「"plasma- processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND NOZZLE AND INJECTION PIPE USED FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ化学気相蒸着装置及びプラズマ処理装置に使用されるノズル及び噴射管 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR THIN FILM例文帳に追加

高周波電力供給装置、プラズマ処理装置、及び半導体薄膜の製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING VENT HOLES OF SILICON ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ処理装置用シリコン電極板の通気孔検査装置および通気孔検査方法 - 特許庁

After forming the hole injection electrode 2, a plasma processing of the hole injection electrode 2 is carried out.例文帳に追加

ホール注入電極２を形成した後、ホール注入電極２をプラズマ処理する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND ITS CLEANING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ処理装置のクリーニング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD/DEVICE BY PULSE DIVISION SUPPLY AND PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

パルス分割供給によるプラズマ処理方法及び装置並びにプラズマＣＶＤ方法 - 特許庁

ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA APPARATUS AND ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD, DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

大気圧プラズマ装置、大気圧プラズマ処理方法及びデバイス並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a method and device by which the plasma processing of a semiconductor wafer can be controlled precisely.例文帳に追加

半導体ウェーハのプラズマ処理を精密に制御する方法及び装置に関する。 - 特許庁

The plasma processing equipment is equipped with a processing container 1 which contains an object W to be processed.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、被処理体Ｗを収納する処理容器１を備えている。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that can uniformly process a workpiece.例文帳に追加

被処理体を均一にプラズマ処理することができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a matching circuit with a wide consistency range, and to provide a method and a device for plasma processing.例文帳に追加

整合可能範囲が広い整合回路、プラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To improve the uniformity of plasma processing conditions within a wafer plane and between wafers.例文帳に追加

ウエハ面内およびウエハ相互間のプラズマ処理状況の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of depositing a high quality film efficiently.例文帳に追加

効率的に高品質な膜を成膜することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The preprocessing step and film forming step are carried out through low-frequency plasma processing.例文帳に追加

これらの前処理工程および成膜工程は低周波プラズマ処理により行う。 - 特許庁

The plasma processing system further comprises an electrode 152 disposed at the lower end of the process chamber.例文帳に追加

プラズマ処理システムは、さらに、処理チャンバの下端に配置された電極１５２を備える。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND MAINTENANCE METHOD AND ASSEMBLING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ処理装置のメンテナンス方法及びプラズマ処理装置の組み立て方法 - 特許庁

To provide a microwave plasma processing apparatus for improving a protruded distribution tendency of plasma density.例文帳に追加

プラズマ密度の凸分布傾向を改善したマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To improve the plasma production efficiency by raising plasma density in a plasma processing apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、電子密度を高くしてプラズマ生成効率を向上する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method capable of obtaining uniform processing and high processing capabilities.例文帳に追加

均一な処理と高い処理能力を得ることができるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for improving processing precision of a workpiece.例文帳に追加

ワークの加工精度を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

MATERIAL HANDLING SYSTEM FOR PLASMA PROCESSING SYSTEM OF MULTIPLE WORK PIECE AND METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

複数の工作物のプラズマ処理システムのための材料ハンドリングシステムとその方法 - 特許庁

PLASMA POTENTIAL MEASUREMENT METHOD, PLASMA POTENTIAL MEASUREMENT DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS USING IT例文帳に追加

プラズマ電位計測方法、プラズマ電位計測装置及びそれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING METHOD AND APPARATUS THEREOF, PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

プラズマ密度情報測定方法及びその装置、並びにプラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁

A plasma processing system has a main rf electrode 1 and an annular secondary rf electrode 4.例文帳に追加

プラズマ処理装置は主ｒｆ電極１とリング状第２ｒｆ電極４を有する。 - 特許庁

A hole injection layer 3a is formed on the hole injection electrode 2 after the plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理されたホール注入電極２上に、ホール注入層３ａを形成する。 - 特許庁

To improve the accuracy of plasma processing, by accelerating decomposition and dissociation of gas with plasma.例文帳に追加

プラズマによるガスの分解及び解離を促進させてプラズマ処理の精度を向上させる。 - 特許庁

MOUNTING TABLE MECHANISM, PLASMA PROCESSING APPARATUS USING THE SAME AND METHOD OF APPLYING VOLTAGE TO ELECTROSTATIC CHUCK例文帳に追加

載置台機構、これを用いたプラズマ処理装置及び静電チャックへの電圧印加方法 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma etching method that have high controllability.例文帳に追加

高い制御性を有するプラズマ処理装置およびプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

MICROWAVE PLASMA PROCESSING EQUIPMENT, PLASMA IGNITING METHOD, PLASMA FORMING METHOD AND PLASMA PROCESS METHOD例文帳に追加

マイクロ波プラズマプロセス装置、プラズマ着火方法、プラズマ形成方法及びプラズマプロセス方法 - 特許庁

To keep an upper electrode at the earth potential using a filter circuit in plasma processing equipment.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、フィルタ回路を用いて上部電極をアース電位に保つ。 - 特許庁

To reduce working hours and costs necessary for alumite treatment of a plasma processing container as much as possible.例文帳に追加

プラズマ処理容器のアルマイト処理に要する作業時間とコストを極力軽減する。 - 特許庁

Then oxygen plasma processing is applied to the via hole 10 and the inside of the wiring groove.例文帳に追加

続いて、ビアホール１０及び配線溝１３の内部に対して酸素プラズマ処理を施す。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING UNIFORMITY IN BALLISTIC ELECTRON BEAM ACCELERATING PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

弾道電子ビーム促進プラズマ処理システムにおける均一性制御方法及びシステム - 特許庁

This plasma processing equipment has a doubly concentric rf electrode as an upper electrode.例文帳に追加

このプラズマ処理装置は上部電極として二重同心ｒｆ電極を有する。 - 特許庁

PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING PROBE, PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING DEVICE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

プラズマ密度情報測定プローブ、プラズマ密度情報測定装置、及びプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA PARTICLE SIMULATION METHOD, STORAGE MEDIUM, PLASMA PARTICLE SIMULATOR, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

プラズマ粒子シミュレーション方法、記憶媒体、プラズマ粒子シミュレータ、及びプラズマ処理装置 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GAS-FLOW CONDUCTANCE CONTROL IN CAPACITIVE COUPLING PLASMA PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

容量結合プラズマプロセスチャンバにおけるガスフローコンダクタンス制御のための装置および方法 - 特許庁

PLASMA MONITORING METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PLASMA PROCESSOR例文帳に追加

プラズマモニタ方法、プラズマ処理方法、半導体装置の製造方法、およびプラズマ処理装置 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, for less frequency in replacement of a sticking preventing member.例文帳に追加

防着部材の交換頻度を低減することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device with high processing efficiency, generating a stable plasma.例文帳に追加

処理効率が高くかつ安定したプラズマを発生させるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

This application is related to this plasma processing device for executing plasma processing to a processing object S by jetting the plasma P from a lower opening of the discharge space 3 to supply it to the processing object S.例文帳に追加

このプラズマＰを放電空間３の下側開口から吹き出して被処理物Ｓに供給することにより被処理物Ｓにプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置に関する。 - 特許庁

To provide a plasma inspection method capable of simply and accurately inspecting whether atmospheric plasma is good or not, a plasma processing method, a plasma inspection device, and plasma processing device.例文帳に追加

簡便かつ的確に大気圧プラズマの良否検査を行うことができるプラズマ検査方法、プラズマ処理方法、プラズマ検査装置及びプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a microwave introduction apparatus wherein microwaves can be uniformly introduced into a plasma processing chamber, and to provide a SWP (Surface Wave Plasma) processing apparatus which can carry out a process uniformly without any damages by plasmas.例文帳に追加

マイクロ波を均一にプラズマ処理室内に導入できるマイクロ波導入装置、およびプラズマダメージのない均一な処理ができるＳＷＰプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processing device capable of efficiently processing objects to give a substantially-uniform surface state and increase the adhesion property improving effect.例文帳に追加

効率的よく被処理物を実質的に均一な表面状態に処理でき、さらに接着性改善効果が高くなるプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode plate for a plasma processing apparatus, along with a plasma processing apparatus, capable of improving in-plane uniformity in a plasma process by reducing a temperature difference that occurs on an electrode plate.例文帳に追加

電極板に生じる温度差を小さくして、プラズマ処理の面内均一性を向上させることができるプラズマ処理装置用電極板及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁