「"light-exposure"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

PAPER-MADE WINDING CORE FOR SENSITIVE MATERIAL SUBJECTED TO MELT TRANSFER BY LIGHT EXPOSURE, AND ROLL-LIKE SENSITIVE MATERIAL例文帳に追加

光露光により溶融転写される感材の紙製巻取芯及びロール状感材 - 特許庁

To provide a milk beverage suppressed in deterioration in milk components under heated or light-exposure condition.例文帳に追加

加熱又は光に曝される条件下において、乳成分の劣化を抑制された乳飲料を提供する。 - 特許庁

ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME, AND LIGHT EXPOSURE APPARATUS AND LIGHTING SYSTEM例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス素子およびこれを用いた表示装置、露光装置、照明装置 - 特許庁

PLASTIC OIL-AND-FAT COMPOSITION HAVING LIGHT-EXPOSURE RESISTANCE, BAKERY FOOD PRODUCT USING THE COMPOSITION, AND DOUGH FOR THE BAKERY FOOD PRODUCT例文帳に追加

曝光耐性を有する可塑性油脂組成物及びこれを用いたベーカリー食品またはその生地 - 特許庁

At that time, light exposure amount is set according to the undulation of the photopolymer film 107.例文帳に追加

その際、感光性樹脂膜１０７の起伏に合わせて露光量を設定する。 - 特許庁

The fluid Lq is sent from the power extraction part 20 to the light exposure part 10 through a second transfer path 32.例文帳に追加

流体Ｌｑを、第２移送路３２にて電力取り出し部２０から光曝露部１０へ送る。 - 特許庁

The fluid Lq is sent from the light exposure part 10 to the power extraction part 20 through a first transfer path 31.例文帳に追加

流体Ｌｑを第１移送路３１にて光曝露部１０から電力取り出し部２０へ送る。 - 特許庁

To provide a monitoring device for a vehicle appropriately controlling light exposure.例文帳に追加

適切に露光量の制御を行うことのできる車両用監視装置を提供することが課題である。 - 特許庁

To suppress bad influences caused by disturbance of light exposure amount resulting from diaphragm control.例文帳に追加

絞り制御に伴う露光量の乱れによる悪影響を抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide an electron beam drawing method for drawing patterns in areas requiring different light exposure values precisely, respectively.例文帳に追加

必要露光量が異なるエリアそれぞれに精度よくパターンを描画することを可能とする。 - 特許庁

To reduce the density unevenness when controlling a light exposure on an exposed surface using a plurality of beams.例文帳に追加

複数のビームを用いて被露光面の露光制御を行う際、濃度むらを低減する。 - 特許庁

PRINT HEAD CHARACTERISTIC MEASURING DEVICE, LIGHT EXPOSURE CORRECTING METHOD, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

プリントヘッドの特性計測装置、露光量補正方法、および画像形成装置 - 特許庁

STAGE APPARATUS AND LIGHT EXPOSURE EQUIPMENT USING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a pattern formation method which does not need any special mask plate in a light exposure step.例文帳に追加

露光工程時において専用のマスク板を必要としないパターン形成方法を提案する。 - 特許庁

To provide a density distribution mask which has a pattern with higher resolution, and accurately control light exposure of low exposure.例文帳に追加

濃度分布マスクのパターンの解像度を高くし、かつ、低露光の露光量を精密に制御する。 - 特許庁

To provide the designing method of an illumination light source that can make a degree of light exposure margin optimal.例文帳に追加

露光量余裕度を最適にする照明光源の設計方法を提供する。 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE METHOD, PROJECTING EXPOSURE APPARATUS, MANUFACTURE OF DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

露光方法、投影露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法 - 特許庁

To perform compensation control of light exposure by enhancing measurement accuracy of the intensity of exposing light.例文帳に追加

露光光の強度の測定精度を向上させ、露光量の補償制御を適切に行えるようにする。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR EUV LIGHT EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ＥＵＶ光露光用レジスト組成物並びにこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

The polymer blend material comprises at least two kinds of polymers and has a light exposure pattern corresponding to light having a light intensity distribution and the light exposure pattern has a phase separation structure.例文帳に追加

本発明のポリマーブレンド材料は、少なくとも二種類のポリマーを含むポリマーブレンド材料であって、光強度分布を有する光に対応した露光パターンを備え、上記露光パターンは相分離構造を有している。 - 特許庁

Accordingly the influences of the vibration of the illumination optical system on the light exposure main body during the light exposure can be reduced, thus resulting in improved exposure accuracy.例文帳に追加

従って、露光中の照明光学系の振動が、露光本体部に与える影響を軽減することができ、結果的に露光精度の向上を図ることができる。 - 特許庁

Thereafter, the PEB processing is carried out at the corrected heating temperature, a light exposure processing is carried out based on the corrected light exposure quantity, and the predetermined resist pattern is formed on the wafer (step S10).例文帳に追加

以後、補正された加熱温度でＰＥＢ処理を行うと共に、補正された露光量で露光処理を行い、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成する（ステップＳ１０）。 - 特許庁

From these results, an effective light exposure independent from the focus position of each wafer in the lot and an effective focus position independent from the light exposure are determined (step S110).例文帳に追加

これらの結果から、ロット内の各ウェハのフォーカス位置に依存しない実効的な露光量、及び、露光量に依存しない実効的なフォーカス位置が求められる（ステップＳ１１０）。 - 特許庁

To provide a method for controlling light exposure amount and an exposure apparatus for a reflection type photomask capable of controlling a light exposure amount with high accuracy even in an environment where a contamination film is grown.例文帳に追加

コンタミネーション膜が成長する環境下でも、より高精度に露光量の制御を行うことができる反射型フォトマスクの露光量制御方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

Cumulative light exposure per a mask that uses organic photosensitive resin for the light-shielding film is recorded, and the light exposure for pattern transfer is corrected, based on the cumulative exposures.例文帳に追加

有機感光性樹脂を遮光膜とするマスク１枚当たりの積算露光量を記録し、その量に応じてパターン転写時の露光量に補正を施す。 - 特許庁

And so, LED is exposed so that the light exposure becomes smaller compared to picture image data, but the light exposure par area on the material is corrected, then the most appropriate gradation density is obtained.例文帳に追加

これにより、画像データに比べて露光量がダウンするようにＬＥＤは露光されるが、マテリアル上の単位面積当たりの露光量は補正され、結果として最適な濃度の階調濃度を得ることができる。 - 特許庁

To provide a light exposure device capable of improving the quality of an image by suppressing deformation of an LED head (light exposure member).例文帳に追加

本発明は、ＬＥＤヘッド（露光部材）の変形を抑制することで、画像品質の向上を図ることができる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a resin composition improved in the light resistance of the glycidyl (meth)acrylate-modified rubber-reinforced styrene-based resin as the main component and capable of retaining its delusterring property prior to light exposure even after subjected to light exposure.例文帳に追加

グリシジル（メタ）アクリレート変性ゴム強化スチレン系樹脂の耐光性を改善し、耐光後にも耐光前の艶消性を維持できる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To form a required skirt-like inclined part in a sidewall portion of a permanent resist layer by using parallel light exposure in a level of recommended exposure light quantity obtained with the use of a parallel light exposure device under an appropriate developing condition that no resist development residue remains.例文帳に追加

平行光露光機を用いた推奨露光量程度の平行光露光で、レジスト現像残渣が残ることがない適正現像条件のもとに、所要の裾引き傾斜部を永久レジスト層の側壁部に形成すること。 - 特許庁

This printer is constituted so that the temperature when a power source is turned on is detected by a temperature sensor, and the temperature of a light exposure head at a time when light exposure is started can be estimated from the detected temperature by a CPU.例文帳に追加

電源投入時の温度を温度センサにより検出し、その検出した温度から露光が開始される時点の露光ヘッドの温度をＣＰＵにより推定する。 - 特許庁

Light exposure for the imagewise exposure is made 4.0 to <10.0 times the minimum light exposure E_G necessary for image formation obtained from a characteristic curve of the photopolymerizable photosensitive planographic printing plate.例文帳に追加

画像露光量を、光重合型感光性平版印刷版の特性曲線から求めた画像形成に必要な最少露光量Ｅ_Gの４．０倍以上１０．０倍未満にすることにより、上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus which can highly accurately correct irregularities of a light exposure for each light source to correct density irregularities and adjust the light exposure and which uses an LED for the light source of an exposure means.例文帳に追加

光源毎の露光量のバラツキを高精度に濃度むら補正、露光量調節を行うことの可能な、ＬＥＤを露光手段の光源に用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming pattern data for lithography which forms light exposure pattern data and a charge particle drawing pattern data by separating a pattern suitable for light exposure and a pattern inadequate for the same.例文帳に追加

光露光に適したパターンと、不適切なパターンを分離して光露光パターンデータと荷電粒子描画パターンデータを生成するリソグラフィ用パターンデータ生成方法を提供すること。 - 特許庁

The system has a storage device 30 for storing design information, a light exposure part, a control part for controlling the light exposure part, and a storage area network 40 in which the storage device 30 and the control part are connected to each other.例文帳に追加

設計情報を記憶する１つの記憶装置３０と、露光部と、前記露光部を制御する制御部と、前記記憶装置３０と前記制御部とが接続されたストレージエリアネットワーク４０と、を有する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor includes steps of: supervising the variation of the pattern dimension whenever the pattern forming is performed to a plurality of wafers 14, measuring the light exposure/focal permission region from the monitor result, and sequentially updating the center of its light exposure/focal permission region as a new target value over the light exposure and the focus.例文帳に追加

複数枚のウェーハ１４に対するパターン形成が実行されるごとにパターン寸法の変動を監視し、その監視結果から露光量・フォーカス許容領域を求め、その露光量・フォーカス許容領域の中心を露光量およびフォーカスに対する新たな目標値として逐次に更新していく。 - 特許庁

A light exposure parameter deciding device comprises a simulation execution part 112 for executing a lithography simulation using light strength information and a predetermined light exposure parameter corresponding to a plurality of regions on a light exposure mask and calculating a prediction pattern shape; and an evaluation value calculation part 113 for calculating an evaluation value of the prediction pattern shape.例文帳に追加

露光パラメータ決定装置は、露光マスク上の複数の領域に対応する光強度分布情報及び所定の露光パラメータを用いてリソグラフィシミュレーションを実行し、予測パターン形状を算出するシミュレーション実行部１１２と、前記予測パターン形状の評価値を算出する評価値算出部１１３と、を備える。 - 特許庁

In the process using the fourth photomask, the photomask is eliminated by using a backside light exposure technique and a reflow technique.例文帳に追加

なお、この第四のフォトマスクを用いる工程は裏面露光技術及びリフロー技術を用いることでマスクレスにすることが可能である。 - 特許庁

A controller and timing generator 40 performs photometric measurement by use of an image signal acquired from a CCD 14, and determines appropriate light exposure.例文帳に追加

コントローラ及びタイミングジェネレータ４０は、ＣＣＤ１４で得られた画像信号を用いて測光し、適正露光量を決定する。 - 特許庁

To suppress the yellowing of a resin or a composition itself with time or after heat exposure or light exposure in a reactive silicon group-containing urethane-based resin.例文帳に追加

反応性珪素基含有ウレタン系樹脂において、経時、熱暴露あるいは光暴露後の樹脂又は組成物自体の黄変を抑えること。 - 特許庁

COMPOSITION PREVENTING AND/OR RESISTING DECOMPOSITION OF COLLAGEN FIBER INDUCED UNDER CONDITION OF NATURAL SUN LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

自然な日光暴露なる条件下で誘発される膠原繊維の分解を防止する及び／又はこれに抗するための組成物 - 特許庁

The exposure time (exposure shutter opening time) of 1/N about 1/N light exposure, or a light source of illumination of 1/N is used and derived.例文帳に追加

１／Ｎ露光量を１／Ｎの露光時間（露光シャッター開口時間）、あるいは、１／Ｎの照度の光源を使用して得る。 - 特許庁

CALIBRATION METHOD OF SPECTRAL WIDTH MEASURING EQUIPMENT, CALIBRATION APPARATUS OF SPECTRAL WIDTH MEASURING EQUIPMENT, NARROW-BAND LASER APPARATUS, LIGHT EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

スペクトル幅計測器の校正方法、スペクトル幅計測器の校正装置、狭帯域化レーザ装置、露光装置及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

To restrain the changing of effectual light exposure between apparatuses which a photopolymer film obtained by the difference of temperatures between the apparatuses.例文帳に追加

装置間の温度が異なることにより感光性樹脂膜が得た実効的な露光量が装置間で変動することを抑制する。 - 特許庁

A current density control mechanism capable of controlling light exposure is provided on the side of an illuminating optics system 215.例文帳に追加

また、露光量の調整ができるように照明光学系２１５側に電流密度を制御できる機構を設ける。 - 特許庁

Thereby, time to perform reticle inspection, reticle cleaning, etc. in a light exposure process can be made after the fact.例文帳に追加

これにより、露光工程においてレチクル検査やレチクル洗浄等を実施するための期間を事後的に創出することができる。 - 特許庁