「Insulating」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

To maintain the interfacial level density of the gate insulating film at a low level by forming an insulating film of a high dielectric material.例文帳に追加

高誘電体材料を用いてゲート絶縁膜を形成し、その界面準位密度を低く維持する。 - 特許庁

An insulating resin case 8 is provided so as to cover the first insulating substrate 1 and the semiconductor device 2.例文帳に追加

第１絶縁基板１および半導体素子２を覆うように、絶縁性樹脂ケース８が設けられている。 - 特許庁

A gate insulating layer 5 is formed on the channel region between the source region 2 and third insulating layer 6.例文帳に追加

また、ソース領域２と第３の絶縁層６との間のチャネル領域上には、ゲート絶縁膜５が形成される。 - 特許庁

The intermediate insulating layer is formed on the gate insulating layer, covering at least a part of the gate electrode.例文帳に追加

中間絶縁層は、ゲート絶縁層上に形成されており、ゲート電極の少なくとも一部を覆わっている。 - 特許庁

A second insulating film (12) is located on the first insulating film in the groove, and has a density higher than the first density.例文帳に追加

第２絶縁膜（12）は、溝内で第１絶縁膜上に設けられ、第１密度より高い第２密度を有する。 - 特許庁

An insulating projection T2 having an insulating recess T3 is formed on the lower part side of a flange FL of a bobbin B1.例文帳に追加

ボビンＢ１のフランジ部ＦＬ２の下部側に絶縁用凹部Ｔ３を有する絶縁用突出部Ｔ２を設ける。 - 特許庁

A gate insulating film is formed on the channel area, and a gate pattern is formed on the gate insulating film.例文帳に追加

チャンネル領域上にゲート絶縁膜が形成されており、ゲート絶縁膜上にゲートパターンが形成されている。 - 特許庁

The structure includes at least two layers of the insulating coating film layer and the stone-tone coating film layer which is formed on the insulating coating film layer.例文帳に追加

断熱塗膜層と、その上に形成された石材調塗膜層との少なくも２層構造を備える。 - 特許庁

To provide a heat insulating structure of high heat insulating performance and low costs, and to provide a beverage dispenser including the same.例文帳に追加

断熱性能が高く、しかもコスト安価な断熱構造およびこれを備える飲料ディスペンサを提供する。 - 特許庁

The first metal plate 4 is joined to the insulating substrate, and has a larger coefficient of thermal expansion than the insulating substrate.例文帳に追加

第１金属板４は、絶縁基板に接合され、且つ、絶縁基板よりも大きな熱膨張率を有する。 - 特許庁

Rectangular collector parts 21 and 22 are respectively formed on a first insulating part 11 and a second insulating part 12.例文帳に追加

第１絶縁部１１および第２絶縁部１２上に、矩形の集電部２１，２２がそれぞれ形成される。 - 特許庁

The second insulating film is formed on the first insulating film except inside of the openings, and has openings.例文帳に追加

第２の絶縁膜は、開口部の内側を除き第１の絶縁膜上に形成され、かつ開口部を備える。 - 特許庁

The first pattern is formed over the insulating surface (hereafter, a first insulating surface) of the first substrate, and made of a conductive material.例文帳に追加

第１のパターンは第１の基板の絶縁表面（以下、第１の絶縁表面）上に導電材料でなる。 - 特許庁

In the heat insulating panel, the metal skin 1 and the heat insulating material 2 formed of a resin foam are integrally laminated.例文帳に追加

金属外皮１と樹脂発泡体からなる断熱材２とが積層一体化された断熱パネルに関する。 - 特許庁

By synergic effects of respective suppression effects of the heat transfer radiation, the heat insulating material can exhibit enhanced heat insulating performance.例文帳に追加

それぞれの輻射伝熱抑制効果の相乗効果により、優れた断熱性能を発揮することができる。 - 特許庁

To provide a vacuum circuit breaker using an insulating shaft of three-phase integrated type, the insulating shaft securing the priority for grounding breakdown.例文帳に追加

地絡優先で絶縁破壊する三相一体の絶縁シャフトを用いた真空遮断器を提供する。 - 特許庁

A thickness t3 of an insulating layer exposed portion 41b is smaller than a thickness t2 of an insulating layer unexposed portion 41a.例文帳に追加

絶縁層露出部４１ｂの厚さｔ３は絶縁層非露出部４１ａの厚さｔ２よりも小さい。 - 特許庁

The insulating substrate 30 includes a first wiring layer 31, a ceramic insulating layer 32 and a second wiring layer 33.例文帳に追加

絶縁基板３０は、第１配線層３１とセラミック絶縁層３２と第２配線層３３を備えている。 - 特許庁

A wiring board 1 has insulating layers 2a to 2f and a through-conductor 6b formed in the insulating layers 2a to 2f.例文帳に追加

配線基板１は、絶縁層２ａ〜２ｆと絶縁層２ａ〜２ｆに形成された貫通導体６ｂとを有する。 - 特許庁

A second insulating film 106 is formed at the upper part of the first insulating film 102 and the drain contact plug 104.例文帳に追加

この第１絶縁膜１０２とドレインコンタクトプラグ１０４の上部に第２絶縁膜１０６が形成される。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR THERMOFORMING THICK HEAT- INSULATING MEMBER AND THICK HEAT-INSULATING MEMBER例文帳に追加

厚物断熱性部材加熱成形装置、厚物断熱性部材の加熱成形方法および厚物断熱性部材 - 特許庁

To increase strength in a heat-insulating roof in which a folded plate is fixed and formed doubly through a heat-insulating material.例文帳に追加

断熱材を介し折板を二重に固定して形成する断熱屋根において、強度を高くすること。 - 特許庁

The lower surface of the substrate between the deep insulating region and the first region is coated with an insulating-layer.例文帳に追加

基板の下表面は深い絶縁領域と第１領域の間で絶縁層１３により被覆される。 - 特許庁

To provide a heat insulating member for house highly versatile and free from the problem of fibrous heat insulating material scattering.例文帳に追加

汎用性が高く、繊維状断熱材の飛散の問題がない家屋用断熱部材を提供すること。 - 特許庁

The first insulating member 12b is a cross-sectional trapezoidal shape protruding in tapering-off shape from the insulating substrate 10.例文帳に追加

第１の絶縁部材１１は絶縁基板１０から先細状に突出する断面台形状である。 - 特許庁

Thereafter, the isolation insulating film 106 is polished with the CMP method to form the isolation insulating films 106a, 106b.例文帳に追加

その後、ＣＭＰ法により分離絶縁膜１０６を研磨して分離絶縁膜１０６ａ、１０６ｂを形成する。 - 特許庁

CURABLE COMPOSITION FOR HEAT INSULATING COATING MATERIAL COMPRISING FLAKY SILICA PARTICLE AND FLEXIBLE HEAT INSULATING CURED PRODUCT例文帳に追加

鱗片状シリカ粒子を含有する断熱性コーティング材用硬化性組成物及び可撓性断熱性硬化体 - 特許庁

To prevent a contamination on an insulating film interface and control a damage to an insulating film between a semiconductor substrate and a control gate.例文帳に追加

絶縁膜界面の汚染を防止し、半導体基板とコントロールゲートの間の絶縁膜の破壊を抑制する。 - 特許庁

Then, a second insulating film 6 is formed on the first insulating film to contain the wiring and dummy wiring.例文帳に追加

次に、配線およびダミー配線上を含むように、第１の絶縁膜上に第２の絶縁膜６を形成する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FILM, INSULATING FILM OBTAINED FROM THE COMPOSITION FOR FORMING FILM AND ELECTRONIC DEVICE HAVING THE INSULATING FILM例文帳に追加

膜形成用組成物、膜形成用組成物から得られた絶縁膜、および絶縁膜を有する電子デバイス - 特許庁

The vacuum heat insulating container 1 includes the vacuum heat insulating layer 4 filled with the filler gas 5.例文帳に追加

真空断熱層４を有する真空断熱容器１であって、真空断熱層４に封入ガス５を封入する。 - 特許庁

A substrate for a probe card includes an insulating layer 1 and a conductor pattern 2 formed on the insulating layer 1.例文帳に追加

プローブカード用基板は、絶縁層１と、絶縁層１の上に形成された導体パターン２とを含んでいる。 - 特許庁

COMPOSITIONS FOR FORMING FILM, INSULATING FILM HAVING LOW DIELECTRIC CONSTANT, METHOD FOR FORMING INSULATING FILM HAVING LOW DIELECTRIC CONSTANT AND SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

膜形成用組成物、低誘電率絶縁膜、低誘電率絶縁膜の形成方法及び半導体装置 - 特許庁

The insulated body 2 is constructed of a thermo-plastic fluororesin and has an insulating layer 3 and an insulating rib 4.例文帳に追加

絶縁体２は、熱可塑性フッ素樹脂から構成されており、絶縁層３と絶縁リブ４とを備える。 - 特許庁

A first insulating film, a charge trapping film, and a second insulating film are formed between a semiconductor substrate and a conductive film.例文帳に追加

半導体基板と導電膜の間には、第１絶縁膜、電荷トラップ膜、第２絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

The reliability of the insulating film is improved by suppressing ion-induced damage generation in the insulating film.例文帳に追加

イオンによる絶縁膜中のダメージの発生を抑制することにより、絶縁膜の信頼性を向上させる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED AND METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED例文帳に追加

絶縁処理を施した金属エッチング製品の製造方法および絶縁処理を施した金属エッチング製品 - 特許庁

An element-isolation insulating film 122 having a wing spacer A for protecting the side wall of a tunnel insulating film 102 is formed.例文帳に追加

トンネル絶縁膜１０２の側壁を保護ウィングスペーサＡを持つ素子分離用絶縁膜１２２を形成する。 - 特許庁

ORGANIC INSULATING FILM AND METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING ORGANIC INSULATING FILM AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加

有機絶縁膜及びその製造方法及び有機絶縁膜を用いた半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

The resistance parts R1 and R2 are formed in an insulating part with a lower breakdown voltage among the insulating parts INS1 and INS2.例文帳に追加

抵抗部Ｒ１、Ｒ２は、絶縁部ＩＮＳ１、ＩＮＳ２のうちブレークダウン電圧が低い絶縁部に形成される。 - 特許庁

The first insulating resin layer 5 has larger rigidity than the second insulating resin layer 6.例文帳に追加

前記第一の絶縁樹脂層５の剛性は、前記第二の絶縁樹脂層６の剛性よりも高くなっている。 - 特許庁

METHOD OF FORMING INSULATING FILM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING OXIDE FILM OBTAINED BY THE METHOD AS GATE INSULATING FILM例文帳に追加

絶縁膜形成方法、及び該方法により得られた酸化膜をゲート絶縁膜として用いる半導体装置 - 特許庁

An element isolation insulating film 2 is formed on the semiconductor substrate 1 in Fig.(a), and a gate insulating film 6 is deposited.例文帳に追加

図１（ａ）で半導体基板１の上に素子分離絶縁膜２を形成後、ゲート絶縁膜６を堆積する。 - 特許庁

An inter-gate insulating layer 17 is formed on the floating gate electrode 13 and the device isolation insulating layer 16.例文帳に追加

フローティングゲート電極１３上及び素子分離絶縁層１６上には、ゲート間絶縁層１７が形成される。 - 特許庁

VACUUM HEAT INSULATING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, NOTE TYPE PERSONAL COMPUTER USING THE VACUUM HEAT INSULATING MATERIAL, AND PRINTING DEVICE例文帳に追加

真空断熱材とその製造方法、その真空断熱材を用いたノート型パーソナルコンピューター、印刷装置 - 特許庁