「フォトリソグラフィー」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

凹凸状のマイクロレンズをフォトリソグラフィーによって決まる高い配列精度及び形状精度で形成することができるマイクロレンズの形成方法及びマイクロレンズ形成用材料を得る。例文帳に追加

To provide a method for forming microlenses capable of forming concave-convex microlenses with high accuracy of alignment and high accuracy of form determined by photolithography and to obtain a microlens forming material. - 特許庁

有機複屈折膜１８上にポジレジストを塗布し、フォトリソグラフィーにより周期的な回折格子を完成させる（このとき加熱（プリベーク，ポストベーク））。例文帳に追加

The membrane 18 is coated with positive resist, and a periodical diffraction grating is completed by photolithography {at such a time, heating (pre-baking, post-baking) is performed}. - 特許庁

低濃度アルカリ水溶液による現像性に優れ、且つ工程中での組成物の安定性が極めて良く、実用性の高いフォトリソグラフィー用組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a composition for photolithography excellent in suitability to development with a dilute aqueous alkali solution and having very good stability in a process and high practicality. - 特許庁

このような反射面２１は、上記の方法で処理した空間分布データから、グレイマスクを作成し、フォトリソグラフィー技術により量産できる。例文帳に追加

The reflecting surface 21 can be mass-produced by preparing a gray mask from the spatial distribution data processed by the above method and by using photolithographic techniques. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程における各処理を高スループットで実施した場合でも、高い信頼性が得られる基板処理システムおよび基板搬送方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate processing system and a substrate conveying method which can obtain high reliability, even if each processing in a photolithographic process is executed at a high throughput. - 特許庁

基板２に対して気相成長法、フォトリソグラフィー法、エッチング法等を施すことによって複数のトランジスタ７，８，９を基板２上にパターニングする。例文帳に追加

Patterning of a plurality of transistors 7, 8 and 9 is performed on a substrate 2 by applying a vapor phase growth method, lithography method and etching method or the like. - 特許庁

短波長で高出力の光を長期間繰り返し照射した場合であっても、透過率特性が劣化し難い蛍石、それよりなる光学部品及び該光学部品を用いたフォトリソグラフィー用の露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide fluorite whose transmissivity property hardly deteriorates even when it is repeatedly irradiated with light having a short wavelength and a high output, an optical component obtained by using the same, and an exposure apparatus for photolithography using the optical component. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程時、露光後に現像工程でフォトレジスト膜と同時に現像される反射防止膜の製造に適した組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a composition suitable for producing an antireflection film which is developed simultaneously with a photoresist film in a developing step after exposure in a photolithography process and to provide a method for forming patterns in a semiconductor device using the same. - 特許庁

半導体装置のフォトリソグラフィー用反射防止ＳｉＯＮ膜の成膜後のＫｒＦレーザ光吸収特性を安定化できる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, by which photolithograpy antireflection SiON film can be kept stable in KrF laser beam absorption characteristics after it is formed. - 特許庁

本発明は、半導体及び他の電子デバイスの製造を含むフォトリソグラフィープロセスのために有用である、有機コーティング組成物に関する。例文帳に追加

This invention relates to an organic coating composition which is useful for a photolithography process including the manufacture of a semiconductor and other electronic devices. - 特許庁

また、この微細で複雑な立体構造体を備えた反射パネルは、空間分布データを作成し、これに基づいてグレイマスクを作成し、フォトリソグラフィー技術により量産できる。例文帳に追加

Such reflective panels each having the fine complex three-dimensional structure can be mass-produced by forming space distribution data, forming a gray mask on the basis of the data and using photolithography. - 特許庁

フォトリソグラフィー技術を用いて、正確性を十分確保しつつも最小限の手間で広い被露光面に微細な所望のパターンを高いスループットをもって投影露光する。例文帳に追加

To execute projection exposure of fine desired patterns with high throughput on a wide surface to be exposed with the least possible labor while assuring sufficient exactness by using a photolithography technique. - 特許庁

ｐ型コンタクト層１０５ｂの上方に位置する金（Ａｕ）から成る膜厚約２００ｎｍの第２金属層１０６ｃの上には、フォトリソグラフィーを用いたリフトオフ法にしたがって、本発明の酸化防止膜Ｓを形成する。例文帳に追加

An inventive anti-oxidation film S is formed on a second metal layer 106c of gold (Au) having a thickness of about 200 nm and located above a p-type contact layer 105b by lift-off method employing photolithography. - 特許庁

フォトリソグラフィーの回数を減らすことが可能で、かつ立体的な構造のパターニングが容易な粒子移動型表示素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a particle transfer type display element with which the frequency of photolithography is reduced, and patterning of a three-dimensional structure is made easy. - 特許庁

大判の基板に電極分割構造としての隔壁を作成する場合も一様に電極を分割でき、フォトリソグラフィー法に比較して低コスト化を図ることを可能にする。例文帳に追加

To achieve lower cost compared with a photolithography method by enabling the uniform division of an electrode even if a separating wall is formed as an electrode dividing structure at a large size substrate. - 特許庁

真空深紫外線領域でのフォトリソグラフィー手法によるパターニング技術において、パターン端が所望通りに綺麗に露光でき、もって微細なパターンを正確に描画できる簡便な手法の確立が課題である。例文帳に追加

To provide a simple and easy method by which pattern edges can be sharply exposed at a user's request in a patterning technique by photolithography in the vacuum deep UV region, therefore a fine pattern can be accurately formed. - 特許庁

特定の時間に正確な位置によって規定される軌道に沿った移動とする産業処理、例えばフォトリソグラフィーにおいて、これらのプロセスを統制する、効率的かつ正確な補間技術を提供する。例文帳に追加

To provide efficient and accurate interpolation techniques for controlling processes in industrial processing of movement along with an orbit specified at a specific time by an accurate position, for example, in photo lithography. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程のうち露光工程により露光部から発生した酸が非露光部に拡散されることを防ぐためのフォトレジスト単量体、その共重合体及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photoresist monomer for preventing the acid generated by an exposed part by an exposing process in a photolithography step from migrating into an unexposed part, and further to provide a copolymer of the monomer and a photoresist composition containing the copolymer. - 特許庁

ＷＬＰ製造工程にフォトリソグラフィーを完全に排除した金属被着方法を採用したＷＬＰ半導体回路およびその製造方法を課題とする。例文帳に追加

To provide a WLP semiconductor circuit and a manufacturing method of the same which employs a metal deposition method fully excluding photolithography in a WLP manufacturing process. - 特許庁

半導体のフォトリソグラフィー技術により組立工程なしに樹脂の三次元構造体がバッチ処理で作成できるため、樹脂デバイスの微小化や複雑化が容易に行え、低コスト化がはかれる。例文帳に追加

A semiconductor photolithography technique can prepare by batch treating three-dimensional structure of resin without an assembly process to thereby facilitate microminiaturization and complication of a resin device and reduce cost. - 特許庁

フォトリソグラフィーのプロセスマージンを確保すると共に、ゲート電極とコンタクトプラグとの短絡が生じにくい半導体装置の製造方法を実現できるようにする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device hardly causing a short circuit between a gate electrode and a contact plug while securing a process margin of photolithography. - 特許庁

切れ目６によって分断されて破線状に形成されている転写用開口５を有するマスクを素子基板に重ね合わせて、フォトリソグラフィーや電子線リソグラフィーによってエッチングする。例文帳に追加

A mask having transfer apertures 5 divided by cut lines 6 and formed like broken lines is superposed to an element substrate and etched by photolithography or electron beam lithography. - 特許庁

フォトリソグラフィーにおけるフォーカスマージンを大きくし、プロセス揺らぎの寸法変動への影響を大幅に緩和して、比較的容易に精度良く所期の微細且つ高集積の転写パターンを得る。例文帳に追加

To relatively easily obtain a predetermined fine and high integration transfer pattern with high accuracy by increasing a focus margin in photolithography and significantly reducing influences of process fluctuation on dimensional variation. - 特許庁

回路基板における配線パターンを、焼付電極やフォトリソグラフィーのような煩雑な工程を経ることなく、直接無電解めっきをパターン状に行うことにより、簡単に形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for easily forming a circuit pattern on a circuit board by directly non-electrolytically plating a circuit pattern without using complicated processes, such as baking electrodes and photolithography. - 特許庁

フォトリソグラフィーによる微細パターン加工に対応でき、さらには急性毒性を有しない分散媒を用いて、高屈折率の透明複合膜が得られるペースト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a paste composition, which is applicable to minute pattern processing based on photolithography, and using a dispersion medium having no acute toxicity, can obtain a transparent composite membrane with a high refractive index. - 特許庁

フォトレジスト組成物、該組成物を使用したフォトレジストパターンを形成する方法、パターン化樹脂組成物及びフォトリソグラフィーの形成方法を提供する例文帳に追加

To provide a photoresist composition, a method for forming a photoresist pattern using the composition, a patterned resin composition, and a method for forming a photolithography. - 特許庁

余分なフォトリソグラフィー工程を省略し高生産性を実現すると同時に高品質の多層薄膜を実現することができる透明導電膜のパターニング方法を提供することを目的とする例文帳に追加

To provide a method for patterning a transparent conductive film by which an excessive photo lithography step can be eliminated, high productivity be realized, and a high-quality multilayer thin film be also realized. - 特許庁

追加層を堆積することなく、化学増幅型フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー技術にて、レジストパターンを精度良く、かつ良好な形状に形成できる半導体装置及びその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor device where a resist pattern can precisely be formed in a sufficient shape by photolithography using chemical amplification-type photoresist without depositing an addition layer, and to provide a manufacturing method of the device. - 特許庁

動圧軸受の内孔壁の微細な溝の加工の困難度を改善することができ、より良い耐磨耗性を有するフォトリソグラフィー技術を用いた動圧軸受とその製造方法する。例文帳に追加

To provide a hydrodynamic bearing using a photo-lithography having excellent wear resistance which is capable of improving the difficulty in working a very small groove in an inner hole wall of the hydrodynamic bearing, and its manufacturing method. - 特許庁

上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

At least one organic EL layer constituting an EL element is patterned by a photo lithography method. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程の節減、LDD領域の幅調節の容易化と積層された薄膜の平坦化を図れる薄膜トランジスターの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a thin film transistor whereby reduction in the photolithography step, facilitation of the width adjustment of LDD regions, and planarization of laminated thin films can be devised. - 特許庁

高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層を、フォトリソグラフィー法により同一の材料を用いて、かつ同時に製造することができる高低パターン層形成体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a pattern layer formed body with high and low levels by which a pattern layer of various levels including a combination of patterns of various levels can be manufactured simultaneously by using one material by a photo lithographic method. - 特許庁

ノズルの走査方向に対して交差する部分の隔壁に塗着した蛍光体層をフォトリソグラフィーによって除去する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。例文帳に追加

The method of manufacturing a plasma display panel includes the step of removing a portion of the phosphor layer applied to a portion of the barrier rib intersecting the scanning direction of the nozzle by photolithography. - 特許庁

フォトリソグラフィー法を用いて有機ＥＬ層をパターニングする有機ＥＬ素子の製造方法であって、欠陥がなく、安定性、信頼性の高い有機EL素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an organic EL element to make a patterning of an organic EL layer using a photolithography method, having no defect and having a high safety and reliability. - 特許庁

絶縁膜３４に密着層３５をパターニングし、フォトリソグラフィー法によりレジスト５２をパターニングし、インクジェットヘッドからレジスト５２の開口にむけて金属ナノインクを吐出する。例文帳に追加

An adhering layer 35 is patterned on an insulating film 34, a resist 52 is patterned by photo lithography method and metal nano ink is ejected toward an opening of the resist 52 from an ink jet head. - 特許庁

インプリント技術やフォトリソグラフィー技術を用いて回路パターンを形成するためには、下地に金属膜を形成し、さらにエッチング工程を必要とする。例文帳に追加

To form a metallic film on a base, and to require an etching process in order to form a circuit pattern by using an inprint technology or a photolithography technology. - 特許庁

そして、電極形成工程により、隔壁３に電極層を斜方蒸着して隔壁３を被覆し、隔壁側に配置される第２電極７を形成することにより、フォトリソグラフィーの回数を減らすようにする。例文帳に追加

The frequency of photolithography is reduced by obliquely depositing an electrode layer on the partition walls 3 to coat the partition walls 3 and forming a second electrode 7 to be disposed on the partition wall side by an electrode forming step. - 特許庁

保管、輸送、操作中において収納するペリクルの汚損を防止して品質を維持することのできるフォトリソグラフィー用ペリクル収納容器を提供すること。例文帳に追加

To provide a pellicle storage container for photolithography that prevents contamination of a stored pellicle and maintains the quality during storage, transportation and operation. - 特許庁

このような感光性組成物を用いることにより、リフトオフ法やフォトリソグラフィー法により、ＰＤＰの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターンなどの所望の焼成物パターンを生産性良く形成できる。例文帳に追加

When the photosensitive paste composition is used, the desired fired body patters such as the partition wall pattern, dielectric pattern and electrode pattern of PDP can be formed with good productivity. - 特許庁

ＣＡＤツールを用いて、フォトリソグラフィーにおいて、フォトマスクの補正パターンを発生させる方法において、補正パターンを発生させる際にデータ処理量を軽減させる。例文帳に追加

To decrease the amount of data processing when a correction pattern is produced in the method of producing a correction pattern of a photomask by photolithography by using CAD tools. - 特許庁

本発明は、フォトリソグラフィー技術を用いる場合において、基板端部のフォトレジストを確実に除去することができる電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and method of manufacturing an electrooptical device, capable of surely removing photoresist on a substrate end part, when using a photolithographic technique. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程数を増加させることなく、膜厚の異なるゲート酸化膜を形成できるＥＰＲＯＭ等の半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device such as EPROM wherein gate oxide films of different film-thickness are formed with no increase in photolithography processes. - 特許庁

フォトリソグラフィーを用いることなく高密度、微小配線を提供することが可能であるウェハレベル、チップスケール半導体デバイスパッケージング組成物、およびこれに関する方法を提供する。例文帳に追加

To provide wafer level, chip scale semiconductor device packaging compositions capable of providing high density, small scale circuitry lines without the use of photolithography, and a method relating thereto. - 特許庁

ブラックマトリックスの存在とフォトリソグラフィーの位置合わせずれにより発生する諸問題を解決するためのカラーフィルター及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a color filter for resolving problems caused by the presence of black matrix and the deviation of alignment in photolithography, and to provide a manufacture method thereof. - 特許庁

フォトリソグラフィーにより導電膜３６や強誘電体膜３２をパターニングする際に、露光入射光が色々な方向に反射することなく、設計通りの所望のパターンを形成することができる。例文帳に追加

When the conductive film 36 or the ferroelectric film 32 is subjected to patterning through lithography, exposure incident light is never reflected in various directions, so that a desired pattern can be formed as designed. - 特許庁