| 意味 | 例文 |
Circle Methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 161件
A pigment whose contrast ratio measured by a contrast ratio test paper method stipulated by a JIS K5101 is 10-15% is incorporated as a colorant in addition to a binder resin, and ≥50 capacity % by taking the total amount of the pigment as a reference is occupied by pigment particles whose Feret's circle equivalent diameter is ≥0.3 μm.例文帳に追加
バインダ樹脂に追加して、ＪＩＳ Ｋ５１０１に規定される隠蔽率試験紙法によって測定される隠蔽度が１０〜５０％である顔料を着色剤として含有するとともに、顔料の全量を基準にして５０容量％以上を、フェレ円相当径が０．３μｍ以上の顔料粒子が占有しているように構成する。 - 特許庁
To provide an item editing device capable of laying out a plurality of reduced image items, where a raw image is reduced into optimum shape, in matching with the shape of a print region, on a layout region having the doughnut-shaped print region formed by a circle or two concentric circles that have a different radii, and to provide a method of editing the items and a program.例文帳に追加
円形または半径の異なる２つの同心円によって形成されるドーナツ形の印刷領域を有するレイアウト領域上に、印刷領域の形状に合わせて、素画像を最適な形に縮小した複数個の縮小画像アイテムをレイアウトすることが可能なアイテム編集装置、アイテム編集方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁
A method of manufacturing a crystal oscillator for carrying out the frequency adjustment in units of crystal wafers includes the steps of: measuring the thickness on a predetermined concentric circle of the crystal wafer; etching the thick portion thereof by a processing liquid for selectively dissolving the crystal based on the thickness measurement result; and adjusting the frequency by reducing the thickness of the thick portion.例文帳に追加
水晶ウエハ単位で周波数調整を行う水晶振動子の製造方法であって、該水晶ウエハの所定の同心円上における厚みを測定し、該厚み測定結果に基づいて、厚い部分を選択的に水晶を溶解することができる処理液によりエッチングして、該厚い部分の厚みを減じて周波数調整を行う。 - 特許庁
In the method for cutting an adhesive tape 7 into a predetermined size of circular shape by rotating an edge 8 along the circumference of a given size of large circle, the edge 8 is directed toward the inner peripheral side of the circumferential direction and rotated so that the cutting path by the edge 8 at the cutting start site coincides with the cutting path at the cutting end site.例文帳に追加
任意の大きさの円の円周上で刃物８を周回させ、粘着テープ７を所定の大きさの円形状に切断する切断方法であって、刃物８を円周の周回方向の内周側に向けて周回させ、刃物８による切断軌跡を切断開始部位と切断終了部位とで一致させることを特徴とする。 - 特許庁
In the method for manufacturing a compound semiconductor single crystal, a compound semiconductor single crystal represented by a general formula, InxCayAlzN (wherein, x+y+z=1; 0≤x≤1; 0≤y≤1; 0≤z≤1), is selectively grown on a semiconductor silicon substrate equipped with a mask having a through-hole with a circle conversion diameter of ≤1 μm.例文帳に追加
円換算直径が１μｍ以下の貫通孔を有するマスクを設けた半導体シリコン基板上に、一般式ＩｎｘＧａｙＡｌｚＮ（ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１，０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１）で表される化合物半導体単結晶を選択的に成長させることを特徴とする、化合物半導体単結晶の製造方法。 - 特許庁
In this method, an image of freshly mixed concrete aggregate having a predetermined scope of particle diameter which is imaged by a digital camera is converted into a binarized image having black and white colors and is scanned to compute distribution of particle size of the freshly mixed concrete aggregate having equivalent circle diameter and analyze the quality of the image of the freshly mixed concrete aggregate.例文帳に追加
本発明は、所定範囲の粒径からなる生コンクリート骨材をデジタルカメラによって撮像したものを、白黒からなる２値化した画像に変換し、前記画像を走査することにより、等価円直径からなる前記生コンクリート骨材の粒度分布を算定して、前記生コンクリート骨材の品質を画像解析するものである。 - 特許庁
The method has a process for fitting a plurality of die members 3a-3f having the shape of a concentric circle and having a thickness corresponding to the pitch of a relief pattern, to manufacture the die 1 provided with a relief pattern surface 2, and a process for molding an optical material moldable by using a manufactured die 1, to mold the diffracted optical device having the relief pattern on the surface.例文帳に追加
レリーフパターンのピッチに対応する厚さを有する同心円状の型部材３ａ乃至３ｆを複数個嵌合させ、レリーフパターン面２を備えた成形型１を作製する工程と、作製した成形型１を用いて成形可能な光学材料を成形し、表面にレリーフパターンを有する回折光学素子を成形する工程とを有するものである。 - 特許庁
The image forming method includes a step of forming clear dots made of clear toner on an image, wherein the image has a 75° glossiness of 10-60, the clear dots are formed by non-contact thermal fixing, and the clear dots have a protrusion shape having a ratio of an average height (H) to an average circle-equivalent diameter (R) within a range of 0.005≤H/R≤10.例文帳に追加
画像形成方法は、画像上にクリアトナーからなるクリアドットを形成する工程を含む方法において、前記画像が７５°光沢度１０〜６０のものであり、前記クリアドットが非接触加熱定着によって形成されたものであり、当該クリアドットが、平均の円相当径（Ｒ）に対する平均高さ（Ｈ）が、０．００５≦Ｈ／Ｒ≦１０の範囲の突起状形状を有することを特徴とする。 - 特許庁
A method of scrolling a device with a touchscreen comprises the steps of: determining whether a current touch input to the touchscreen is a circular drag touch; responsive to the current touch input being the circular drag touch, determining whether a current page is a scrollable screen; and responsive to the current page being a scrollable screen, scrolling the current page according to a circle drawing action of the circular drag touch.例文帳に追加
タッチスクリーンを含む装置のスクロール方法において、前記タッチスクリーンに現在入力されるタッチが円形ドラッグタッチであるか否かを判定する段階と、円形ドラッグタッチである場合、現在ページがスクロール可能な画面であるか否かを判定する段階と、現在ページがスクロール可能な画面である場合、前記円形ドラッグタッチの円を描く動作に対応して現在ページをスクロールさせる段階とを有する。 - 特許庁
The process management method includes steps of: (A) calculating wiring resistance and wiring capacitance in a condition where manufacturing dispersion of the width and thickness of the wiring is represented by points on a predetermined equal probability circle of a joint probability density function; and (B) specifying a variation range RNG of the wiring resistance and the wiring capacitance caused by the manufacturing dispersion based on the calculated wiring resistance and wiring capacitance.例文帳に追加
そのプロセス管理方法は、（Ａ）配線の幅及び厚さの製造ばらつきが同時確率密度関数の所定の等確率円上の点で表されるという条件の下で、配線抵抗及び配線容量を算出するステップと、（Ｂ）算出された配線抵抗及び配線容量に基づいて、製造ばらつきに起因する配線抵抗及び配線容量の変動範囲ＲＮＧを規定するステップとを含む。 - 特許庁
A method includes the steps of: sequentially conveying a perforated current collector 1 along the prescribed conveying path; applying slurry 2 supplied from a coating part 3 installed in the conveying path to one surface of the perforated current collector 1; and making circle a liquid repellent member 27 so that at least a part sequentially comes in contact with the other surface of the perforated current collector coated with the slurry and moves together with the perforated current collector 1.例文帳に追加
孔開き集電体１を所定の搬送経路に沿って順次搬送する工程と、前記搬送経路中に設けられた塗工部３から供給されるスラリー２を孔開き集電体１の一方の面に塗工する工程と、前記スラリーが塗工された前記孔開き集電体の他方の面に、少なくともその一部が順次当接して該孔開き集電体１とともに移動するように、撥液部材２７を周回させる工程とを備える。 - 特許庁
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