「レジスト除去」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

基板とレジスト膜との剥離を促進させることにより、基板からのレジスト膜の除去をより確実なものとし、さらに、基板から剥離したレジスト膜と基板との再密着を抑制するレジスト膜の除去方法及びレジスト膜除去装置を提供する。例文帳に追加

To provide a resist film removing method and resist film removing apparatus which can make the removal of a resist film from a substrate more certain by promoting the delamination of the resist film from the substrate and can suppress the reattachment of the substrate and the resist film delaminated from the substrate. - 特許庁

その後、硬化ポジ型フォトレジスト５を除去する（図１（ｈ））。例文帳に追加

Thereafter, the hardening positive type photoresist 5 is eliminated (Fig.h). - 特許庁

つづいて、アミン系剥離液を用いてフォトレジスト膜を除去する（Ｓ２０）。例文帳に追加

Subsequently, the photoresist film is removed using an amine system peeling liquid (S20). - 特許庁

イオン注入によりカーボン層が形成されたレジストの除去方法例文帳に追加

METHOD OF REMOVING RESIST ON WHICH CARBON LAYER IS FORMED BY ION IMPLANTATION - 特許庁

続いて、フォトレジストをＮ_２／Ｈ_２プラズマを用いて除去する（工程２）。例文帳に追加

The photoresist is removed by using N_2/H_2 plasma (process 2). - 特許庁

その後、レジストとクロム膜を除去してフォトマスク２０３を製造する。例文帳に追加

Then, the resist and the chromium film are removed to manufacture a photo mask 203. - 特許庁

このとき、レジスト層は、オゾン含有水で処理することにより除去される。例文帳に追加

The resist layer is removed by treating with ozone-containing water. - 特許庁

レジストを除去した後に、導波路リッジ頂部に電極を形成する。例文帳に追加

After removing the resist, an electrode is formed on the waveguide ridge top. - 特許庁

その後、レジスト膜７、反射防止膜６、酸化膜５を除去する。例文帳に追加

Thereafter, the resist film 7, the antireflection film 6, and the oxide film 5 are removed. - 特許庁

レジスト膜、シリコン窒化膜Ｎ及び犠牲膜Ｇを除去する（図７（ｈ））。例文帳に追加

The resist film, silicon nitride film N and sacrifice film G are removed (Fig.7(h)). - 特許庁

シンナー組成物及びこれを用いたフォトレジストの除去方法例文帳に追加

THINNER COMPOSITE AND PHOTORESIST REMOVAL METHOD USING THE SAME - 特許庁

フォトエッチングにおけるフォトレジストの除去方法及び装置例文帳に追加

PHOTORESIST REMOVING METHOD AND PHOTORESIST REMOVING DEVICE FOR PHOTOETCHING - 特許庁

その後、無機レジスト膜を第２の金属膜と共に除去する。例文帳に追加

Thereafter, the inorganic resist film is removed together with the second metal film. - 特許庁

つぎに、ヒータ電極パターン（３５）上の残留レジスト（４５）を除去する。例文帳に追加

Then, the remaining resist (45) on the heater electrode pattern (35) is removed. - 特許庁

オゾンの選択的分解反応を誘導するレジスト除去用組成物例文帳に追加

RESIST REMOVER COMPOSITION FOR INDUCING SELECTIVE DECOMPOSITION OF OZONE - 特許庁

基板からフォトレジストを除去するための装置及び方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING PHOTORESIST FROM SUBSTRATE - 特許庁

そして、メンブレン部３から保護フィルム５とレジスト６を除去する。例文帳に追加

Then, the protection film 5 and the resist 6 are removed from the membrane 3. - 特許庁

第１レジストパターン及び露出された誘電体層を除去する。例文帳に追加

The first resist pattern and the exposed dielectric layer are removed. - 特許庁

基板からフォトレジストを除去するための装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for removing photoresist from a substrate. - 特許庁

絶縁層形成後、レジストを除去し、上部電極層を作製する。例文帳に追加

After forming an insulating film, the resist is removed, and an upper electrode layer is made. - 特許庁

その後、光吸収層２およびフォトレジスト層３を除去する。例文帳に追加

The light-absorbing layer 2 and the photoresist layer 3 are then removed. - 特許庁

次に、アッシングによりフォトレジストマスク２４を除去する。例文帳に追加

Then the photoresist mask 24 is removed by ashing. - 特許庁

エッチング後、フォトレジスト材料を溶媒により除去する。例文帳に追加

After etching, the photoresist material is removed by a solvent. - 特許庁

その後レジスト層２６を除去し、電磁波シールド材２０を得る。例文帳に追加

Thereafter, the resist layer 26 is removed, and the electromagnetic wave shielding material 20 is obtained. - 特許庁

フォトレジストの除去速度を増加するプラズマアッシング方法例文帳に追加

PLASMA ASHING PROCESS FOR INCREASING PHOTORESIST REMOVAL RATE - 特許庁

結晶状態となった領域の無機レジスト膜を除去する。例文帳に追加

The inorganic resist film of the region turned to the crystal state is removed. - 特許庁

光学的透明膜２の表面から、レジストカバー５１を除去する。例文帳に追加

The resist cover 51 is removed from the surface of the optically transparent film 2. - 特許庁

レジスト膜の除去性能を容易に高めることができるようにする。例文帳に追加

To easily enhance a resist film removing performance. - 特許庁

レジスト除去用洗浄液および半導体装置の製造方法例文帳に追加

CLEANING LIQUID FOR REMOVING RESIST AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

アルカリ現像装置に付着したレジストを迅速に、効率良く除去する。例文帳に追加

To quickly and efficiently remove a resist depositing on an alkali developing apparatus. - 特許庁

アッシング処理により第１のレジストマスクが除去される。例文帳に追加

A resist mask is removed by ashing treatment. - 特許庁

レジストパターンの除去方法及び半導体装置の作製方法例文帳に追加

METHOD OF REMOVING RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

該レジスト除去工程以降において、該陽極層は大気に曝さない。例文帳に追加

The positive electrode layer will not be exposed to the atmosphere after the resist removing process. - 特許庁

この後、厚膜レジスト１０を除去し、半導体チップを実装する。例文帳に追加

After this, the thick resist 10 is removed, and a semiconductor chip is mounted. - 特許庁

フォトレジスト・マスクにおける現像に関連する欠陥を除去する方法例文帳に追加

METHOD OF REMOVING DEFECT RELEVANT TO DEVELOPMENT USING PHOTORESIST MASK - 特許庁

レジストの除去方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR REMOVING RESIST, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

電子部品用基材の製造方法及びそれに用いるレジスト除去剤例文帳に追加

PRODUCTION OF BASE MATERIAL FOR ELECTRONIC PARTS AND RESIST REMOVING AGENT USED FOR THE METHOD - 特許庁

半導体装置の製造方法およびレジスト除去用洗浄装置例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND CLEANING DEVICE FOR REMOVING RESIST - 特許庁

使用済レジスト用剥離液中のシアン化合物の除去方法例文帳に追加

METHOD OF REMOVING CYANIDE IN PEELING LIQUID FOR USED RESIST - 特許庁

レジストパターンを除去してＥＵＶマスク２０６を製造する。例文帳に追加

The resist pattern is removed to manufacture an EUV mask 206. - 特許庁

レジストマスク１１３を除去後、アニール等の熱処理を施す。例文帳に追加

After the resist mask 113 is eliminated, heat treatment like annealing is performed. - 特許庁

その後、環状パターン形成用レジスト膜を除去する。例文帳に追加

Thereafter, the resist film is removed for forming the ring-shaped pattern. - 特許庁

プリント配線基板製造方法及びレジスト除去装置例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND RESIST REMOVING DEVICE - 特許庁

レジスト除去能力の評価方法及び電子デバイスの製造方法例文帳に追加

EVALUATING METHOD OF RESIST REMOVING CAPABILITY, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

相変化層を成形する前にレジストマスクが除去される。例文帳に追加

The resist mask is removed, before the phase-change layer is shaped. - 特許庁