「除去工程」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ここで、熱処理工程後にシリコン膜を除去するシリコン膜除去工程を含んでいてもよい。例文帳に追加

The method may includes a silicon film removing process for removing the silicon film after heat treatment process. - 特許庁

保護層除去工程では、保護層形成工程において形成した保護層（２３，６７）を除去する。例文帳に追加

In the protective layer removing step, the protective layers (23 and 67) formed in the protective layer formation step are removed. - 特許庁

アニール工程の後、プラズマ処理によりレジストを除去するレジスト除去工程（アッシング）を行う。例文帳に追加

After anneal process, resist removal process (ashing) for removing resist by plasma treatment is carried out. - 特許庁

下記工程１の後に下記工程２を行う、バイオフィルムの除去方法。例文帳に追加

The biofilm removing method performs a step 1 and thereafter a step 2. - 特許庁

そして、この酸化工程と酸化物除去工程とを複数回繰り返す。例文帳に追加

Then, the oxidation step and the oxide removal step are repeated a plurality of times. - 特許庁

半導体装置の製造方法は成膜工程と除去工程とを備える。例文帳に追加

The manufacturing method of a semiconductor device includes the film formation process and the removal process. - 特許庁

塩素脱気工程と塩素分解除去工程の間に酸素脱気工程を設ける。例文帳に追加

An oxygen degassing stage is provided between the chlorine degassing stage and a chlorine decomposition/removal stage. - 特許庁

射出成形方法は、ビレット生成工程と、表層除去工程と、成形工程と含む。例文帳に追加

The injection molding method includes a billet generating step, a surface layer removing step, and a molding step. - 特許庁

サブランナー除去工程Ｐ６は、少なくともバリ取り工程Ｐ４よりも後工程において行われる。例文帳に追加

The sub runners removing step P6 is performed after at least the deburring step P4. - 特許庁

第１発電工程と第２発電工程との間において残留分除去工程を実施する。例文帳に追加

A residue removal process is carried out between the first power generation process and the second power generation process. - 特許庁

この際、加水分解処理の前工程又は後工程に、色素除去工程を設けてもよい。例文帳に追加

Before or after the hydrolysis treatment, a colorant removal step may be set. - 特許庁

リン除去工程を有する廃水処理装置例文帳に追加

WASTE WATER TREATMENT APPARATUS HAVING PHOSPHORUS REMOVING PROCESS - 特許庁

この乳化分散液を溶剤除去工程で処理する。例文帳に追加

The emulsification/dispersion liquid is treated in a solvent removal stage. - 特許庁

（Ｇ）エッチングレジストを除去する工程。例文帳に追加

In the step (G), the etching resist is removed. - 特許庁

（Ｄ）めっきレジストを除去する工程。例文帳に追加

In the step (D), the plating resist is removed. - 特許庁

砂除去工程は金属管から砂を取り除く。例文帳に追加

In a sand removing process, the sand is removed from the metal pipe. - 特許庁

紙製容器の製作工程における偶角部の除去方法例文帳に追加

METHOD FOR REMOVING CORNER PART IN MANUFACTURING PROCESS OF PAPER CONTAINER - 特許庁

除去工程後には、通常、乾燥、焼成を行う。例文帳に追加

After the removing step, drying and calcination are usually carried out. - 特許庁

ロール紙の外装紙除去工程で用いられるローラ例文帳に追加

ROLLER USED IN PROCESS FOR REMOVING EXTERIOR PAPER SHEET OF ROLL PAPER SHEET - 特許庁

半導体製造工程における自然酸化膜除去方法例文帳に追加

NATIVE OXIDE FILM REMOVING METHOD IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS - 特許庁

第２のマスク層を除去する工程（Ｓ６０）を実施する。例文帳に追加

Then, a step (S60) of removing the second mask layer is performed. - 特許庁

第２電極分離構造製造工程は、薄膜形成工程、硬化型材料印刷工程、硬化工程及び薄膜除去工程からなる。例文帳に追加

A second electrode separating structure manufacturing process is composed of a thin film forming process, a curing die material printing process, a curing process and a thin film eliminating process. - 特許庁

イオン注入マスクとして使用されたレジスト膜パターンが酸化工程、膨潤化工程、除去工程を順に経ることにより除去される。例文帳に追加

The resist film pattern that has been used as an ion injection mask is removed by going through the steps of oxidation, swelling, and removal. - 特許庁

また、プレス工程後かつ硬化工程前には、保護フィルム８１，８２を除去する除去工程が行われる。例文帳に追加

In addition, a removal step for removing the protection films 81, 82 is performed after the press step and before the curing step. - 特許庁

自然酸化膜除去工程（Ｐ２）、テクスチャー形成工程（Ｐ４）、ダメージ層除去工程（Ｐ６）を同一の真空処理槽２内で行う。例文帳に追加

The natural oxide film removing step (P2), texture forming step (P4), and damaged layer removing step (P6) are carried out in the same vacuum processing tank 2. - 特許庁

さらに、前記１次発酵工程後、前記エタノール分離工程前に、前記１次発酵液から菌体を除去する菌体除去工程を有する。例文帳に追加

In one aspect, the method involves a biomass-removing step for removing the biomass from the primary fermentation liquid after the primary fermentation step and before the ethanol-separation step. - 特許庁

前記複数の処理工程は、少くとも、使用済剥離液より水成分を除去する水分除去工程と、樹脂成分を除去して剥離液成分を得る樹脂成分除去工程とよりなる。例文帳に追加

The plural processes comprises at least a moisture removing process which removes the water component from the used stripping solution and a resin component removing process which removes the resin component and provides stripping solution components. - 特許庁

樹脂成分を除去する樹脂成分除去工程及び、水分などの低沸点不純物を除去する低沸点除去工程及び、溶剤を精製する精製工程を含み、まず、樹脂成分除去工程の処理をし、最終的に精製溶剤を蒸発させた後、凝縮液として再生溶剤を回収する。例文帳に追加

The used solvent is passed through the steps, the purified solvent is evaporated and a regenerated solvent is recovered as a condensate. - 特許庁

自然酸化膜除去工程（Ｐ２）、スライスダメージ層除去工程（Ｐ４）、テクスチャー形成工程（Ｐ６）、ダメージ層除去工程（Ｐ８）を同一の真空処理槽２内で行う。例文帳に追加

The natural oxide film removing step (P2), slicing damaged layer removing step (P4), texture forming step (P6), and damaged layer removing step (P8) are carried out in the same vacuum processing tank 2. - 特許庁

光ファイバ母材製造方法は、石英ガラスからなる光ファイバを線引により得る為の光ファイバ母材を製造する方法であって、Ｈ_２Ｏ除去工程，ＯＨ除去工程，ＣＯ除去工程および透明化工程を備える。例文帳に追加

The method for producing an optical fiber preform for obtaining an optical fiber made of quartz glass by wire drawing comprises: an H_2O removal stage; an OH removal stage; a CO removal stage; and a transparency imparting stage. - 特許庁

半導体素子の製造方法は、イオン注入工程と、カーボン層形成工程と、イオン活性化工程と、除去工程と、を含む。例文帳に追加

A method of manufacturing a semiconductor device comprises an ion injection step, a carbon layer formation step, an ion activation step, and a removal step. - 特許庁

半導体素子の製造方法は、イオン注入工程と、カーボン層形成工程と、イオン活性化工程と、カーボン層除去工程と、を含む。例文帳に追加

A method of manufacturing a semiconductor device includes an ion implantation step, a carbon layer formation step, an ion activation step, and a carbon layer removal step. - 特許庁

まず、アルミニウム系ワークの表面に存在するＡｌ_2Ｏ_3（酸化物）膜を除去する（除去工程Ｓ１）。例文帳に追加

First, an Al2O3 (oxide) film existing on the surface of an aluminum-based workpiece is removed (removing process S1). - 特許庁

除去工程では、膨潤したレジスト膜パターンが膨潤化に使用された薬液を用いて除去される。例文帳に追加

In the removal step, the swollen resist film pattern is removed using the chemical used for the swelling. - 特許庁

（４）転写元基板５０をセラミック誘電体層５から除去する（転写元基板除去工程）。例文帳に追加

The transfer source substrate 50 is removed from the ceramic dielectric layer 5 (a transfer source substrate removal process) (4). - 特許庁

薄膜除去工程は、薄膜２０の硬化型材料２２で覆われていない部分を除去する。例文帳に追加

In the thin film eliminating process, a part not covered with the curing die material 22 in the thin film 20 is eliminated. - 特許庁

レジスト除去工程では、レジスト層３４が集電体積層ユニット３０から除去される。例文帳に追加

In a resist removing process, the resist layer 34 is removed from the current collector laminating unit 30. - 特許庁

ついで、エッチングにより、ＳｉＯ__２膜１４を除去する（ＳｉＯ_２膜除去工程）。例文帳に追加

Then, the SiO_2 film 14 is removed by etching (SiO_2 film removal process). - 特許庁

リフロー工程後に、フォトレジスト層が除去され、かつ絶縁金属層も除去される。例文帳に追加

After a reflow process is carried out, the photoresist layer is removed off, and the insulating metal layer is also removed. - 特許庁

この工程において形成された塞栓は、除去のための塞栓除去カテーテルの中へと指向される。例文帳に追加

Emboli generated in the process are directed into an emboli removal catheter for removal. - 特許庁

いくつかの基板除去技法を組み合わせて、各基板除去工程の特徴を利用できるようにする。例文帳に追加

To utilize the characteristics of respective substrate removal processes by combining some substrate removal techniques. - 特許庁

製紙用カラーコート塗工工程のデポジット除去剤およびデポジット除去方法例文帳に追加

DEPOSIT-REMOVING AGENT IN PROCESS FOR APPLYING COLOR COAT FOR PAPERMAKING AND DEPOSIT-REMOVING METHOD - 特許庁

そして、金属マスクを除去する金属マスク除去工程（Ｓ６０）を実施する。例文帳に追加

Then, a metal mask removal step (S60) for removing the metal mask is executed. - 特許庁

保護膜５の除去は、化学的または物理的に除去する剥離工程で行う。例文帳に追加

The removal of the protective film 5 is carried out in the peeling process of chemical or physical removal. - 特許庁

まず、非鉄金属製ワークの表面に存在する酸化物膜を除去する（除去工程Ｓ１）。例文帳に追加

First, an oxide film existing on the surface of a nonferrous metallic workpiece is removed (removing process S1). - 特許庁