「"plasma- processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

RESIDUE MODIFICATION PROCESSING METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加

残渣改質処理方法、プラズマ処理方法およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 - 特許庁

To provide a plasma processing system for processing a planar workpiece having a capability to alter the rotational position of the workpiece for the plasma processing chamber of the system.例文帳に追加

平面なワークピースを処理するプラズマ処理システムは、前記システムのプラズマ処理チャンバに対するワークピースの回転位置を変更する能力を有するように提供される。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus able to prolong its life by preventing abnormal discharge at a shower plate that is a gas introducing means into a plasma processing chamber.例文帳に追加

プラズマ処理室へのガス導入手段となるシャワープレートにおける異常放電を防止し、その寿命を延ばすことができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inductive coupling plasma processing apparatus which is capable of controlling a plasma state in the middle of plasma processing without increasing the apparatus cost and the power cost.例文帳に追加

、装置コストおよび電力コストを高くすることなく、プラズマ処理の途中でプラズマ状態の制御を行うことができる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

PLASMA DEPOSITION METHOD, PLASMA PROCESSING DEVICE, SOLAR CELL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

プラズマ製膜方法、プラズマ処理装置、太陽電池及び太陽電池の製造方法 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processing system employing an electrostatic suction unit in which adhesion of particles to a semiconductor substrate is reduced.例文帳に追加

静電吸着装置を用いたプラズマ処理装置において、半導体基板へのパーティクルの付着が少ないプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for normal pressure plasma processing capable of performing stable glow discharge plasma processing by a continuous wave under a pressure close to atmospheric pressure.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で、連続波によって安定したグロー放電プラズマ処理を行うことのできる常圧プラズマ処理方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing device facilitating the starting of plasma discharge or capable of suppressing excessive power consumption due to auxiliary plasma during plasma processing.例文帳に追加

プラズマ放電を開始することが容易となる、あるいは、プラズマ処理中の補助プラズマによる余分な電力消費を抑えることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing equipment and a plasma processing method, which reduces falling of particles inside a vacuum treatment container, and also reduces deterioration of semiconductor product yield.例文帳に追加

真空処理容器内におけるパーティクルの落下を低減し、半導体基板の製品歩留まりの低下を低減するプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for selecting and heating a heating target.例文帳に追加

加熱対象を選択して加熱することが可能な、プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The problem can be solved by implementation of plasma processing with the apparatus.例文帳に追加

前記装置で前記プラズマ処理を実施することで課題を解決する事が出来る。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, METHOD OF ASSEMBLING AND DISASSEMBLING THEREOF AND JIG FOR EXCLUSIVE USE FOR IT例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の組付け解体方法及びその専用治具 - 特許庁

To provide a plasma processing system, capable of uniformly conducting plasma processing, even for a thin substrate to be processed, without being influenced by the surface state of mounting base.例文帳に追加

薄型の被処理基板に対しても載置台の表面状態の影響を受けずに均一なプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a monitoring system precisely recognizing the change of state of a plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。 - 特許庁

To provide a microwave plasma processor which performs uniform plasma processing of an object having a large area.例文帳に追加

均一性を保ちつつ、大面積のプラズマ処理を行えるプラズマ処理装置。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus adjusting characteristic impedance at a multi-branch section.例文帳に追加

多分岐部分にて特性インピーダンスを調整するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To continuously execute plasma processing to a workpiece, and to efficiently and uniformly executing plasma processing to a workpiece having a large area.例文帳に追加

ワークに対して連続的にプラズマ処理を行うことができ、また大面積のワークに対しても効率良くしかも均質にプラズマ処理を行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide a focus ring having a heat conductive sheet having a film thickness suitable to plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理に適した膜厚の伝熱シートを有するフォーカスリングを提供する。 - 特許庁

To realize a plasma processing chamber which provides improved wafer area pressure control.例文帳に追加

改善されたウエハ領域圧力制御を提供するプラズマ処理室を実現する。 - 特許庁

To address, in the present invention, a problem how to prevent contamination of a wafer and a chamber in a plasma processing apparatus and a plasma processing method suitable for usage, in the case of wafer plasma etching.例文帳に追加

本発明はウェハをプラズマエッチングする際に用いて好適なプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法に関し、ウェハやチャンバの汚染を防止することを課題とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus uniformly generating plasma on a loading surface.例文帳に追加

載置面上において均一にプラズマを生成できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide plasma processing apparatus capable of stabilizing the floating accuracy of workpieces and performing desired plasma processing on the workpieces.例文帳に追加

被処理物の浮上精度を安定したものにすることができるとともに、被処理物に対して所望のプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing device in which particles producing during plasma processing of semiconductor wafer are hard to remain on the upper surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

この発明は半導体ウエハをプラズマ処理する際に発生するパーティクルが半導体ウエハの上面に滞留し難くしたプラズマ処理装置を提供することにある。 - 特許庁

SEGMENTED BIASSED PERIPHERAL ELECTRODE IN PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

プラズマ処理方法および装置におけるセグメント化されてバイアスされる周縁電極 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which can conduct plasma processing for a substrate by producing plasma under atmospheric pressure, while suppressing the discharge of gas to the atmosphere.例文帳に追加

大気へのガスの放出を抑制しつつ、大気圧にてプラズマを発生させて基板に対するプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY USING THEM例文帳に追加

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法、それらを用いて作製した半導体装置 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING ELECTRONIC TEMPERATURE OF PLASMA, PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSOR例文帳に追加

プラズマの電子温度を制御する方法，プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for easily unifying a plasma density distribution near a substrate under plasma processing conditions, such as a wide range of gas species and pressure.例文帳に追加

本発明は、広範囲なガス種や圧力等のプラズマ処理条件において基板近傍プラズマ密度分布を均一にするプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method capable of suppressing variation in an etching rate caused by wear of an electrode plate of an upper electrode.例文帳に追加

上部電極の電極板の消耗にともなうエッチングレートの変動を抑制することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供すること。 - 特許庁

PLASMA SURFACE PROCESSING METHOD, QUARTZ MEMBER, PLASMA PROCESSOR, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加

プラズマ表面処理方法、石英製部材、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁

To provide a monitor system which can accurately grasp the state variation of a plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。 - 特許庁

A plasma processing method includes a step of performing first plasma processing for a first layer A1 adsorbed on a substrate W under a first pressure P1 and a step of performing second plasma processing for a second layer A2 adsorbed on the first layer L1 for which the first plasma processing was performed under a second pressure P2 lower than the first pressure P2.例文帳に追加

本実施形態のプラズマ処理方法は、基板Ｗ上に吸着された第１層Ａ１に対して、第１圧力Ｐ１下で第１プラズマ処理を施す工程と、第１プラズマ処理を施された第１層Ｌ１上に吸着された第２層Ａ２に対して、第１圧力Ｐ１より低い第２圧力Ｐ２下で第２プラズマ処理を施す工程とを含む。 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a method, where a plasma can be uniformly generated.例文帳に追加

均一なプラズマを発生させることができるプラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of improving the in-plane processing uniformity.例文帳に追加

処理の面内均一性の向上を図ることのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

As a result, plasma processing of stable process quality is performed with high efficiency.例文帳に追加

これにより、効率よくしかも安定した処理品質のプラズマ処理を行うことができる。 - 特許庁

Different plasma processings are continuously carried out in the plasma processing chambers 7 and 12.例文帳に追加

複数のプラズマ処理室７，１２では連続して異なるプラズマ処理を行うことができる。 - 特許庁

This plasma processing apparatus comprises a meshed supporter for mounting, fixing, and conveying a porous material.例文帳に追加

多孔性素材を載置、固定又は搬送する多孔性支持体を有するプラズマ処理装置。 - 特許庁

To obtain a plasma processing apparatus which can prevent an inner surface of a container from wearing.例文帳に追加

容器の内面が損耗されることを防止し得るプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM AND METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁

To increase a throughput by reducing the transfer time of a substrate in a plasma processing system.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、基板搬送時間の低減によるスループット向上を図る。 - 特許庁

Thus deposition of the copper sulfide produced during the plasma processing process can be suppressed.例文帳に追加

これによりプラズマ処理過程で生成した硫化銅の付着を抑制することができる。 - 特許庁

The plasma processing device includes the chamber 4 constituted of an outer chamber 11 and an inner chamber 12.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、アウターチャンバ１１とインナーチャンバ１２からなるチャンバ４を備える。 - 特許庁

To efficiently use heat of a plasma radiation part to improve processing efficiency in plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理において、プラズマ照射部の熱を効率的に利用し、処理効率を高める。 - 特許庁

To provide a plasma processing device suppressing temperature rise in a processing chamber.例文帳に追加

処理室内の温度上昇を抑制することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To improve the quality of plasma processing by correctly measuring the surface temperature of an electrode plate.例文帳に追加

電極板の表面温度を正確に測定して、プラズマ処理の品質を向上させる。 - 特許庁