例文 (999件) |
導電型の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 13927件
p型電極46がp型半導体層45上に形成されて、n型電極47がn型半導体層43上に形成される。例文帳に追加
A p-type electrode 46 is formed on the p-type semiconductor layer 45, and an n-type electrode 47 is formed on the n-type semiconductor layer 43. - 特許庁
導電型がP型の第1領域2の上に、エピタキシャル成長により、導電型がN型である第1エピタキシャル層31が形成される。例文帳に追加
A first epitaxial layer 31 whose conduction type is n-type is formed by epitaxial growth on a first region 2 whose conduction type is p-type. - 特許庁
基板はP導電型のシリコンであり、P型基板20内にはN型導電型のシリコン・ウェル22が形成される。例文帳に追加
The substrate 20 is a P-conductivity silicon substrate and an N- conductivity silicon well 22 is formed in the P-type substrate 20. - 特許庁
接合ゲート型静電誘導型サイリスタおよび当該接合ゲート型静電誘導型サイリスタを用いた高圧パルス発生装置例文帳に追加
JOINT GATE STATIC INDUCTION THYRISTOR AND HIGH-VOLTAGE PULSE GENERATOR USING SAME - 特許庁
ただし、p型またはn型のいずれか一方が第1導電型で他方が第2導電型であるとする。例文帳に追加
Meanwhile, any one of a p-type or an n-type is the first conductivity type and the other is the second conductivity type. - 特許庁
ただし、p型またはn型のいずれか一方が第1導電型で他方が第2導電型であるとする。例文帳に追加
Herein, any one of a p-type or an n-type is assumed first conductivity, and the other second conductivity. - 特許庁
n型ダイヤモンド半導体とダイヤモンド半導体の電気伝導性変換方法ならびに電子デバイス例文帳に追加
n-TYPE DIAMOND SEMICONDUCTOR, ELECTRIC CONDUCTIVITY CONVERTING METHOD OF DIAMOND SEMICONDUCTOR, AND ELECTRONIC DEVICE - 特許庁
電流ブロック半導体層11は、第3の半導体層9と異なる導電型を有する。例文帳に追加
The layer 11 has a different conductivity from the layer 9. - 特許庁
p^+型ゲート半導体部4は、n型ドリフト半導体部3の導電型と逆導電型を有し、n型ドリフト半導体部3の第1及び第2の領域3b,3c上に設けられている。例文帳に追加
The gate semiconductor part 4 includes a reverse conductivity type to the conductivity type of the semiconductor part 3, and is provided on first and second regions 3b, 3c of the semiconductor part 3. - 特許庁
MOS型電界効果トランジスタの制御電極40は、第1導電型の電極部42、45及び48と、第2導電型の電極部46と、第1導電型の電極部及び第2導電型の電極部の間にpn接合49とを有している。例文帳に追加
A control electrode 40 of the MOS type field effect transistor includes first conductive type electrode portions 42, 45 and 48, a second conductive type electrode portion 46, and a pn junction 49 between the first conductive type electrode portions and the second conductive type electrode portion. - 特許庁
そして、前記p型半導体層およびi型半導体層を除去して露出したn型半導体層の上にn型電極15が設けられ、前記p型半導体層上にp型電極16が設けられている。例文帳に追加
Then an n-type electrode 15 is formed on the n-type semiconductor layer 11 exposed by removing the layers and a p-type electrode 16 is formed on the p-type semiconductor layer. - 特許庁
基板(5)上に、第1導電型半導体層(4、3)、活性層(2)、および第2導電型半導体層(1)をエピタキシャルに順次積層する。例文帳に追加
First conductivity type semiconductor layers (4, 3), the active layer (2) and a second conductivity type semiconductor layer (1) are laminated epitaxial sequentially on a substrate (5). - 特許庁
低抵抗領域31aでは、半導体スペーサ層19の導電型は半導体スペーサ層21の導電型と異なる。例文帳に追加
In a low-resistance region 31a, the conductive type of the semiconductor spacer layer 19 is different from the conductive type of the semiconductor spacer layer 21. - 特許庁
第1導電型半導体領域3は、第1導電型のGaAs半導体基板11上に設けられる。例文帳に追加
The first conductivity type semiconductor region 3 is provided on a GaAs semiconductor substrate 11 of the first conductivity type. - 特許庁
発光デバイスは、第1の導電型の第1半導体層と、活性領域と、第2の導電型の第2半導体層とを含む。例文帳に追加
The light emitting device comprises a first conductivity type first semiconductor layer, an active region, and a second coductivity type second semiconductor layer. - 特許庁
窒化物発光素子11は、第1導電型の窒化物半導体層13と、第2導電型の窒化物半導体層15と、活性層17とを備える。例文帳に追加
The nitride light-emitting element 11 includes a first conductivity type nitride semiconductor layer 13, a second conductivity type nitride semiconductor layer 15, and an active layer 17. - 特許庁
活性層5は、第1導電型半導体領域3と第2導電型半導体領域7との間に設けられる。例文帳に追加
The active layer 5 is provided between the first conductivity type semiconductor region 3 and the second conductivity type semiconductor region 7. - 特許庁
第2導電型半導体層23は第1導電型半導体層25と活性層17との間に設けられる。例文帳に追加
The second conductivity type semiconductor layer 23 is provided between the first conductivity type semiconductor layer 25 and active layer 17. - 特許庁
第1導電型の半導体基板の表面から離れて基板の内部に第2導電型の第1半導体領域を設ける。例文帳に追加
Apart from a surface of a first conductive semiconductor substrate, a first second-conductive-type semiconductor field is provided in an inside of the substrate. - 特許庁
第2導電型半導体領域21が活性領域17と第1導電型半導体領域19との間に位置する。例文帳に追加
A second conductivity type semiconductor region 21 is located between the active region 17 and the first conductive type semiconductor region 19. - 特許庁
下層シリコン系膜3に一導電型の不純物を導入し、上層シリコン系膜6には、他導電型の不純物を導入する。例文帳に追加
One conductivity-type impurities are introduced in a silicon film 3 of a lower layer and other conductivity-type impurities and introduced in a silicon film 6 of an upper layer. - 特許庁
この複数の発光セルは、それぞれが第1の導電型上部半導体層、活性層、第2の導電型下部半導体層を有する。例文帳に追加
Each of the light-emitting cells comprises a first conductive-type upper semiconductor layer, an active layer and a second conductive-type lower semiconductor layer. - 特許庁
基板上に、少なくとも、第1の導電型の半導体層と活性層と第2の導電型の半導体層を積層する。例文帳に追加
In a method for manufacturing a semiconductor light emitting device, at least a first conductivity type semiconductor layer, an activity layer and a second conductivity type semiconductor layer are laminated on a substrate. - 特許庁
第1導電型の第1半導体層21上に、第1導電型の第2半導体層22が設けられる。例文帳に追加
On a first conductivity type first semiconductor layer 21, a first conductivity type second semiconductor layer 22 is provided. - 特許庁
半導体層60は、結晶Si層50の半導体層60と接触している部分の導電型と同じ導電型を有する。例文帳に追加
The semiconductor layer 60 has the same conductivity type as the conductivity type of a portion in contact with the semiconductor layer 60 of the crystal Si layer 50. - 特許庁
半導体パッケージ、導電性ポスト付き基板、積層型半導体装置、半導体パッケージの製造方法及び積層型半導体装置の製造方法例文帳に追加
SEMICONDUCTOR PACKAGE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE POST, AND LAMINATED SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF - 特許庁
表面側から局所的第1導電型層14、広域的第2導電型層15、広域的第1導電型層16の順で積層された構造を持ち、第1導電型層14と第2導電型層15を貫いて第1導電型層16に達するトレンチゲート電極9が形成されており、深い方の第1導電型層16内でトレンチゲート電極9が貫く深さに欠陥層6を形成する。例文帳に追加
A local first conductivity layer 14, a wide second conductivity layer 15, a wide first conductivity layer 16 are formed successively from the surface. - 特許庁
第1導電型半導体クラッド層と、第1導電型半導体クラッド層上に形成された活性層と、活性層上に形成された第2導電型半導体クラッド層と、第2導電型半導体クラッド層上に形成された絶縁膜と、第2導電型半導体クラッド層と電気的に接続された金属電極と、絶縁膜上に形成された電気回路素子とを有する。例文帳に追加
The semiconductor laser diode has a 1st conductivity type semiconductor clad layer, an active layer formed on the 1st conductivity type semiconductor clad layer, a 2nd conductivity type semiconductor clad layer formed on the active layer, an insulating film formed on the 2nd conductivity type semiconductor clad layer, a metal electrode electrically connected to the 2nd conductivity type semiconductor clad layer, and the electric circuit element formed on the insulating film. - 特許庁
p型半導体層の上方にp型電極230が設けられている。例文帳に追加
A p-type electrode 230 is provided above the p-type semiconductor layer. - 特許庁
リセス酸化型電界効果型化合物半導体装置及びその製造方法例文帳に追加
RECESS OXIDATION TYPE FIELD EFFECT COMPOUND SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
過電圧保護機能内蔵型MOS型半導体装置とその製造方法。例文帳に追加
OVERVOLTAGE PROTECTIVE FUNCTION BUILT-IN MOS SEMICONDUCTOR APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
小型で電極端子数の多いノンリード型の半導体装置の提供。例文帳に追加
To provide a small non-lead type semiconductor device with a number of electrode terminals. - 特許庁
小型で損失の少ない導波管型誘電体フィルタを得る。例文帳に追加
To provide a compact waveguide dielectric filter whose loss is small. - 特許庁
縦チャネル型絶縁ゲイト型電界効果半導体装置の作製方法例文帳に追加
FABRICATION OF VERTICAL CHANNEL INSULATED GATE FIELD EFFECT SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
これにより、小型の電磁誘導型変位センサが実現できる。例文帳に追加
Hereby, a small-sized electromagnetic induction type displacement sensor can be realized. - 特許庁
二液型の常温硬化型異方性導電接着剤を提供する。例文帳に追加
To provide a two-pack type ambient-curable anisotropic conductive adhesive. - 特許庁
金型の加熱方法、金型、誘導加熱ヒータ及びその電源装置例文帳に追加
DIE HEATING METHOD, DIE, INDUCTION HEATER, AND ITS POWER SOURCE DEVICE - 特許庁
シールドされた積層コイル型電磁誘導型変位センサを提供する。例文帳に追加
To provide a shielded laminated coil type electromagnetic induction type displacement sensor. - 特許庁
平型ケーブルの平型導体と電気接続端子との接続方法例文帳に追加
CONNECTION METHOD FOR FLAT CONDUCTOR OF FLAT CABLE AND ELECTRIC CONNECTION TERMINAL - 特許庁
蓄冷型冷凍機及び蓄冷型冷凍機を搭載した超電導マグネット例文帳に追加
REGENERATIVE REFRIGERATOR, SUPERCONDUCTIVE MAGNET MOUNTED WITH THE SAME - 特許庁
エピタキシャル層7の表面から一定の深さにかけて、導電型がN型である複数の第1拡散層25、導電型がP^+型である複数の第2拡散層26、導電型がN型である第3拡散層8、および導電型がP^+型である第4拡散層11が形成されている。例文帳に追加
A first diffusion layer 25 having N type conductivity, a second diffusion layer 26 having P^+ type conductivity, a third diffusion layer 8 having N type conductivity, and a fourth diffusion layer 10 having P^+ type conductivity are formed from the surface of the epitaxial layer 7 down to a specified depth. - 特許庁
絶縁ゲート型電界効果型トランジスタ及び半導体装置例文帳に追加
INSULATED GATE FET AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
色素増感型光半導体およびそれを用いた色素増感型太陽電池例文帳に追加
PHOTOCHEMICALLY SENSITIZED OPTICAL SEMICONDUCTOR AND PHOTOCHEMICALLY SENSITIZED SOLAR BATTERY USING THE SAME - 特許庁
電流制御部は、P型半導体基板11と逆導電型のN型ウェル12と、P型半導体基板11と同導電型のP+拡散層13とが接合したダイオード17で構成される。例文帳に追加
The current control unit is composed of a diode 17 joining an n-type well 12 having a reverse conductivity type to a p-type semiconductor substrate 11, and a p^+-diffusion layer 13 having the same conductivity type as the p-type semiconductor substrate 11. - 特許庁
半導体受光素子は多層構造で、各層はそれぞれの厚さと幅を有し、かつ第一の導電型(例えばp型)または第二の導電型(例えばn型)のいずれかの導電型特性を有する。例文帳に追加
A semiconductor light receiving element has multilayered structure, and each layer has each thickness and width and has conductivity property of either a first conductivity (for example, p-type) or a second conductivity (for example, n-type). - 特許庁
光電変換用酸化物半導体電極および色素増感型太陽電池例文帳に追加
PHOTOELECTRIC CONVERSION OXIDE SEMICONDUCTOR ELECTRODE AND DYE-SENSITIZED SOLAR BATTERY - 特許庁
表面伝導型電子放出素子及び該電子放出素子を利用する電子源例文帳に追加
SURFACE CONDUCTION ELECTRON EMITTING ELEMENT AND ELECTRON SOURCE USING IT - 特許庁
超電導モータに電力を供給する発電機を小型化する。例文帳に追加
To downsize a generator which supplies a superconductive motor with power. - 特許庁
導電性に優れた固体電解質型燃料電池用セパレータ例文帳に追加
SEPARATOR FOR SOLID ELECTROLYTE FUEL CELL WITH EXCELLENT CONDUCTIVITY - 特許庁
電解装置、電気化学反応型膜装置及び多孔質導電体例文帳に追加
ELECTROLYZER, ELECTROCHEMICAL REACTION TYPE MEMBRANE APPARATUS AND POROUS CONDUCTOR - 特許庁
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