「フォトリソグラフィー」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

フォトリソグラフィー技術の解像寸法制限を受けること無く、微細な記録トラック幅を持つ複合型磁気ヘッドを再現性良く提供する。例文帳に追加

To provide a composite magnetic head with satisfied reproducibility having the fine recording track width without being restricted in the resolving dimension of photo-lithographic technology. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程排水に疎水性官能基を有するカチオン性有機高分子凝集剤を添加した後、固液分離処理を行う。例文帳に追加

The method includes performing a solid-liquid separation treatment after adding a cationic organic polymer flocculant having a hydrophobic functional group to the waste water from a photolithography process. - 特許庁

第２配線層５を形成するために用いられている第１絶縁層３は、レジスト、フォトリソグラフィーを用いないで形成される。例文帳に追加

The first insulating layer 3 used for the formation of the second wiring layer 5 is formed without the use of resist and photolithographic technique. - 特許庁

２５０ｎｍ以下の紫外線を使用するフォトリソグラフィー用レジスト組成物および該組成物用ポリマーを与えること。例文帳に追加

To provide a photolithographic resist composition using an ultraviolet radiation of ≤250 nm and a polymer for the composition. - 特許庁

基材１上に、フォトリソグラフィーあるいはインクジェットやプランジャ等の液滴吐出によってカラーフィルタ１１を形成する。例文帳に追加

A color filter 11 is formed on a substrate 1 by photolithography or ink jet or droplet discharge by a plunger or the like. - 特許庁

導電部と絶縁部とが設けられている場合に、フォトリソグラフィー技術を用いずに絶縁部のみに選択的に有機薄膜を残存させる。例文帳に追加

To selectively leave an organic thin film only in an insulation part, without employing photolithographic technique, when a conductive part and an insulation part are provided. - 特許庁

フォトリソグラフィー法及びエッチング法を用いることなく導電層間を接続することができる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can connect between conductive layers without using the photolithography method and the etching method. - 特許庁

金属箔１１’の上面側のＲａも同様に規定するもとにより、フォトリソグラフィーを利用する際の真空引きの作業効率が向上する。例文帳に追加

When Ra on the upper surface side of the metal foil 11' is set similarly, evacuation work efficiency is enhanced when photolithography is utilized. - 特許庁

従来のフォトリソグラフィーを用いた技術では製造することが困難であった磁極幅の小さな薄膜磁気ヘッドを実現する。例文帳に追加

To realize a thin-film magnetic head, having a small magnetic pole width, which is difficult to be manufactured by the technology using conventional photolithography. - 特許庁

励振電極４２、４３は、フォトリソグラフィー法を用いて両主面４１１、４１２上に形成される。例文帳に追加

The exciting electrodes 42 and 43 are formed on both the principal surfaces 411 and 412 using photolithography techniques. - 特許庁

Ａｌ膜１３上にレジスト膜１４を形成して、フォトリソグラフィー法によりパターニングして開口部１４ａを形成する。例文帳に追加

A resist film 14 is formed on the Al film 13, and patterned by a photo lithography method, and an opening 14a is formed. - 特許庁

フォトリソグラフィーレチクル等の基板上に配置された金属層をエッチングする方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for etching a metal layer disposed on a substrate such as a photolithographic reticle. - 特許庁

余分なフォトリソグラフィー工程を省略し高生産性を実現すると同時に高品質の多層薄膜を実現できるようにする。例文帳に追加

To achieve high productivity by eliminating an excessive photo lithography process and to simultaneously achieve a high-quality multi-layered thin film. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程を削減するとともに、活性領域の縮小により半導体装置の集積度を高める。例文帳に追加

To curtail a photolithography process and to enhance the integration of a semiconductor device by the reduction of an active area. - 特許庁

フォトリソグラフィー／エッチングプロセスを実施して導体層の一部およびバリヤ層の一部をポリシリコン層が露出するまで除去する。例文帳に追加

A part of the conductor layer and a part of the barrier layer are removed until the polysilicon layer is exposed, by executing a photolithographic/ etching process. - 特許庁

フォトマスクへの貼付後に剥離が容易なペリクルフレーム、及びそのペリクルフレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクルを提供する。例文帳に追加

To provide a pellicle frame which is easily released after being stuck to a photomask, and a pellicle for photolithography, which uses the pellicle frame. - 特許庁

位相シフトマスクにおける点に対応する光強度の最小を形成するためのフォトリソグラフィー方法および装置が説明されている。例文帳に追加

A photolithographic method and an apparatus are described for forming the minimum of light intensity corresponding to a point in a phase shift mask. - 特許庁

フォトリソグラフィーが、第２の補強層の形成前にノズルを覆うトレンチを画成するため使用される。例文帳に追加

Photolithography is used to define a trench that covers the nozzles prior to formation of a second reinforcing layer. - 特許庁

そして、フォトリソグラフィー技術を使用して、バイポーラ型素子形成領域以外の領域にフォトレジスト膜１３を形成する。例文帳に追加

Then, a photoresist film 13 is formed employing a photolithographic technique in an area except a bipolar element forming area. - 特許庁

有機ＥＬ画素毎に異なる層厚の透明層を、フォトリソグラフィー工程を複数回繰り返すことなく形成する。例文帳に追加

To form transparent layers different in layer thicknesses among organic EL pixels without repeating photolithography processes several times. - 特許庁

ソルダーレジストは、エリクセン値が１．５〜１０．０、破断伸び率が２．０〜３５％であって、フォトリソグラフィー手法の採用が可能である。例文帳に追加

The solder resist has an Erichsen value of 1.5-10.0 and a breakdown elongation of 2.0-35%, and allows the photolithography technique to be employed. - 特許庁

フォトリソグラフィーによるパターン加工に対応でき、高反射率の樹脂組成物が得られるペースト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a paste composition capable of matching pattern working by photolithography and obtaining a resin composition of high reflectance. - 特許庁

補正後、フォトリソグラフィー処理とエッチング処理を行い、ウェハ上の被処理膜に所定のパターンを形成する（ステップＳ９、Ｓ１０）。例文帳に追加

After the correction, photolithography processing and etching processing are carried out to form the predetermined pattern on the film to be processed on the wafer (steps S9, S10). - 特許庁

フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れた電鋳型とその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electroforming mold which is produced according to a photolithography and is excellent in the fineness and aspect ratio, and to provide a method of producing the electroforming mold. - 特許庁

フォトリソグラフィーを用いた半導体装置の製造において、金属膜とレジスト膜との密着性を一層向上し、レジストの剥がれを防止する。例文帳に追加

To improve adhesion between a metallic film and a resist film and prevent resist from peeling in manufacturing of a semiconductor device using photolithograpy. - 特許庁

露光領域の調整ができるシャッターセットを有するフォトリソグラフィーシステム及びその関連方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photolithography system having a shutter set capable of adjusting an exposure region, and a related method. - 特許庁

ゲート配線１０２の形成を含め、４回のフォトリソグラフィー工程で、液晶表示装置の画素部及び端子部が作製される。例文帳に追加

The pixel and terminal of a liquid crystal display can be manufactured in four-time photolithography steps including the formation of a gate wiring 102. - 特許庁

少数のフォトリソグラフィー工程により製造でき、しかも適切な高さのスペーサ台座を備える液晶表示装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display device which can be manufactured through few photolithography steps and includes a spacer pedestal having suitable height. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程とエッチング工程の回数を減らし、製造時間の短縮化と低コスト化を図る。例文帳に追加

To decrease the number of steps in a photolithographic process and an etching process, leading to reduction in manufacturing time and cost. - 特許庁

この方法により、従来フォトリソグラフィーにより行なっていた一連のマスク形成工程が不要となる。例文帳に追加

By this method, a series of mask formation processes done by photolithography are made unnecessary. - 特許庁

この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。例文帳に追加

The holder 10 is used for hot curing of a resin for photolithography at a coater developer or for hot baking of a semiconductor insulating film. - 特許庁

ウェーハ製造におけるフォトリソグラフィープロセス中にウェーハ上に向けられる照明レベルを簡易かつ正確に測定するシステムの提供。例文帳に追加

To provide a system that easily and accurately measures the illumination levels that are directed on wafers during a photolithography process in wafer fabrication. - 特許庁

フォトリソグラフィー法を用いずに、簡単な設備によりファインパターンを有する印刷配線板を製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a printed wiring board having a finder pattern by making use of simplified facility without the use of a photolithographic process. - 特許庁

そして、その裏側に、レジスト３を塗布し、金属薄膜を形成する部分を残して、フォトリソグラフィープロセスにより除去する（ｂ）。例文帳に追加

On the back side of it, resist 3 is applied, and it is removed by a photolithography process except for a part for forming a metal thin film (b). - 特許庁

この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。例文帳に追加

The holder 10 is used to the thermal curing of resin for photolithography in a coater developer and the heat baking of a semiconductor insulating film. - 特許庁

次に、このサイドウォール酸化残り１４を除去するために、セル部の酸化膜パターンを保護するフォトリソグラフィー工程を行う。例文帳に追加

Then, in order to remove the sidewall oxidized film remainder 14, a photolithographic process for protecting the oxidized film pattern of a cell part is performed. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程の回数を減らしたセルフアライン工程による炭化珪素半導体装置の製造方法を得る。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a silicon carbide semiconductor device by self alignment process, for which the number of times of a photolithographic process is reduced. - 特許庁

分散法やフォトリソグラフィー法による方法よりも、製造コストを低減できる液晶表示装置製造方法を提供する。例文帳に追加

To decrease the production cost than a dispersion method or photolithographic method. - 特許庁

簡便な方法で、十分な処理効果を得ることができるフォトリソグラフィー工程排水の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating waste water from a photolithography process with a simple method and obtainable of a sufficient treatment effect. - 特許庁

カラーフィルタのスペーサ、サブスペーサ、リブを一工程のフォトリソグラフィーで高品質に形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a spacer, a sub-spacer and a rib of a color filter by one step of photolithography so that each of them has a high quality. - 特許庁

フォトリソグラフィー法を用いずに酸化物微細構造体および磁気記録媒体を容易に製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an oxide microstructural body and a magnetic recording medium with ease without using a photolithography method. - 特許庁

ゲート配線１０２と端子の形成を含め、４回のフォトリソグラフィー工程で、液晶表示装置の画素部及び端子部が作製される。例文帳に追加

The pixel and terminal of a liquid crystal display can be manufactured in four photolithographic steps including the formation of gate wiring 102 and the terminal. - 特許庁

フォトリソグラフィーを使わない簡単なプロセスで凹凸パターンを形成することのできるオーサリング用光記録媒体を提供する。例文帳に追加

To provide an optical recording medium for authoring in which a rugged pattern is formed by a simple process without using photo-lithography. - 特許庁

四角枠状の不透明領域１４が形成された封止基板１２上に、フォトリソグラフィーによって、二重枠状のピラー７０を形成する。例文帳に追加

On a sealing substrate 12 in which a rectangular frame-like non-transparent region 14 has been formed, double frame-like pillars 70 are formed by photolithography. - 特許庁

フォトリソグラフィーを実用的なスループットと小さな解像度によって行なうための露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner and an exposure method for carrying out photolithography by practical throughput and small resolution. - 特許庁