LOCK CHAMBERの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 499件
VACUUM CHAMBER, LOAD LOCK CHAMBER, AND PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
真空チャンバ、ロードロックチャンバ、及び処理装置 - 特許庁
In another embodiment, the chamber is one of a chemical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a metrology chamber, a thermal processing chamber, or a physical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a substrate transfer chamber or a vacuum chamber.例文帳に追加
他の実施形態において、チャンバは、化学気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、計測チャンバ、熱処理チャンバ、又は物理気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、基板搬送チャンバ、又は真空チャンバの１つである。 - 特許庁
The load lock chamber 2, the processing chamber 1, and the unload lock chamber can be evacuated, and the carrier chamber can have an airtight structure.例文帳に追加
ロードロック室２、処理室１、アンロードロック室は真空排気可能であり搬送室を密閉構造とすることが可能である。 - 特許庁
To provide a small vacuum chamber not requiring a load lock chamber.例文帳に追加
ロードロックチャンバが必要無い小型真空チャンバを提供する。 - 特許庁
The load-lock comprises a load-lock chamber, a means for exhausting the load-lock chamber, and a door means for closing the load-lock chamber during exhaust operation and opening the load-lock chamber in order to feed the article into the load-lock chamber or taking out the article therefrom.例文帳に追加
ロード・ロックは、ロード・ロック・チャンバと、このロード・ロック・チャンバを排気する排気手段と、排気時にロード・ロック・チャンバを閉鎖し、かつロード・ロック・チャンバの中へ物体を送り、またはそれから物体を取り出すためにロード・ロック・チャンバを開放するドア手段とを備える。 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER FOR VACUUM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
真空処理装置用ロードロック室 - 特許庁
VACUUM CHAMBER LOAD LOCK STRUCTURE AND ARTICLE TRANSPORT MECHANISM例文帳に追加
真空チャンバロードロック構造及び物品搬送機構 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
ロードロックチャンバ及び成膜方法 - 特許庁
LOAD-LOCK CHAMBER, EXPOSURE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
ロードロックチャンバー、露光装置、デバイスの製造方法 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER, PROCESSING SYSTEM, AND PROCESSING METHOD例文帳に追加
ロードロック室、処理システム及び処理方法 - 特許庁
DEVICE FOR INTRODUCING GAS INTO LOAD LOCK CHAMBER例文帳に追加
ロードロックチャンバーへのガス導入装置 - 特許庁
To provide a method of opening a load lock chamber to the atmosphere and the load lock chamber, capable of opening the load lock chamber to the atmosphere in a short time without whirling up foreign matters in the interior of the load lock chamber, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加
ロードロック室内部に異物を巻上げずに短時間で大気開放を行うことができるロードロック室の大気開放方法、ロードロック装置及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER AND EVACUATION METHOD THEREFOR例文帳に追加
ロードロック室及びその排気方法 - 特許庁
GAS INTRODUCTION MECHANISM AND LOAD LOCK CHAMBER例文帳に追加
ガス導入機構及びロード・ロック室 - 特許庁
In the load lock chamber 11B, a heating device 90 for heating the inside of the load lock chamber 11B is provided, and a vacuum pump 15' for evacuating the inside of the load lock chamber 11B is connected to the load lock chamber 11B.例文帳に追加
ロードロック室１１Ｂには、ロードロック室１１Ｂの内部を加熱可能な加熱装置９０が設けられ、ロードロック室１１Ｂ内を排気可能な真空ポンプ１５’が接続されている。 - 特許庁
A lock operation chamber (35) is provided to radially shrink the sleeve member (27) and the lock operation chamber (35) is made to communicate with a lock port (37).例文帳に追加
そのスリーブ部材（２７）を縮径させるロック作動室（３５）を設け、そのロック作動室（３５）にロックポート（３７）を連通させる。 - 特許庁
Thereafter, the substrate is carried into a processing chamber from the load lock chamber and is processed in the processing chamber.例文帳に追加
その後、基板はロードロック室から処理室に搬送され、処理室の中で処理される。 - 特許庁
The air lock chamber 3 enable evacuation through an exhaust port 9 and a space between the air lock chamber 3, and the vacuum chamber 1 is partitioned by a vacuum valve 8.例文帳に追加
エアロック室３は排気ポート９から真空排気を可能とし、エアロック室３と真空チャンバ１の間を真空バルブ８で仕切る。 - 特許庁
When the substrate is carried into a load lock chamber, the load lock chamber is evacuated and then purge gas is introduced into the chamber to raise a pressure.例文帳に追加
ロードロック室に基板が搬入されると、ロードロック室の中は、まず排気され、その後パージガスが導入されて圧力が上昇する。 - 特許庁
The load-lock chamber 8 is then closed gastight, and pressure in the load-lock chamber 8 is increased to be as high as pressure in the reflow treatment chamber 4.例文帳に追加
次に、ロードロック室８を密閉して、ロードロック室の圧力をリフロー処理室４と同じ圧力まで加圧する。 - 特許庁
The wafer scrubber chamber and the vacuum ultraviolet ray treating chamber re connected together with a load-lock chamber 28, and the vacuum ultraviolet ray treating chamber and a CVD chamber 12 are connected together with a load-lock chamber 30.例文帳に追加
ウエハスクラバ室と真空紫外光処理室との間がロードロック室２８により接続されており、真空紫外光処理室とＣＶＤ室１２との間がロードロック室３０により接続されている。 - 特許庁
A semiconductor device manufacturing apparatus includes a load lock chamber 105, a transport assembly 125 in the load lock chamber, and an airtight ion implantation target chamber 120 connected to the load lock chamber.例文帳に追加
半導体デバイス製造装置は、ロードロックチャンバ１０５と、ロードロックチャンバ内の搬入アセンブリ１２５と、ロードロックチャンバに気密封止して連結されたイオン注入ターゲットチャンバ１２０とを含む。 - 特許庁
METHOD OF OPENING LOAD-LOCK CHAMBER TO ATMOSPHERE, LOAD LOCK DEVICE, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
ロードロック室の大気開放方法、ロードロック装置及び半導体製造装置 - 特許庁
An inner wall surface 11a of a load lock chamber 11 of a load lock device is made a mirror-finished surface.例文帳に追加
ロードロック装置のロードロックチャンバー１１の内壁面１１ａを鏡面とする。 - 特許庁
A load lock chamber is placed in a vacuum chamber on the extension of a turntable 8 in the vacuum chamber as a space chamber.例文帳に追加
真空チャンバーには予備チャンバーとしてロードロック室が真空チャンバー内のターンテーブル８の延長上に配置される。 - 特許庁
The device 100 includes a chamber such as a load lock chamber 110, a transfer chamber 115 or a process chamber 120.例文帳に追加
装置115は、ロードロックチャンバ110、トランスファチャンバ115或いはプロセスチャンバ120といったチャンバを含む。 - 特許庁
To improve the quality of board processing by removing harmful matter adhering to the walls of an airtight chamber such as a load lock chamber, a carrying chamber and a processing chamber.例文帳に追加
ロードロック室、搬送室、処理室等気密室の壁面に付着した有害物質を除去し、基板処理の品質を向上する。 - 特許庁
A vacuum chamber (11) includes a small load lock chamber 43 formed at an opening (29) of a wall (15) of the vacuum chamber by a movable article supporting surface section (35) disposed in the vacuum chamber, and a cover (31) disposed outside of the load lock chamber.例文帳に追加
真空チャンバ（11）は、真空チャンバ内に設けられた可動物品支持面部（35）によって真空チャンバの壁（15）の開口部（29）のところに形成された小さなロードロック室（43）と、ロードロック室の外部に設けられたカバー（31）とを有する。 - 特許庁
To provide a vacuum chamber device having load lock chamber that enables a pressure manometer provided to a vacuum chamber to be replaced, without exposing the vacuum chamber, a load lock chamber, or the like, to the atmosphere, when the pressure manometer is replaced.例文帳に追加
真空チャンバーに設けられている圧力計を交換する際に、真空チャンバー内やロードロック室等を大気開放することなく交換できるロードロック室を有する真空チャンバー装置を提供することである。 - 特許庁
The semiconductor substrate processing apparatus includes a processing chamber 101, a transfer chamber 104, a cooling chamber 107, a load lock chamber 109, an unload lock chamber 110, a transfer machine 113, and a load port section 114.例文帳に追加
半導体基板処理装置は、処理室１０１、搬送室１０４、クーリング室１０７、ロードロック室１０９、アンロードロック室１１０、移載機１１３、ロードポート部１１４を備えて構成される。 - 特許庁
A wafer handling system 200 is provided with a load lock chamber 206 for wafers, a treatment chamber 202 for wafers, and a carrying chamber 204 that connects the load lock chamber to the treatment chamber and includes a wafer carrying mechanism.例文帳に追加
ウエハハンドリングシステム200は、ウエハ用ロードロック室206と、ウエハ用処理室202と、ロードロック室と処理室を連結し、ウエハ移送機構を含む移送室204とを備える。 - 特許庁
The substrate processing module consists of a process chamber PM and a vacuum lock chamber VL.例文帳に追加
基板処理モジュールは、プロセスチャンバＰＭとバキュームロックチャンバＶＬとからなる。 - 特許庁
Load lock chambers 3 and 4 and a reaction chamber 6 are connected to the transfer chamber 5.例文帳に追加
搬送室５には、ロードロック室３、４、及び反応室６が接続されている。 - 特許庁
The supporting surface section and the cover are pressed to the wall of the vacuum chamber to seal the load lock chamber.例文帳に追加
支持面部及びカバーは、真空チャンバ壁に押し付けられると、これに対して封止される。 - 特許庁
The treater comprises a treating chamber 1, a transport chamber 2, and load lock chambers 3 and 4.例文帳に追加
この処理装置は、処理室１、搬送室２、およびロードロック室３，４を備えている。 - 特許庁
In this way, the substrate 1 is individually transported into the reflow treatment chamber 4 through the load-lock chamber 8.例文帳に追加
このように、１枚ずつ基板１をロードロック室８を通してリフロー処理室４へ搬送する。 - 特許庁
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