「原子数比」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明の酸化亜鉛系透明導電膜形成材料は、実質的に亜鉛、ニオブおよび／またはタンタルおよび酸素からなる酸化物焼結体であって、ニオブおよび／またはタンタルが原子数比でＸ／（Ｚｎ＋Ｘ）＝０．０２以上０．１以下（式中、Ｘはニオブおよび／またはタンタル）となるよう含有されている。例文帳に追加

The zinc oxide-based transparent conductive film-forming material is an oxide sintered compact composed substantially of zinc, niobium and/or tantalum and oxygen, wherein niobium and/or tantalum is contained so as to be X/(Zn+X)=≥0.02 but ≤0.1 in atomic ratio (in the expression, X is niobium and/or tantalum). - 特許庁

パターニングされたレジスト膜をマスクとして被エッチング体をドライエッチングする際に用いられるドライエッチング用ガスであって、前記ドライエッチング用ガスはＣ／Ｆ値（フッ素化合物中のＣ元素とＦ元素との原子数の比）が０．５より大きいフッ素化合物を含むことを特徴とするドライエッチング用ガス。例文帳に追加

This gas for dry etching that is used, when performing the dry etching of a body to be etched with a resist film that is subjected to patterning as a mask containing a fluorine compound, where a C/F value (the ratio of the number of atoms between C and F elements in the fluorine compound) is larger than 0.5. - 特許庁

珪素と珪素酸化物とを混合させた加熱方式の蒸着用材料であって、珪素と酸素の原子数の比（Ｏ／Ｓｉ）が１．２〜１．８であり、嵩密度が０．８〜１．８ｇ／ｃｍ３の範囲であり、かつ、前記珪素酸化物が結晶構造を少なくとも２０％以上含んでいる二酸化珪素であることを特徴とする蒸着用材料。例文帳に追加

The vapor deposition material for heating system including the silicon and silicon oxide has an atomicity ratio of oxygen to silicon (O/Si) of 1.2-1.8, and bulk density of 0.8-1.8 g/cm^3, and the silicon oxide is silicon dioxide including at least 20% or more crystal structures. - 特許庁

Ｍ^1（Ｍ^1はアルカリ金属元素）イオンをドープ・脱ドープできる複合金属酸化物および該酸化物の表面に粒子として、または層状に載置されるＭ^3含有化合物（Ｍ^3は第３Ｂ族元素）からなる粒状の正極活物質であり、該正極活物質は、その表面に、Ｍ^1（Ｍ^1は前記）、Ｍ^2（Ｍ^2はＭｎ、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉから選ばれる）、Ｍ^3（Ｍ^3は前記）およびＯを有し、該表面におけるＭ^3原子数（モル）とＭ^2原子数（モル）のモル比（Ｍ^3／Ｍ^2）をＡとし、該正極活物質のＢＥＴ比表面積をＳ（ｍ^2／ｇ）としたとき、ＡおよびＳが以下の式（１）を満たす正極活物質を含有する正極と、 負極と、 セパレータと、 非水電解液と、を有する非水電解液二次電池。例文帳に追加

A granular cathode active substance is composed of a compound metal oxide which can dope and dedope an M^1 ion (M^1 is an alkaline metal element) and an M_3 containing compound (M^3 is a third B group element) which is mounted on a surface of the oxide as particles or in a layer. - 特許庁

特定の物質に吸収される波長を有するレーザー光とそれに吸収されない波長を有するレーザー光を大気中に発射し、発射されたレーザー光が前記物質に吸収された後、大気中の水蒸気やエアロゾル等によって後方散乱されて戻ってくる後方散乱光を分光フィルターを通過させてそれぞれの透過光強度を測定し、その強度比によって大気中の原子、分子、有害物質等の濃度を測定する方法において、前記分光フィルターとして音響光学チューナブルフィルターを使用し、その周波数を変化させて透過光の波長を制御することにより、広い波長域に渡って分光測定を可能にする。例文帳に追加

The acousto-optical tunable filter is used as the spectroscopic filter, and a frequency thereof is changed to control the wavelength of the transmitted beam, so as to enable spectroscopic measurement over a wide range of wavelengths. - 特許庁

３価のインジウムイオン（Ｉｎ^3+）と、３価の鉄イオン（Ｆｅ^3+）と、２価のＸイオン（Ｘ^2+）（但し、ＸはＣｕ、Ｚｎ、及びＦｅから選択される１種以上の元素を表す。）と、酸素イオン（Ｏ^2-）とからなる酸化物焼結体であって、３価のインジウムイオン（Ｉｎ^3+）、３価の鉄イオン（Ｆｅ^3+）、及び２価のＸイオン（Ｘ^2+）の原子数比がそれぞれ、０．２≦（Ｉｎ^3+）／｛（Ｉｎ^3+）＋（Ｆｅ^3+）＋（Ｘ^2+）｝≦０．８、０．１≦（Ｆｅ^3+）／｛（Ｉｎ^3+）＋（Ｆｅ^3+）＋（Ｘ^2+）｝≦０．５、及び０．１≦（Ｘ^2+）／｛（Ｉｎ^3+）＋（Ｆｅ^3+）＋（Ｘ^2+）｝≦０．５を満たす酸化物焼結体及びこれと同一組成をもつ酸化物半導体薄膜。例文帳に追加

An oxide semiconductor thin film having the same composition is also provided. - 特許庁

α-オレフィン・環状オレフィン共重合体は、（Ａ）炭素原子数が２〜３０の直鎖状または分岐状のα-オレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種の構成単位と、（Ｂ）環状オレフィンに由来する構成単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構成単位とからなるα-オレフィン・環状オレフィン共重合体であって、（ａ）ＧＰＣにより求められるＭｗ／Ｍｎが１．０＜（Ｍｗ／Ｍｎ）≦１．８であり、（ｂ）重量平均分子量（Ｍｗ）が１,０００≦Ｍｗ≦５,０００,０００であり、かつ（ｃ）α-オレフィンに由来する構成単位と環状オレフィンに由来する構成単位とのモル比が９９／１〜２０／８０である。例文帳に追加

(b) a weight average molecular weight (Mw) of 1,000≤Mw≤5,000,000, and simultaneously, (c) a molar ratio of the constituting unit derived from the α-olefin to that derived from the cyclic olefin of 99/1 to 20/80. - 特許庁

サンプルのＮＭＲスペクトルが取得されると、定性分析ユニットは、サンプル中に存在する化合物に対応する少なくとも１つの基準ＮＭＲスペクトルを識別し、定量分析ユニットで１つの基準ＮＭＲスペクトル中のピーク強度の領域内のサンプルスペクトルの相対的信号強度信号を積分し、その積分結果をそれぞれの領域内の原子の個数と比較し、化合物の識別を確認する。例文帳に追加

An NMR spectrum of a sample is acquired and a qualitative analysis unit identifies at least one reference NMR spectrum corresponding a compound present in the sample and a quantitative analysis unit integrates relative signal intensity signals of the sample spectrum in regions of peak intensity in the one reference NMR spectrum and compares integration results to a number of atoms in each region in order to confirm identification of the compound. - 特許庁

一般式（１）：Ｒ^1Ｓｉ（ＯＲ^2）_3（１）（式中、Ｒ^1は少なくとも１つのエポキシ基を有する炭素数１〜８の炭化水素基、または少なくとも１つのエポキシ基を有する芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^2は水素原子、炭素数１〜８の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す）で示されるエポキシ基含有アルコキシシラン類（ａ１）およびエポキシ基を有しない金属アルコキシド類（ａ２）を｛（ａ２）のモル数｝／｛（ａ１）のモル数と（ａ２）のモル数との合計｝（モル比）が０．８以下となるように含有する混合物を、固体触媒を用いて加水分解、縮合させることによって得られる実質的にシラノール基を含まないエポキシ基含有シルセスキオキサン（Ａ）ならびにエポキシ樹脂用硬化剤（Ｂ）を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。例文帳に追加

To provide a curable composition comprising a silsesquioxane compound that removes defects of extremely poor stability of a conventional silsesquioxane containing a residual alkoxy group and a curable composition containing the same, is cured by ultraviolet light and contains substantially no silanol group. - 特許庁