「フォトリソグラフィー」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

フォトリソグラフィーのための組成物および方法例文帳に追加

COMPOSITION AND PROCESS FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

フォトリソグラフィーのための組成物および方法例文帳に追加

COMPOSITION AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

フォトリソグラフィー用コーティング組成物例文帳に追加

COATING COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

フォトリソグラフィー工程用レチクル製作方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING RETICLE FOR USE IN PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS - 特許庁

フォトリソグラフィーシステム及び関連方法例文帳に追加

PHOTOLITHOGRAPHY SYSTEM AND RELATED METHOD - 特許庁

遠紫外線ドライフォトリソグラフィー例文帳に追加

FAR-ULTRAVIOLET RAY DRY PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

フォトリソグラフィー用フォトマスクおよびその製造方法例文帳に追加

PHOTOMASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

好ましくは、色変換膜はフォトリソグラフィー法により製造する。例文帳に追加

Preferably, the color conversion film is manufactured by a photo lithography method. - 特許庁

ペリクルフレーム、および該フレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル例文帳に追加

PELLICLE FRAME, AND PELLICLE FOR PHOTO-LITHOGRAPHY USING THE FRAME - 特許庁

ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル例文帳に追加

PELLICLE FRAME AND PELLICLE FOR PHOTO LITHOGRAPHY USING IT - 特許庁

及び、そのペリクルフレームを具備するフォトリソグラフィー用ペリクル。例文帳に追加

The pellicle for photolithography has the above pellicle frame. - 特許庁

スルホンアミド物質を含む組成物およびフォトリソグラフィー方法例文帳に追加

COMPOSITIONS COMPRISING SULFONAMIDE MATERIAL AND PROCESSES FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

半導体装置の製造方法およびフォトリソグラフィー方法例文帳に追加

MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND PHOTOLITHOGRAPHY METHOD - 特許庁

また、絶縁体のパターンをフォトリソグラフィー法により形成する。例文帳に追加

The patterns of the insulator are formed by a photolithography method. - 特許庁

ブロックコポリマーを含む組成物およびフォトリソグラフィー方法例文帳に追加

COMPOSITION CONTAINING BLOCK COPOLYMER AND PROCESS FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

フォトリソグラフィー法の実行過程での反射の影響の低減方法例文帳に追加

METHOD FOR DECREASING INFLUENCE OF REFLECTION IN EXECUTION PROCESS OF PHOTOLITHOGRAPHY METHOD - 特許庁

フォトリソグラフィー法によるパターン形成方法、およびパターン形成装置例文帳に追加

PATTERN FORMING METHOD BY PHOTOLITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING APPARATUS - 特許庁

スムーズなデジタル成分をデジタルフォトリソグラフィーシステムで作成するためのシステムおよび方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING SMOOTH DIGITAL COMPONENT BY DIGITAL PHOTO LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

フォトリソグラフィー工程でのマスクの重ね合わせ精度を正確にかつ再現性よく測定する。例文帳に追加

To measure the precision in superposition of masks in a photolithography process accurately regeneratively with high reproducibility. - 特許庁

ヘテロ置換された炭素環式アリール成分を含む組成物およびフォトリソグラフィー方法例文帳に追加

COMPOSITIONS CONTAINING HETERO-SUBSTITUTED CARBOCYCLIC ARYL COMPONENT AND PROCESSES FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

シリコンウェハー上にフォトリソグラフィーによるマスキングおよびエッチングにより穴を形成する。例文帳に追加

On a silicon wafer, holes are formed by masking by photolithography and by etching. - 特許庁

ウェハにフォトリソグラフィー処理を行い、レジストパターンを形成する（ステップＳ６）。例文帳に追加

Then, photolithographic processing is performed on the wafer to form a resist pattern (Step S6). - 特許庁

生産面積効率が高いクリーンルームを構成するフォトリソグラフィー工程設備を実現する。例文帳に追加

To provide photolithography stage facilities that constitute a clean room with high production area efficiency. - 特許庁

フォトリソグラフィー技術を用いることなく、ＩＣチップの裏面に放熱フィンを形成する。例文帳に追加

To form a radiating fin on a rear surface of an IC chip without using photo lithography. - 特許庁

光インプリント法，あるいはフォトリソグラフィー法により配線パターンを形成する。例文帳に追加

A wiring pattern is formed by the optical imprint method or the photolithography method. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程の簡素化を可能とするフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask which is capable of simplifying a photolithography process. - 特許庁

ウェハのフォトリソグラフィー工程における露光時のフォーカス条件設定を正確に行う。例文帳に追加

To exactly setting focusing conditions in exposure in a photolithographic process of a wafer. - 特許庁

ボウタイアンテナを比較的低レベルなフォトリソグラフィーを用いて製造する手法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a bow-tie antenna using relatively low-level photolithography. - 特許庁

混色や画素細りを防ぐフォトリソグラフィー法ＥＬ素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an electroluminescent element by photolithography preventing a color mix and a thinning down of pixels. - 特許庁

先ず、フォトリソグラフィー工程の終了したウェハ面内の線幅が測定される（Ｓ１）。例文帳に追加

First, the line width in a wafer plane after a lithographic step is measured (S1). - 特許庁

この方法を採用することにより、フォトリソグラフィー工程を省略することができる。例文帳に追加

By adopting the manufacturing method, a photolithography process can be eliminated. - 特許庁

ＥＵＶフォトリソグラフィー用マスクブランクの作製方法及びマスクブランク例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK FOR EUV PHOTOLITHOGRAPHY, AND MASK BLANK - 特許庁

絶縁膜８上に、フォトリソグラフィー法を用いてレジストマスク１１を形成する。例文帳に追加

A resist mask 11 is formed on the insulating film 8 by using a photolithographic method. - 特許庁

上記溝は、吐出口形成の工程においてフォトリソグラフィーを用いて、一括して形成する。例文帳に追加

The grooves are made collectively using photolithography in the process for forming the ejection openings. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程における処理条件の設定方法，フォトリソグラフィー工程における処理条件の設定装置，プログラム及びプログラムを読み取り可能な記録媒体例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS OF SETTING PROCESSING CONDITION IN PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS, PROGRAM AND PROGRAM-READABLE RECORDING MEDIUM - 特許庁

カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有するアミノ樹脂を含有するフォトリソグラフィー用組成物。例文帳に追加

The composition for photolithography contains an amino resin having carboxy groups and/or a phenolic hydroxyl groups. - 特許庁

フォトリソグラフィー用の露光装置のエキシマレーザー用の光学部品に好適な蛍石を提供すること例文帳に追加

To provide fluorite which is suitable as an optical component for excimer laser of an exposure device for photolithography. - 特許庁

ウェハのフォトリソグラフィー工程において，レジスト膜の下層に形成された反射防止膜を，レジスト膜に影響を与えないように除去する。例文帳に追加

To remove an antireflection film, formed under a resist film in photolithographic processes of a wafer, without influencing the resist film. - 特許庁

この溝部は、ホログラムパタ−ン３を形成するフォトリソグラフィー工程およびエッチング工程において形成することができる。例文帳に追加

The grooves can be formed in a photolithographic step and an etching step of forming the hologram pattern 3. - 特許庁

補正された加熱温度のＰＥＢ処理を含むフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上にレジストパターンを形成する（ステップＳ５）。例文帳に追加

Photolithographic processing including PEB processing of the corrected heating temperature is performed to form a resist pattern on the wafer (a step S5). - 特許庁

音響装置は金属製の励起アンテナを圧電基板上にフォトリソグラフィーで堆積することにより製造する。例文帳に追加

The acoustic device is fabricated by photolithographically depositing a metallic exciting antenna on the piezoelectric substrate. - 特許庁

半導体素子の製造方法、半導体素子、フォトレジストパターン洗浄方法及びフォトリソグラフィー方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR CLEANING PHOTORESIST PATTERN AND PHOTOLITHOGRAPHIC METHOD - 特許庁

フォトリソグラフィー法によりパターン形成可能で、耐熱性に優れる新規なマレイミド系樹脂を提供すること。例文帳に追加

To provide a new maleimide-based resin which forms patterns by photolithography and has an excellent heat resistance. - 特許庁

フォトリソグラフィー用の露光装置は、蛍石からなるレンズを有する光学系と、露光される基板を保持するステージとを備えている。例文帳に追加

The aligner for photolithography includes the optical system having at least one lens made of the fluorite and a stage for holding a substrate being exposed. - 特許庁

フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いることなく、開口部を金属層で選択的に埋め込む。例文帳に追加

To selectively fill up openings with metallic layers without using photolithographic technique nor etching technique. - 特許庁