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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "原子数比"に関連した英語例文

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"原子数比"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 79



例文

C:Hの原子数比率を0.001〜0.5:1とする。例文帳に追加

An atomic number ratio of C:H is set in (0.001-0.5):1. - 特許庁

核燃料ペレットの酸素対重金属原子数比調整用電気炉及びそれを用いた酸素対重金属原子数比の調整方法例文帳に追加

ELECTRIC FURNACE FOR ADJUSTING OXYGEN TO METAL ATOM RATIO IN NUCLEAR FUEL PELLET, AND METHOD OF ADJUSTING OXYGEN TO METAL ATOM RATIO USING THE SAME - 特許庁

炭素薄膜が炭素:水素=3:7〜8:2の原子数比を有する。例文帳に追加

The carbon thin film has a atomic ratio of carbon:hydrogen = 3:7 through 8:2. - 特許庁

ここで、窒化率とは、チタンに対する窒素の原子数比を示す値である。例文帳に追加

In this case, the nitriding ratio is a numerical value showing an atomic ratio of nitrogen to titanium. - 特許庁

例文

なお、触媒を担持する触媒担持体に対する触媒の原子数比を触媒の担持密度とする。例文帳に追加

Furthermore, the ratio of atomic number of the catalyst to a catalyst carrier carrying the catalyst is made the carrying density of the catalyst. - 特許庁


例文

さらに、チタンの含有量がTi/In原子数比で0.003〜0.019であることが望ましい。例文帳に追加

The content of the titanium is preferably 0.003 to 0.019 in Ti/In atomic ratio. - 特許庁

酸化インジウムを主成分として、ルテニウム/インジウム原子数比が0.001〜0.11の範囲で、ルテニウムを含み、かつスズ/インジウム原子数比が0.001〜0.163の範囲で、スズを含む。例文帳に追加

This light-absorptive transparent electroconductive film comprises indium oxide as a principal component, ruthenium within a range of 0.001 to 0.11 Ru/In atomic ratio and tin within a range of 0.001 to 0.163 Sn/In atomic ratio. - 特許庁

この特定した合金の組成またはその組成に近似したに、アニール前に積層する金属の原子数比を設定し(ステップS3)、その原子数比となるような膜厚で各金属を積層形成する(ステップS4)。例文帳に追加

A ratio of atomic number of metals laminated before annealing is set to a composition ratio of the specified alloy or its approximate ratio (step 3), and each metal is laminated with a ratio of film thickness in accordance with the ratio of atomic number (step 4). - 特許庁

鉄に対する窒素の原子数比(N/Fe換算)は0を超え0.05以下であり、かつ鉄に対する金属元素の原子数比(金属元素/Fe換算)は0を超え0.05以下とする。例文帳に追加

The ratio of the number of nitrogen atoms to the number of iron atoms (in terms of N/Fe) is more than 0 and not higher than 0.05, and the ratio of the number of metal atoms to the number of iron atoms (in terms of metal atom/Fe) is more than 0 and not higher than 0.05. - 特許庁

例文

触媒源に含まれる金属原子に対する、炭素源に含まれる炭素原子原子数比が、1万以上15万以下である。例文帳に追加

The atomic number ratio of carbon atoms included in the carbon source to metal atoms included in the catalyst source is 10,000 or more and 150,000 or less. - 特許庁

例文

アノード触媒は、PtとCとOを含有し、Ptに対するCの原子数比は、0.05以上0.95以下である。例文帳に追加

The anode catalyst contains Pt, C, and O and the ratio of the number of atoms of Pt to C is 0.05-0.95. - 特許庁

アノード触媒は、PtとO又はPtとRuとOを含有し、Ptに対するOの原子数比は、0.05以上1.50以下である。例文帳に追加

The anode catalyst contains Pt and O or Ru and O and the ratio of the number of atoms of Pt to O is 0.05-1.50. - 特許庁

アノード触媒は、PtとC又はPtとRuとCを含有し、Ptに対するCの原子数比は、0.05以上0.95以下である。例文帳に追加

The anode catalyst contains Pt and C or Ru and C, and the ratio of the number of atoms of Pt to C is 0.05-0.95. - 特許庁

該半透明膜層2に含まれる主要構成元素がアルミニウムおよび酸素であり、酸素の原子数比が60%以下であることを特徴とする。例文帳に追加

Principal constituent elements comprised in the translucent film layer 2 are aluminum and oxygen and the ratio of the number of oxygen atoms is60%. - 特許庁

また、Pt−Cu系合金は、組成としては原子数比でPt:Cu=3:7のPt−Cu合金であることを特徴とする。例文帳に追加

The Pt-Cu base alloy is a Pt-Cu alloy having Pt:Cu=3:7 in the ratio of the number of atoms as the composition ratio. - 特許庁

フッ化炭素膜3のフッ素(F)と炭素(C)との原子数比(F/C)が1.30よりも大きいものとされている。例文帳に追加

The ratio of the atom numbers (F/C ratio) of fluorine to that of carbon in the fluorocarbon film is greater than 1.30. - 特許庁

ここで、Pt−Cu系合金は、組成としては原子数比でPt含有量が20〜40%であることを特徴とする。例文帳に追加

The Pt-Cu base alloy contains 20-40% Pt in the ratio of the number of atoms as a composition ratio. - 特許庁

また望ましくは前記絶縁体膜中のAr量が、Siに対して原子数比で17%以下(Ar/Si ≦ 17 at.%)の膜を作製する。例文帳に追加

Preferably, the film with the Ar quantity in the insulator film of 17% or less in the atomicity ratio for Si (Ar/Si≤17 at.%) is prepared. - 特許庁

鉄粉の表面に、SiとFiの割合が原子数比でSi/Fe≧0.8を満足するSi系酸化物からなる酸化膜を被覆する。例文帳に追加

The surface of iron powder is covered with an oxide film composed of Si-based oxide in which the atomic number ratio between Si and Fe satisfies the following relation: Si/Fe≥0.8. - 特許庁

元素A、ユーロピウム(Eu)、シリコン(Si)、炭素(C)、酸素(O)、および窒素(N)を、下記組成式(2)の原子数比で含有する赤色蛍光体。例文帳に追加

There is disclosed the red phosphor which contains an element A, europium (Eu), silicon (Si), carbon (C), oxygen (O) and nitrogen (N) at the atomic number ratio of composition formula (2). - 特許庁

Ta_2O_5とEu_2O_3を、Ta:Euの原子数比が0.96:0.04〜0.70:0.30となるように混合し、その混合物を1200℃以上、Ta酸化物の溶融温度以下で加熱する。例文帳に追加

Ta_2O_5 and Eu_2O_3 are mixed so that the ratio of the number of the atoms, Ta:Eu, is 0.96:0.04 to 0.70:0.30 and the mixture is heated at a temperature of 1,200°C or higher and not higher than the melting point of the Ta oxide. - 特許庁

赤色蛍光体は、元素A、Eu、Si、Al、OおよびNを、下記組成式(1)の原子数比で含有し、さらにCを含有する。例文帳に追加

The red phosphor contains elements A, Eu, Si, Al, O and N in an atomic ratio of a composition formula (1) and further contains C. - 特許庁

このスパッタリングターゲットをアルゴン雰囲気中でスパッタリングすることにより、Siの原子数比を1.0としたとき、O及びCの原子数比が1.0:0.5〜1.7:0.17の範囲にある光ディスク用保護膜を得ることができる。例文帳に追加

By sputtering the sputtering target in the argon atmosphere, a protective film for an optical disk in which the atomic ratio of O and C is in a range of 1.0 : 0.5 to 1.7 : 0.17 when the atomic ratio of Si is set to be 1.0. - 特許庁

酸化インジウムを主成分として、タングステン元素がW/In原子数比で0.004〜0.023の割合で含有され、亜鉛元素がZn/In原子数比で0.004〜0.100の割合で含有され、非晶質構造である。例文帳に追加

This has an amorphous structure in which indium oxide is the main component, in which tungsten element is contained by the proportion of W/In atomic ratio of 0.004 to 0.023, and in which zinc element is contained by the proportion of Zn/In atomic ratio of 0.004 to 0.100. - 特許庁

光電変換装置10は、金属カルコゲン化物と金属酸化物と金属水酸化物との混晶化合物を含み、前記金属カルコゲン化物を構成するカルコゲン元素および酸素元素の合計の原子における前記カルコゲン元素の原子数比率が前記酸素元素の原子数比率よりも大きい第1の半導体層を具備する。例文帳に追加

The photoelectric converter 10 has a first semiconductor layer which contains a mixed crystal compound composed of a metal chalcogenide, a metal oxide, and a metal hydroxide such that in the total of the number of atoms of chalcogen elements making up the metal chalcogenide and oxygen elements, a number-of-atoms ratio of the chalcogen elements is larger than a number-of-atoms ratio of the oxygen elements. - 特許庁

酸化物混合体は、実質的に酸化亜鉛と酸化チタンとからなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である。例文帳に追加

The oxide mixture substantially includes zinc oxide and titanium oxide, wherein the ratio Ti/(Zn+Ti) of numbers of atoms of titanium to the total of zinc and titanium is >0.02 and ≤0.1. - 特許庁

酸化インジウムを主成分とし、タングステン/インジウムの原子数比で0.019〜0.034の割合で、酸化インジウムのインジウムがタングステンに置換され、かつ酸化インジウムは結晶質である。例文帳に追加

Indium oxide is contained as the essential component, and the indium in the indium oxide is substituted into tungsten with the ratio of 0.019-0.034 tungsten/indium in the rate of atom numbers, and the indium oxide is single crystal. - 特許庁

本発明の潤滑油添加剤組成物は、(A)ポリ(メタ)アクリレート系化合物と、(B)希釈剤と、(C)炭素/酸素原子数比が10以下のエステル化合物を含有する。例文帳に追加

The lubricant additive composition contains (A) a poly(meth)acrylate compound, (B) a diluent and (C) an ester compound having a carbon/oxygen atom ratio of ≤10. - 特許庁

酸化物焼結体は、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である。例文帳に追加

The oxide sintered body substantially includes zinc, titanium and oxygen, wherein the ratio Ti/(Zn+Ti) of numbers of atoms of titanium to the total of zinc and titanium is >0.02 and ≤0.1. - 特許庁

本発明の耐半田性金組成物は、金またはその合金中に、ケイ素および/またはゲルマニウムが含有されてなり、金とケイ素およびゲルマニウムの合計との割合が、原子数比で97:3〜70:30である。例文帳に追加

The solder resistant gold composition is obtained by incorporating silicon and/or germanium into gold or a gold alloy, and in which the ratio between gold and the total of silicon and germanium is 97:3 to 70:30 by an atomic ratio. - 特許庁

臭素或いは塩素のいずれかからなるハロゲン元素と亜鉛とを、ハロゲン元素:亜鉛=1.5:1〜2.5:1の原子数比で含むように水分/湿度インジケータ用材料を構成する。例文帳に追加

The material for the moisture/humidity indicator is constituted so as to contain a halogen element, which comprises either one of bromine and chlorine, and zinc in an atomic number ratio of halogen element: zinc=1.5:1-2.5:1. - 特許庁

本発明のタッチパネル用スペーサーは、光電子分光法により求められる炭素とケイ素との表面原子数比(C/Si)が0.01〜1.0ある、シリカ粒子を用いてなることを特徴とする。例文帳に追加

The spacer for a touch panel is obtained by using silica particles that have the ratio (C/Si) of the number of surface atoms of carbon to silicon of 0.01-1.0 which is determined by a photoelectron spectroscopy. - 特許庁

インジウムとモリブデンと酸素とからなる焼結体であり、モリブデンがインジウムに対して原子数比で0.003〜0.20の割合で存在し、焼結体相対密度が90%以上のものである。例文帳に追加

This target is a sintered body consisting of indium and molybdenum, in which molybdenum exists at the rate of 0.003-0.20 by atomic ratio against indium, and of which the relative density of the sintered body is 90% or more. - 特許庁

Si酸化物アモルファス絶縁体膜中にArを含有し、その膜中のAr量がSiに対して原子数比で3%以上(Ar/Si ≧ 3 at.%)である膜を作製する。例文帳に追加

A film containing Ar in a Si oxide amorphous insulator film wherein a quantity of Ar in the film is 3% or more in an atomicity ratio for Si (Ar/Si≥3 at.%) is prepared. - 特許庁

本発明の酸化亜鉛系透明導電膜形成材料は、実質的に亜鉛、モリブデンおよび酸素からなる酸化物焼結体であって、モリブデンが原子数比でMo/(Zn+Mo)=0.02以上0.1以下となるよう含有されている。例文帳に追加

The zinc oxide-based transparent conductive film-forming material is an oxide sintered compact composed substantially of zinc, molybdenum and oxygen, wherein molybdenum is contained so as to be Mo/(Zn+Mo)=≥0.02 but ≤0.1 in atomic ratio. - 特許庁

本発明の酸化亜鉛系透明導電膜形成材料は、実質的に亜鉛、チタン、酸素および窒素からなる酸化物焼結体であって、原子数比でTi/(Zn+Ti)=0.02超0.1以下となるよう含有されている。例文帳に追加

The zinc oxide-based transparent conductive film-forming material is an oxide sintered compact substantially consisting of zinc, titanium, oxygen and nitrogen such that the atomic ratio of Ti/(Zn+Ti) is >0.02 and ≤0.1. - 特許庁

主として酸化インジウムからなり、チタンを含み、チタンの含有量がTi/In原子数比で0.003〜0.120であり、抵抗が1kΩcm以下である。例文帳に追加

The sintered compact target mainly consists of indium oxide and titanium, in which the content of the titanium is 0.003 to 0.120 in Ti/In atomic ratio and the specific resistance is1 kΩcm. - 特許庁

タングステンを固溶したインジウム酸化物を含有し、タングステンがインジウムに対する原子数比で0.001以上0.034以下含まれ、密度が4.0g/cm^3以上6.5g/cm^3以下である酸化物焼結体とする。例文帳に追加

The oxide sintered compact contains an indium oxide formed by solutionizing tungsten, in which the tungsten is contained at ≥0.001 to ≤0.034 in the ratio of tungsten atoms to indium, and the density is ≥4.0 to ≤6.5 g/cm^3. - 特許庁

この酸化物蒸着材は、酸化インジウムを主成分とし、Gd/In原子数比で0.001〜0.070のガドリニウムを含む焼結体により構成され、かつ、CIE1976表色系におけるL^*値が60〜94であることを特徴とする。例文帳に追加

The oxide vapor deposition material is characteristically configured by a sintered body containing gadolinium with a Gd/In atomic ratio of 0.001 to 0.070 and indium oxide as a chief ingredient, and has an L* value of 60 to 94 in CIE1976 color system. - 特許庁

鋼板の表面に、チタンおよび窒素を含むアモルファス状の被膜を有する方向性電磁鋼板において、該被膜中のTiとNとの原子数比率Ti/Nを1を超え5以下の範囲とする。例文帳に追加

Regarding the grain oriented silicon steel sheet has an amorphous film containing titanium and nitrogen formed on the surface, wherein the ratio of the number of Ti atoms to the number of N atoms (Ti/N) in the film is controlled to >1 to ≤5. - 特許庁

反強磁性層3の磁化固定層4とは反対側には、Crの原子数比が41%以上で、好ましくは70%以下であるNiCr膜より成る下地層7が設けられている。例文帳に追加

A ground layer 7 consisting of a NiCr film in which the ratio of Cr atoms is41%, preferably70%, is formed on the side of the antiferromagnetic layer 3 which is the opposite side to the magnetized fixed layer 4. - 特許庁

また、この酸化物膜は、前述のチタン(Ti)に対する前述のアンチモン(Sb)の原子数比が、そのチタン(Ti)の原子を1とした場合にそのアンチモン(Sb)の原子が0.08以上0.18以下である。例文帳に追加

Further, in the number-of-atoms ratio of the antimony (Sb) to the titanium (Ti) in this oxide film, the number of atoms of the antimony (Sb) is 0.08 to 0.18 when the number of atoms of the titanium (Ti) is defined as 1. - 特許庁

本発明のスパッタリングターゲットは、太陽電池のn層を形成するために用いられ、Zn、Sn及びOを含有し、ZnとSnとの原子数比が20:80以上80:20以下である。例文帳に追加

A sputtering target is used for forming the n-layer of the solar cell, contains Zn, Sn and O, and has atomic ratio of Zn and Sn from 20:80 or more to 80:20 or less. - 特許庁

Nd−Fe−B−G_X(xは原子数比を表示するであり、1≦x≦3)の急冷リボン作製し、これを加圧焼結することを特徴とする高保磁力NdFeBGa磁石の製造法。例文帳に追加

This production method of an NdFeBGa magnet having a high coercive force is a production method, by producing a quenched ribbon of Nd-Fe-B-G_X (x is a number representing atomic ratio and satisfies the equation: 1≤x≤3) and by pressurizing-sintering the produced ribbon. - 特許庁

Nd−Fe−B−Cu_X(xは原子数比を表示するであり、1≦x≦3)の液体急冷リボンからなるNdFeBCu磁石材料。例文帳に追加

The NdFeBCu magnet material is formed of a liquid-quenched ribbon of Nd-Fe-B-Cu_X (x is a number which represents an atomic number ratio and satisfies 1≤x≤3). - 特許庁

本発明は、Zn、Sn及びOを含有する薄膜状のn層を備え、このn層におけるZnとSnとの原子数比が20:80以上80:20以下である太陽電池である。例文帳に追加

A solar cell includes a thin film n-layer containing Zn, Sn and O, and atomic ratio of Zn and Sn in the n-layer is from 20:80 or more to 80:20 or less. - 特許庁

アルミナに担持されたCu及びMgの化合物からなり、Cuとして示される銅含量が2〜8重量%で、Mg/Cu原子数比が1.2〜2.5であり、触媒の表面積が30〜130m^2/gである、1,2-ジクロロエタンへのエチレンのオキシ塩素化用触媒。例文帳に追加

The catalyst for oxychlorination of ethylene to 1,2-dichloroethane comprises compounds of Cu and Mg carried on alumina and has 2-8 wt.% copper content (expressed as Cu), wherein the ratio of the number of Mg atoms to the number of Cu atoms is 1.2-2.5, and the specific surface area of the catalyst is 30-130 m^2/g. - 特許庁

また、超伝導ダイヤモンド膜4は、下層ダイヤモンド膜2上に積層され、ホウ素が高濃度に、例えば、ホウ素(B)と炭素(C)との原子数比(B/C)が、5.0%以上にドーピングされている。例文帳に追加

A superconductive diamond film 4 is laminated on the lower diamond film 2 and doped with boron with high concentration, wherein for example the atomic ratio of boron B to carbon C (B/C) is set at 5.0% or above. - 特許庁

インジウム(In)と、亜鉛(Zn)と、金属元素X(但し、XはAl及びTiから選択される1種以上の元素を表す)と、酸素(O)とからなる酸化物焼結体であって、インジウム(In)、亜鉛(Zn)、及び金属元素Xの原子数比がそれぞれ、0.2≦In/(In+Zn+X)≦0.8、0.1≦Zn/(In+Zn+X)≦0.5、及び0.1≦X/(In+Zn+X)≦0.5を満たす酸化物焼結体、及び、該酸化物焼結体をターゲットとするスパッタリングによって成膜された、前記原子数比と同一組成をもつ酸化物半導体膜。例文帳に追加

An oxide semiconductor thin film having the same composition as the atomic ratios and deposited by sputtering using the oxide sintered compact as a target is also provided. - 特許庁

例文

ポリエステルモノフィラメントであって、ポリエステル以外の成分として、シリコーンオイルおよびフッ素樹脂を含有し、ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)による分析によりモノフィラメント表面からケイ素およびフッ素が検出され、同時に検出される炭素の原子を1としたときに、炭素に対するケイ素の原子数比が0.01以上、炭素に対するフッ素の原子数比が0.003以上であることを特徴とするポリエステルモノフィラメント。例文帳に追加

This polyester monofilament is provided by containing silicone oil and fluorine resin as components other than the polyester from which surface silicon and fluorine are detected by the analysis with an ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis), having ≥0.01 ratio of the number of silicon atoms to that of carbon and ≥0.003 ratio of the number of fluorine atoms to that of carbon based on setting the number of carbon atom detected simultaneously as 1. - 特許庁

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