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DIFLUORIDEを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 60件
This device is provided with a processing chamber 11 for etching a substrate 91, a microwave generator 21 feeding etching gas excited by microwave into the processing chamber 11, and a gas feeder 31 feeding xenon difluoride gas into the processing chamber 11.例文帳に追加
基体91がエッチングされる処理室11と、処理室11内へマイクロ波で励起されたエッチングガスを供給するマイクロ波発生装置21と、処理室11へ二フッ化キセノンガスを供給するガス供給装置31とを備えたものである。 - 特許庁
In manufacturing carbonyl difluoride by making carbon monoxide react with a metal fluoride, a step to make carbon monoxide react with the metal fluoride and a step to make the metal fluoride react with fluorine is alternately repeated in an identical reactor.例文帳に追加
一酸化炭素と金属フッ化物と反応させて二フッ化カルボニルを製造するに際し、同一反応器内で、一酸化炭素と金属フッ化物とを反応させる工程と、金属フッ化物とフッ素を反応させる工程と、交互に繰り返す。 - 特許庁
The tip part 312 of a rough silicon-based field emitter is exposed to a xenon difluoride gas in a process chamber, to implement low-temperature isotropic etching for the tip part of the rough silicon- based field emitter, so that the final sharpened tip part of the field emitter is formed.例文帳に追加
おおざっぱなシリコンベースの電界放出器先端部(312)が、プロセスチャンバ内で二フッ化キセノンガスにさらされ、おおざっぱなシリコンベースの電界放出器先端部の低温等方性エッチングを実行し、最終の先鋭化された電界放出器先端部が形成される。 - 特許庁
When carbonyl difluoride is produced continuously by the reaction of carbon monoxide with gaseous fluorine, the third component gas which is at least one or more kinds selected from the group consisting of N_2, He, Ne and Ar is added and reacted at a dynamic state and under a reduced pressure while flowing the gas.例文帳に追加
一酸化炭素とフッ素ガスとの反応により、連続的に二フッ化カルボニルを製造するに際し、N_2、He、Ne、Arから選ばれる第3成分ガスを少なくとも1種以上添加し、動的状態でかつ減圧下でガスを流通させながら反応させる。 - 特許庁
A trivalent black chromate treating liquid is used for depositing the trivalent black chromate film on zinc or zinc alloy plating containing chromium nitrate, cobalt nitrate and sulfur-combined organic acid, wherein the treatment is performed by using the liquid containing 0.5-10 g/L chromium chloride and 0.01-20 g/L ammonium monohydrogen difluoride.例文帳に追加
硝酸クロム、硝酸コバルト、硫黄化合有機酸を含む亜鉛又は亜鉛合金めっき上に三価黒色クロメート皮膜を形成するための三価黒色クロメート処理液において、塩化クロム0.5〜10g/Lと、一水素ニ弗化アンモニウム0.01〜20g/Lを含めたものを用いて処理を行う。 - 特許庁
The objective polymer removing solution composition contains (1) at least one fluoride salt or difluoride salt comprising hydrofluoric acid and one selected form the group comprising ammonia, hydroxylamines, aliphatic amines, aromatic amines and aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, (2) at least one oxygen-containing organic solvent selected from alcohols and ketones and (3) water.例文帳に追加
(1)フッ化水素酸とアンモニア、ヒドロキシルアミン類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、脂肪族ないし芳香族第4級アンモニウム塩からなる群から選ばれるフッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも1種;(2)アルコール類及びケトン類からなる少なくとも1種の含酸素有機溶媒;及び(3)水を含むことを特徴とするポリマー剥離液組成物。 - 特許庁
The fibers of fluorine fibers, glass fibers, carbon, silica fibers, vinylidene difluoride chloride fibers, polypropylene fibers, polyester fibers, or amide fibers having the thickness less than 1μ are cut in the range of 0.4-5 mm, impregnated in liquid mixed in dispersion containing fluororesin particulates and polyimide resin particulates, and heated to 150 to 330 degrees to fix and dry resins.例文帳に追加
太さ1μ未満のフッ素系繊維、ガラス系繊維、カーボン、シリカ系繊維、2フッ化塩化ビニリデン繊維、ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊維又はアミド系繊維のファイバーを0.4mm〜5mmの範囲でカットし、フッ素系樹脂微粒子とポリイミド樹脂微粒子を含む分散液に混合した液で含浸して、150度〜330度に加熱して樹脂を固定乾燥する。 - 特許庁
This detergent composition is characterized by containing (1) at least one selected from the group consisting of hydroxyamines, aliphatic amines, aromatic amines, and aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, and at least one of fluoride salts and difluoride salts formed of hydrofluoric acid, (2) at least one of organic solvents having a hetero atom, and (3) water.例文帳に追加
(1)ヒドロキシルアミン類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、脂肪族ないし芳香族第4級アンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種とフッ化水素酸から形成されたフッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも1種;(2)ヘテロ原子を有する有機溶媒の少なくとも1種;及び(3)水を含むことを特徴とする洗浄用組成物。 - 特許庁
To provide an industrially advantageous method capable of suppressing a local and rapid temperature rise in a reactor produced by a reaction of carbon monoxide and fluorine, uniforming the reaction temperature and obtaining carbonyl difluoride (COF_2) which is useful as a washing gas for semiconductor CVD or the like with high purity, high yield and good energy efficiency.例文帳に追加
一酸化炭素とフッ素との反応によって生じる反応容器内の局所的かつ急激な温度上昇を抑制し、反応温度の均一化を可能にするとともに、半導体CVD用の洗浄ガス等として有用な二フッ化カルボニル(COF_2)を、高純度、高収率で、かつエネルギー効率よく得ることができる、工業的に有利な製造方法を提供すること。 - 特許庁
CMP slurry cleaning agent composition includes (1) at least fluoride salt or difluoride salt selected from a group constituted of hydrofluoric acid and ammonia, a hydroxylamine class, a fatty amine class, an aromatic amine class, and fatty or aromatic group quaternary ammonium salt; (2) at least one type of organic solvent containing oxygen, which consists of an alcohol class and a ketone class; and (3) water.例文帳に追加
(1)フッ化水素酸とアンモニア、ヒドロキシルアミン類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、脂肪族ないし芳香族第4級アンモニウム塩からなる群から選ばれるフッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも1種;(2)アルコール類及びケトン類からなる少なくとも1種の含酸素有機溶媒;及び(3)水を含むことを特徴とするCMPスラリー洗浄液組成物。 - 特許庁
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