「EX-P」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The exposure apparatus EX exposes a substrate P by projecting an image of a pattern on the substrate P through a projection optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

An exposure device EX is an immersion exposure device for exposing a substrate P with exposing light EL via fluid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。 - 特許庁

The device production system SYS has an exposure body portion EX which exposes a substrate P to light to transfer a pattern to the substrate P; conveying units H1 and H2 for conveying the substrate P from the exposure body portion EX to a stage portion ST; and a conveying unit H3 for conveying the substrate P from the stage portion ST to a substrate housing apparatus F.例文帳に追加

デバイス製造システムＳＹＳは、パターンを基板Ｐに露光する露光本体部ＥＸと、露光本体部ＥＸからステージ部ＳＴまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ１，Ｈ２と、ステージ部ＳＴから基板収納装置Ｆまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ３とを有している。 - 特許庁

The exposure apparatus EX is provided with a detecting device 60 that detects defects in thin films formed on the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、基板Ｐ上に形成された薄膜の欠陥を検出する検出装置６０を備えている。 - 特許庁

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

The exposure system EX fills a space between the projection lens system PL and the substrate P up with the liquid 50, and the substrate P is exposed by the projection lens system PL, by projecting an image of the pattern on the substrate P via the liquid 50.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体５０で満たし、投影光学系ＰＬにより液体５０を介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって基板Ｐを露光する。 - 特許庁

The exposure device SYS is provided with an exposure processing main body part EX which illuminates a mask M with exposing light EL to expose the pattern of the mask M to a photosensitive board P, and carrying systems MR and PR for carrying the mask and the photosensitive board P to the exposure processing main body part EX.例文帳に追加

露光装置ＳＹＳは、マスクＭを露光光ＥＬで照明し、マスクＭのパターンを感光基板Ｐに露光する露光処理本体部ＥＸと、露光処理本体部ＥＸに対してマスク及び感光基板Ｐを搬送する搬送系ＭＲ、ＰＲとを備えている。 - 特許庁

The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.例文帳に追加

本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。 - 特許庁

An exposure device EX exposes a substrate P by projecting a pattern image on the substrate P through a projection optical system PL and liquid 1, and comprises a liquid supply mechanism 10 supplying the liquid 1 to a location between the projection optical system PL and the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介してパターン像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光するものであって、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間へ液体１を供給する液体供給機構１０を備えている。 - 特許庁

The exposure apparatus EX exposes a substrate P by irradiating the substrate P with exposure light EL through liquid 1, and comprises a substrate table PT for holding the substrate P, which is detachably provided with a plate member 30 having a liquid-shedding flat plane 30A.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体１を介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持するための基板テーブルＰＴを備え、基板テーブルＰＴに、撥液性の平坦面３０Ａを有するプレート部材３０が交換可能に設けられている。 - 特許庁

This exposure apparatus EX is used for exposing a substrate P to light by irradiating the substrate P with exposure light EL through a liquid 1, and has a substrate table PT for holding the substrate P, wherein a plate member 30 having a liquid repellent flat surface 30A is replaceably arranged on the substrate table PT.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体１を介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持するための基板テーブルＰＴを備え、基板テーブルＰＴに、撥液性の平坦面３０Ａを有するプレート部材３０が交換可能に設けられている。 - 特許庁

The exposure device EX for irradiating an exposure light EL on a substrate P through the liquid LQ for exposing the substrate P has a substrate holder PH that holds the substrate P; a substrate stage PST that is movable with a substrate P held on the substrate holder PH; and a temperature control system 60 that regulates the temperature of the substrate holder PH.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持する基板ホルダＰＨを有し、この基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダＰＨの温度調整を行う温調システム６０とを備えている。 - 特許庁

The apparatus EX for exposing comprises a substrate holder PH for mounting a photosensitive substrate P, and a soft X-ray emitting unit 11 for emitting soft X-rays XB which are different from an exposure light EL along a mounting surface A of the holder PH for mounting the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを載置する基板ホルダＰＨと、感光基板Ｐを載置する基板ホルダＰＨの載置面Ａに沿って露光光ＥＬとは異なる軟Ｘ線ＸＢを照射する軟Ｘ線照射部１１とを備えている。 - 特許庁

In the exposure apparatus EX, the optical-path space of the image-surface side of a projecting optical system PL is so filled with a liquid LQ as to subject a substrate P to an exposure via the projecting optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの像面側の光路空間を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光する。 - 特許庁

The apparatus EX adjusts the position relation between the images of the first and second patterns PA1, PA2 and a predetermined region S on a substrate P on the basis of a result of detection, and performs multiple exposure for the predetermined region S on the substrate P using the images of the first and second patterns PA1, PA2.例文帳に追加

検出結果に基づいて、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像と基板Ｐ上の所定領域Ｓとの位置関係を調整し、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像で基板Ｐ上の所定領域Ｓを多重露光する。 - 特許庁

This exposure apparatus EX includes a projection optical system PL, wherein an optical path space K1 of exposure light between the projection optical system and a substrate P is filled with a liquid LQ, and the substrate is exposed to light through the liquid.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬを備え、投影光学系と基板Ｐとの間の露光光の光路空間Ｋ１が液体ＬＱで満たされ、液体を介して基板を露光する。 - 特許庁

The aligner EX is provided with an optical device LS1 that is directed upwardly and has a concave surface 2 from which the exposure light EL is irradiated, and a substrate support member 4 that supports the substrate P above the concave surface 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、上方を向き、露光光ＥＬが射出される凹面２を有する光学素子ＬＳ１と、凹面２の上方で基板Ｐを保持する基板保持部材４とを備えている。 - 特許庁

The exposure apparatus EX is equipped with: a substrate stage PST having a substrate holder 52 for holding the substrate P and movable while holding the substrate P on the substrate holder 52; a detector for detecting whether the substrate P or a dummy substrate is held by the substrate holder 52; and a controller CONT for changing a movable area of the substrate stage PST according to the detection results of the detector.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダ５２を有し、基板ホルダ５２に基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダ５２に基板Ｐもしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージＰＳＴの可動領域を変更する制御装置ＣＯＮＴとを備える。 - 特許庁

The aligner EX is provided with a lighting optical system IL for illuminating a mask M forming a pattern by exposure light EL from the light source 10, and a projection optical system PL for transferring a pattern image on a photosensitive substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１０からの露光光ＥＬで、パターンが形成されたマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、パターンの像を感光基板Ｐ上に転写する投影光学系ＰＬとを備えている。 - 特許庁

This projection aligner EX has a substrate stage PST that moves the substrate P in the optical-axis direction of the projection optical system PL during exposure, and a controlling device CONT that sets at least one of a position in a Z direction on the substrate P and the travel amount for moving the position during exposure for each exposure of the plurality of patterns PA.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光中に投影光学系ＰＬの光軸方向に基板Ｐを移動させる基板ステージＰＳＴと、複数のパターンＰＡのそれぞれの露光毎に、基板ＰのＺ方向の位置と、この位置を露光中に移動させる移動量との少なくとも一方を設定する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

The exposure apparatus EX, which has an exposure light EL irradiated onto a substrate P, using liquid LQ supplied by a liquid supply mechanism 10 and a projection optical system PL and exposes the substrate P, is provided with a pressure adjusting mechanism 90 that adjusts the pressure of the liquid LQ supplied by the liquid supply mechanism 10.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体供給機構１０から供給された液体ＬＱと投影光学系ＰＬとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、液体供給機構１０から供給された液体ＬＱの圧力を調整する圧力調整機構９０を備えている。 - 特許庁

The exposure system EX achieves liquid immersion exposure; while adjusting a position relation of the surface of the substrate P to the image face formed via the projection lens system PL and the liquid 50, based on the face information detected at the focus leveling detection system 14.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、フォーカス・レベリング検出系１４で検出された面情報に基づいて基板Ｐ表面と投影光学系ＰＬ及び液体５０を介して形成される像面との位置関係を調整しつつ基板Ｐの液浸露光を行う。 - 特許庁

The exposure device EX includes: a first member 2 which is movable on a first surface containing an irradiation position of exposure light and holds a substrate P in a releasable state; and a second member 7 which is movable on the first surface and holds a maintenance unit 6 in a releasable state.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光光の照射位置を含む第１面上を移動可能であり、基板Ｐをリリース可能に保持する第１部材２と、第１面上を移動可能であり、メンテナンスユニット６をリリース可能に支持する第２部材７とを備えている。 - 特許庁

The exposing device EX is equipped with a first exposure station ST 1 and a second exposure station ST 2 capable of exposing a photosensitive substrate P and a control system CONT for controlling the exposure in such a manner that after the first exposure is performed in the first exposure station ST 1, the photosensitive substrate P undergoing the first exposure is continuously subjected to second exposure at the second exposure station ST 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを露光可能な第１露光ステーションＳＴ１及び第２露光ステーションＳＴ２と、第１露光ステーションＳＴ１で第１の露光を行った後、この第１の露光を行った感光基板Ｐに対して第２露光ステーションＳＴ２で第２の露光を連続して行うように制御する制御系ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

The aligner EX includes the light source A, an aligner body B for exposing a photosensitive substrate P with illuminating light from the source A, a controller CONT for controlling the exposure operation of the body B, and a communication apparatus 50 for communicating with the controller CONT for information relating to the operating state of the source A.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源装置Ａと、光源装置Ａからの照明光により感光基板Ｐを露光処理する露光装置本体Ｂと、露光装置本体Ｂの露光動作を制御する制御装置ＣＯＮＴと、光源装置Ａの動作状況に関する情報を制御装置ＣＯＮＴに通信する通信装置５０とを備えている。 - 特許庁

The exposure device EX is provided with an exposure part S for exposing a pattern of mask M to a substrate P, a library LB which can keep a mask case C for storing the mask M used by the exposure part S, and a conveyance system H1 having an arm 20 for conveying to library LB while being able to hold each of the mask M and the mask case C.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭのパターンを基板Ｐに露光する露光部Ｓと、露光部Ｓで用いるマスクＭを収納するマスクケースＣを保管可能なライブラリＬＢと、マスクＭとマスクケースＣとのそれぞれを保持可能であるとともに、ライブラリＬＢに対して搬送するアーム部２０を有する搬送系Ｈ１とを備えている。 - 特許庁

The aligner EX comprises: a mask stage MST for supporting a mask M having a plurality of pattern regions; a substrate stage PST for supporting a photosensitive substrate P; a storage device MRY prestoring the error information of the measurements of respective shapes of the plurality of patterns and a target shape; and a controller CONT for controlling the mask stage MST and substrate stage PST.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、複数のパターン領域を有するマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、複数のパターンそれぞれのの形状計測結果と目標形状との誤差情報を予め記憶した記憶装置ＭＲＹと、マスクステージＭＳＴ及び基板ステージＰＳＴを制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁