain in a coating film independently, has high heat resistance, has high sensitivity to a practical wavelength, generates no odor during the light exposure, has high stability and high shelf stability, can be synthesized under a comparatively mild condition and is high in productivity, a photosensitive resin composition containing the initiator and a product using them.例文帳に追加

塗膜中に独立して残存することなく、耐熱性が高く、実用的な波長に対し感度が高く、露光時に臭気の発生が無く、安定性、保存性が高く、且つ、合成が比較的温和な条件ででき、生産性の高い光ラジカル重合開始剤、当該開始剤を含有する感光性樹脂組成物及びこれらの利用した製品を提供する。 - 特許庁

To obtain pigment particles having a long-wavelength sensitivity suitable for digital exposure and improved in deterioration of performances by light exposure, stability to electrification characteristics after suspension and stability of characteristics to temperature and humidity and to provide an electrophotographic photoreceptor using the pigment, an image-forming device and a process cartridge using the photoreceptor.例文帳に追加

本発明の課題はデジタル露光に適した長波長感度を有し、しかも光露光による性能劣化、休止後の帯電特性の安定性、温度、湿度に対する特性の安定性を改良した顔料粒子と該顔料を用いた電子写真感光体、該感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することである。 - 特許庁

In a pharmaceutical composition, (a) at least one new quinolone-based antibacterial selected from the group consisting of lomefloxacin, ofloxaxin, levofloxacin, gatifloxacin, tosufloxacin, and moxifloxacin and (b) a vitamin B6 are used in combination, whereupon the pharmaceutical composition is suppressed in discoloration upon light exposure because the new quinolone-based antibacterial can thereby exhibit improved light stability.例文帳に追加

医薬組成物中で、(a)ロメフロキサシン、オフロキサシン、レボフロキサシン、ガチフロキサシン、トスフロキサシン、モキシフロキサシン、及びそれらの薬理学的に許容される塩よりなる群から選択される少なくとも１種のニューキノロン系抗菌剤と共に、(b)ビタミンＢ６類とを共存させることにより、該ニューキノロン系抗菌剤の光安定性が改善され、医薬組成物の光曝露による変色を抑制できる。 - 特許庁

The silver halide photographic sensitive material having the form of a light shielding photosensitive material roll is characterized in that it has a characteristic curve whose gamma in the optical density range of 0.3-3.0 is ≥5.0 as a characteristic curve shown on rectangular coordinate axes having the same unit length of logarithmic light exposure (x-axis) and optical density (y-axis).例文帳に追加

対数露光量（ｘ軸）と光学濃度（ｙ軸）の単位長の等しい直交座標軸上に示される特性曲線において、光学濃度０．３〜３．０におけるガンマーが５．０以上である特性曲線を有することを特徴とする、遮光性感光材料ロールの形態を有するハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 portion even if it is not stripped and in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e., the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 part even if it is not stripped in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e. the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the formation of at least one or more color layers by the photolitho process, the black matrix area is exposed in the amount of exposure different from the light exposure on the pixel area of the color layer and developed.例文帳に追加

ブラックマトリクスを有するカラーフィルタ形成基板を作製する方法であって、感光性の着色材料を用いたフォトリソ法で、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各着色層の画素を形成する際に、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の３つの着色層を重ねて、ブラックマトリクスを形成するもので、且つ、少なくとも１色以上の前記フォトリソ法による着色層の形成において、ブラックマトリクスの形成領域への露光量を、着色層の画素領域への露光量と異なる露光量として、露光して、現像するものである。 - 特許庁