「"light-exposure"」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The second edge cut position of the protective film coincides with an edge cut position of a resist in a light exposure step at the time of forming a wiring pattern on the first low-k film.例文帳に追加

保護膜の第２エッジカット位置は、第１のＬｏｗ−ｋ膜上に配線パターンを形成する際の露光工程におけるレジストのエッジカット位置に一致する。 - 特許庁

To execute appropriate calibrations by executing the calibration, based on sure calibration target characteristic set by using a transmitted light exposure apparatus, a developing apparatus and a densitometer.例文帳に追加

透過光露光装置と現像装置と濃度計とを用いて設定した確かな校正目標特性に基づいて校正することによって適正な校正を行うこと。 - 特許庁

A photoresist film 30 is formed on the inorganic insulating layer 23, subjected to light exposure of a pattern shape, and then subjected to a developing treatment with use of a developer to form a resist pattern 30B' in a developing step.例文帳に追加

そして、この無機絶縁層２３上にフォトレジスト膜３０を形成してパターン状に露光した後に、現像工程において、現像液を用いて現像することでレジストパターン３０Ｂ’を形成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which produces an effect of improving a margin for exposure in the production of a semiconductor device, that is, ensures a small change in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージンに対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation giving pixels and a black matrix which are excellent in adhesion to a substrate and solvent resistance even at a small amount of light exposure and produce no residue on development.例文帳に追加

低露光量においても基板との密着性、耐溶剤性に優れ、且つ現像残渣の生じることのない画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of evaluating precisely and efficiently durability against a stress caused by charge and light exposure in an electrophotograhic photoreceptor.例文帳に追加

電子写真感光体の帯電、露光によるストレスに対する耐久性を精度よく且つ効率的に評価することが可能な方法及び装置の提供。 - 特許庁

The light radiating device includes a light source to generate light and a light modifier, including a transmissive region and a non-transmissive region, that define a light exposure region.例文帳に追加

本発明に係る光照射装置は、光を発生する光源及び透過領域と不透過領域とを有し、前記光が透過される領域を画定するための光調整子を含む。 - 特許庁

A resist pattern which includes a region, having a thick film thickness and a region having a thinner film thickness than that of the former region is formed on the reflective electrode, by using a light exposure mask which includes a transflective portion.例文帳に追加

反射電極上に半透部を有する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジストパターンを形成する。 - 特許庁

Furthermore, the printer 10 selects a target density value from a low density zone where false contour line tends to be actualized, and determines the amount of correction of light exposure correction system such that in-plane unevenness of target density value is suppressed.例文帳に追加

また、プリンタ装置１０は、擬似輪郭が顕在化しやすい低濃度域の中から、ターゲット濃度値を選択し、ターゲット濃度値の面内むらを抑制するように、露光量補正方式の補正量を決定する。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition which substantially avoids discoloration and reflectance reduction of a white coating film thereof due to exposure to UV and heat history, and which enables to form a pattern at a small light exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide an efficient method for bleaching pulp, which reduces load to the environment, shortens light exposure time by combining an optical bleaching process with a pulp washing process.例文帳に追加

光漂白処理にパルプの洗浄処理を組合わせることで光照射時間を短縮し、効率の良い、環境への負荷の小さい漂白方法を開発すること。 - 特許庁

Furthermore, split exposure is performed by means of a shutter such that predetermined light exposure is attained in the time of seconds of the shutter where the emission of auxiliary light causes no blurring and the diode is unlighted when a predetermined exposure is attained.例文帳に追加

また、補助光の発光が手ぶれの発生しないシャッター秒時でシャッターにより所定露光量となるよう分割露光し、所定露光となった後に消灯する。 - 特許庁

This polymer-stabilized liquid crystal composition containing a liquid crystalline (meth)acrylate, a non-liquid crystalline (meth)acrylate and a ferroelectric liquid crystal is obtained by curing the above acrylates by ultraviolet light exposure while impressing bi-polar pulse wave.例文帳に追加

液晶性（メタ）アクリレートと、非液晶性（メタ）アクリレートと、強誘電性液晶を含有した高分子安定化液晶組成物に両極性パルス波を印加しながら紫外線露光で前記アクリレートを硬化させる。 - 特許庁

Using at least one of the effective light exposure and the focus position thus determined, next and subsequent lots are fed back and exposed (step S111).例文帳に追加

求められた実効的な露光量及びフォーカス位置の少なくとも一方を用いて、次ロット以降のロットに対してフィードバックをかけて露光する（ステップＳ１１１）。 - 特許庁

SUBSTRATE CONNECTION METHOD FOR GLASS SUBSTRATE OR OPTICAL ELEMENT SUBSTRATE, JIG TO BE USED FOR THE CONNECTION METHOD, GLASS SUBSTRATE PRODUCED BY THE METHOD, OPTICAL ELEMENT, LIGHT EXPOSURE DEVICE CONTAINING THE OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING THE DEVICE例文帳に追加

ガラス基板、光学素子基板の基板接合方法と該接合方法に用いるジグ、およびこれらによって形成されたガラス基板、光学素子、並びに該光学素子を有する露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁

To provide a foreign matter inspecting device capable of avoiding misdetection of foreign matter, an exposure device equipped with the foreign matter inspecting device, and a mask for light exposure.例文帳に追加

異物の誤検出を回避することができる異物検査装置、及び当該異物検査装置を備える露光装置、並びに光露光用マスクを提供する。 - 特許庁

To guide a light beam to a photosensitive material after the beam is adjusted to the optimum light exposure in accordance with a temperature change of the photosensitive material and/or a humidity change and to exposure- record an image of stable quality.例文帳に追加

感光材料の温度変化および／または湿度変化に対応し、光ビームを最適な露光量に調整して感光材料に導き、安定した品質からなる画像を露光記録する。 - 特許庁

To prepare a thermal transfer sheet, in which the sensitivity and resolution of a recorded image are improved and an image forming layer with reduced hue change before and after a light exposure has a metallic luster.例文帳に追加

記録画像の感度や解像度が向上され、曝光前後の色相変動が低減された画像形成層が金属光沢を有する熱転写シートを提供すること。 - 特許庁

This anti-skin damage agent capable of inhibiting or reducing the skin damage caused by the ultraviolet light exposure is provided by containing a litchi seed extract, and the skin lotion containing the same is also provided.例文帳に追加

ライチ種子抽出物を有効成分とし、紫外線曝露に起因する皮膚障害を抑制又は軽減する抗皮膚障害剤、及びそれを含有する皮膚外用剤である。 - 特許庁

In an aligner, an object 12 having either one or both high thermal conductivity and thermal duffusivity to remove, diffuse or uniformize heat generated by light exposure or to provide a prescribed distribution is provided.例文帳に追加

露光装置において、露光光に起因して発生する熱を排除、拡散もしくは均一化しまたは所定の分布とするための高い熱伝導率または熱拡散率のいずれかまたは双方を有する物体１２を設ける。 - 特許庁

To provide a hair cosmetic which can prevent the oxidative damage to hair due to light exposure and drier employment, can impart smoothness and moist touch to the hair, and has a high preventing effect on the color fading of dyed hair.例文帳に追加

光曝露やドライヤー使用による毛髪の酸化損傷を防御し、毛髪に滑らかさやしっとり感を付与でき、染色した髪に対しては色落ちを防ぐ効果の高い毛髪化粧料を提供すること。 - 特許庁

To provide a pharmaceutical composition which is suppressed in the discoloration upon light exposure, because the constituent new quinolone-based antibacterial can exhibit improved light stability, contrary to the conventional new quinolone-based compositions being defective in light stability.例文帳に追加

本発明は、光不安定化が問題とされるニューキノロン系抗菌剤の光安定性が改善されており、光曝露による変色が抑制されている医薬組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

A linear component is calculated from a distribution of the second line width within the wafer surface (step S7), and light exposure quantity is corrected for every exposure region based on the linear component (steps S8 and S9).例文帳に追加

第２の線幅のウェハ面内分布から線形成分を算出し（ステップＳ７）、当該線形成分に基づいて露光量が各露光領域毎に補正される（ステップＳ８、Ｓ９）。 - 特許庁

To provide an optical recording medium which permits recording and regeneration of image data and shows outstanding light exposure properties and high shelf stability, in a DVD-R disc system using a semi-conductor laser having an oscillation wavelength in a short wavelength range, compared to the conventional system.例文帳に追加

従来システムに比べて短波長に発振波長を有する半導体レーザを用いるＤＶＤ−Ｒディスクシステムおいて、記録、再生が可能で、しかも耐光性、保存安定性が共に優れた光記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which can form high-quality pixels free of unevenness due to water (spotted color unevenness occurring on a pixel pattern after development and cleaning) even with a small amount of light exposure.例文帳に追加

低露光量であっても水ムラ（現像・水洗後に画素パターン上に発生するシミ状の色ムラ）のない高品質な画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

An imaging layer is applied to the composition, and subsequently, light exposure and developing, during which a light-exposed portion of the imaging layer and a hard mask composition adjacent to the light-exposed portion are removed, are performed.例文帳に追加

イメージング層が組成物に塗布され、続いて、露光と、イメージング層の露光された部分および前記露光された部分に隣接したハードマスク組成物が除去される現像とが行われる。 - 特許庁

A resin for optical material essentially free from lactone compounds as by-products is produced by the light exposure of a mixture containing a methacrylate and/or its oligomer obtained by a production process in the presence of a strong acid and a radical photopolymerization initiator wherein the light-exposure polymerization of the mixture is carried out after removing the strong acid in the methacrylate to decrease the strong acid concentration in the mixture to ≤100 ppm.例文帳に追加

強酸存在下の製造工程により得られたメタクリレートおよび／またはそのオリゴマーと、ラジカル系光重合開始剤とを含む混合物を光照射して光学材料用樹脂を製造する方法であって、前記混合物中の強酸の濃度が１００ｐｐｍ以下となるようにメタクリレートに含まれる強酸を除去した後、混合物に光照射して重合を行ない、副生成物としてのラクトン化合物を実質的に含まない光学材料用樹脂を得る。 - 特許庁

A method for producing the polymer blend material comprises forming the light exposure pattern in two or more kinds of compounds selected from a group consisting of at least two kinds of monomers and/or polymers and simultaneously forming a phase separation structure in the light exposure pattern by irradiating these compounds with light having a light intensity distribution and carrying out oligomerization reaction of these compounds at reaction rate corresponding to the light intensity.例文帳に追加

また、本発明のポリマーブレンド材料は、少なくとも二種類のモノマーおよび／またはポリマーからなる群から選ばれる二種類以上の化合物に対して、光強度分布を有する光を照射して、上記光の強度に応じた反応速度で上記化合物を多量化反応させることにより、上記化合物に露光パターンを形成するとともに、上記露光パターン内に相分離構造を形成することにより製造することができる。 - 特許庁

A hydrolyzate produced upon alkali development after light exposure can be fixed into a polyimide by reacting the hydrolyzate with a crosslinking agent.例文帳に追加

また、アルカリ現像性を改善し、特に炭酸ナトリウム系のアルカリ現像性を可能とし、フレキシブル配線板のカバーレイ材として好適なポリイミド組成物及びそれを用いたフレキシブル配線板及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To improve the positioning and overlay of a pattern applied to a substrate by preventing a distortion in the pattern due to a thermal distortion generated in the substrate when the substrate is partially subjected to positioning and light exposure before the substrate is thermally stabilized.例文帳に追加

基板が熱的に安定化する前に基板の一部の位置合わせ及び露光を行う場合に生じ得る基板の熱的歪みに起因する基板に適用されるパターンのゆがみを防止でき、これにより、基板に適用されるパターンの位置合わせ及びオーバーレイを改善する。 - 特許庁

The flat display panel comprises a substrate and a barrier rib for dividing prescribed pixels on a substrate, and the barrier rib is formed of barrier rib paste or slurry containing a barrier rib material, and the barrier rib paste or the slurry includes a light transmission material for light exposure.例文帳に追加

本発明の一実施形態による平板ディスプレイパネルは、基板及び基板上に所定ピクセルを区切る隔壁を含み、隔壁は隔壁材料が含まれた隔壁ペーストまたはスラリーにより形成され、隔壁ペーストまたはスラリーは露光用光透過材を含む。 - 特許庁

To provide a color toner capable of satisfactorily reproducing colors in a wide range and especially well balanced in the red and blue regions and forming a color image high in stability and will not change against light exposure.例文帳に追加

全体の色再現性が良好で色再現性が広く、特に赤領域と青領域をバランス良く再現するカラートナーを提供すること、また、形成された画像の安定性、特に光に暴露しても画像の変化が無いトナーを得ること。 - 特許庁

To reduce unevenness in light exposure even if some regularity is left locally in the image of a dimmer filter when a plurality of patterns are exposed to overlap partially using the dimmer filter produced to have a specified transmissivity distribution.例文帳に追加

所定の透過率分布を持つように製造された減光フィルタを用いて複数のパターンを一部が重なるように露光する場合、その減光フィルタの像に或る程度の局所的な規則性が残存していても、露光量むらを低減する。 - 特許庁

At the flash light exposure, the light passes through a side of a periphery of the semiconductor wafer W held by the susceptor 72, enters the susceptor 72 among flash lights exposed from the flash lamp, reaches to the backside 72b of the frosted glass, and reflects diffusely.例文帳に追加

閃光照射時には、フラッシュランプから照射された閃光のうちサセプタ７２に保持された半導体ウェハーＷの周縁部側方を通過してサセプタ７２内に入射した光は、すりガラス状の裏面７２ｂに到達して乱反射する。 - 特許庁

To enhance shape control of a T-type gate electrode against variation in resist film thickness or light exposure (electron beam irradiation amount) incident to exposure of a multilayer film in fine T-type gate process employing multilayer resist, and to prevent impairment in the high frequency characteristics of a high frequency device.例文帳に追加

多層レジストを用いた微細T型ゲートプロセスでの多層膜の露光に伴う、レジスト膜厚や露光量（電子線照射量）の変動に対するＴ型ゲート電極の形状制御を向上させるとともに、高周波装置の高周波特性の劣化を防ぐ。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inkjet ink for platemaking masking which, in spite of being a solvent-based ink, is suppressed in influence on a photosensitive layer, can perform a predetermined print even on a printing plate made by development by light exposure and is reduced in influence also on components of an inkjet printer.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、溶剤系インクでありながら、感光層への影響を抑え、露光現像して製造した印刷版でも設定した印刷ができ、また、インクジェットプリンタの部品にも影響が少ない製版マスキング用インクジェットインクを提供することである。 - 特許庁

To provide an on-machine developing type original printing plate for a lithographic printing plate, which performs image-recording by laser light exposure, has good on-machine developing properties, is excellent in stain resistance properties, and furthermore has an extremely excellent printing plate wear resistance in comparison with a case using a conventional radical polymerization.例文帳に追加

レーザー露光による画像記録が可能であり、良好な機上現像性を有し、かつ汚れ性に優れ、更に従来のラジカル重合を用いた場合と比較して非常に優れた耐刷性を有する機上現像型の平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

Thereby, it is improved in optical density uniformity, reflectivity uniformity, surface roughness, chemical resistance, light-exposure resistance and the like, and it is also reduced problems of grown-in defects and residual stress, compared to an existing thin film having an uniform composition ratio of the elements in a depth direction of the film.例文帳に追加

これにより、既存の深さ方向に元素の組成比が均一な薄膜と比較する時、光学密度の均一性、反射率の均一性、表面粗度、耐化学性、耐露光性などを向上させ、成長性欠陥と残留応力の問題を低減させることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which when the same kind of a semiconductor material as that of a semiconductor layer is used as a substrate for growing the semiconductor layer making up a semiconductor element structure, allow a recognizable alignment mark to be formed at the time of a light exposure process following the growth of the semiconductor layer.例文帳に追加

半導体素子構造を構成する半導体層の成長用基板として、該半導体層と同種の半導体材料を用いる場合に、半導体層を成長した後の露光時に認識可能なアライメントマークを形成できるようにする。 - 特許庁

An authentication object determination unit 9 compares a combination of an adjustment state (light amount of a light emission unit 1) of an light exposure amount obtained from an analysis unit 6 and a face size Fn obtained from a photographing object analysis unit 8 with a correspondence relation stored in a memory.例文帳に追加

認証対象判定部９では、解析部６から取得する露光量の調整状態（発光部１の光量）と撮像対象解析部８から取得する顔サイズＦｎの組合せをメモリに記憶した前記対応関係と比較する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having an improving effect on a margin for exposure (particularly a margin for exposure through a repetitive pattern, a so-called dense pattern) in the production of a semiconductor device, that is, suppressing the variation of the line width of the isolated lines of a dense line pattern when light exposure amounts are varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に繰り返しパターン、いわゆるdenseパターンの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、denseラインパターン孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which produces an effect of improving a margin for exposure (in particular, a margin for the exposure of isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, ensures a small change in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat development recording apparatus capable of making density constant independently of the number of records of heat developable recording materials and capable of uniformizing a color tone whose variation cannot be suppressed by adjustment of light exposure, and to stabilize both density and a color tone.例文帳に追加

熱現像記録材料の記録枚数に依存せずに、濃度を一定にでき、しかも、露光量の調整によっては変化を抑止することのできなかった色調も一定できる熱現像記録装置を提供し、濃度及び色調を共に安定化させる。 - 特許庁

To provide a light exposure mask capable of forming a photoresist layer in a semi-transmissive portion with uniform thickness and to provide a method for manufacturing a semiconductor device in which the number of photolithographic steps (the number of masks) necessary for manufacturing a TFT substrate is reduced by using the exposure mask.例文帳に追加

半透過部のフォトレジスト層の膜厚を均一に形成できる露光マスクを提供し、それを用いてＴＦＴ基板を製造するために必要なフォトリソグラフィ工程の回数（マスク枚数）を削減した半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁