inprintとは 意味・読み方・使い方

The inprint of the ferroelectric capacitors in the ROM area is advanced by the baking process, and the read-out margin being the difference in residual polarized values of the ferroelectric capacitances is increased.例文帳に追加

ベーク処理によりＲＯＭ領域の強誘電体キャパシタ対のインプリントが進み、強誘電体キャパシタ対の残留分極値の差である読み出しマージンは大きくなる。 - 特許庁

To provide a production method of excellent productivity for a micro-fine resin structure, can restrain a transfer pattern from being damaged, when transferring micro-fine structure from a resin mold by a nano-inprint method.例文帳に追加

樹脂製モールドからナノインプリント法により微細構造を転写する際に、転写パターンへの損傷を抑制し、生産性に優れた微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A beverage feeder having an absorption column filled with an absorber ( a molecule inprint polymer, active carbon or the like) for removing purine alkaloids and removing the purine alkaloids by passing a purine alkaloid-containing solution through the column is provided.例文帳に追加

脱プリンアルカロイドのための吸着剤（分子インプリントポリマー、活性炭等）がカラムに充填され、プリンアルカロイド含有水溶液をこのカラムに通液することにより、脱プリンアルカロイドすることを特徴とする飲料供給器。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter by a nano-inprint process method with excellent productivity and with high precision by using a die having a reversed pattern of a fine projecting and recessing pattern to generate structural colors of R (red), G (green), and B (blue).例文帳に追加

Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型を用いて、ナノインプリントプロセス法によりカラーフィルタを優れた生産性で精度良く製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a rugged pattern forming method in a nano inprint processing method useful for forming an electronic device, an optical component, a recording medium and the like, and capable of manufacturing such finely patterned products at low cost and high speed.例文帳に追加

電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce or eliminate the inprint effect of ferroelectric devices such as capacitive elements and memory cells without exposing the devices to a too high temperature and ultraviolet light or without conducting a post-annealing process.例文帳に追加

強誘電体素子を過大な温度にさらしたり、紫外光にさらしたり、あるいはポストアニーリング処理を行ったりすることなく、容量素子やメモリセルなどの強誘電体素子におけるインプリント効果を少なくしあるいはなくす。 - 特許庁

The rays of light are irradiated to the back face of a transparent substrate 3 on which an inprint resin pattern 8 is formed, and a conductor pattern (optical CVD film pattern 6) is selectively formed only in a concave section of the resin pattern 8 by an optical CVD method.例文帳に追加

本発明は、インプリントされた樹脂パターン８が形成された、透明な３基板の背面から光を照射し、光ＣＶＤ法により樹脂パターン８の無い凹部にだけ選択的に導体パターン（光ＣＶＤ膜パターン６）を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a substrate, in which a desired fine uneven structure having a comparatively large area can be formed on a surface of the substrate, by paying attention to mask formation by a nano-inprint process allowing a mask having a comparatively large area to be obtained and chemical etching allowing a large area to be processed.例文帳に追加

比較的大面積化が可能なナノインプリントプロセスによるマスクの形成と、大面積の処理が可能な化学エッチングとに着目することで，基板の表面に比較的大面積の所望の微細凹凸構造を形成可能な方法を提供する。 - 特許庁