「MIRROR-FINISHING」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A rotating body 4 is manufactured by placing a polygon blank inserted so as to have a clearance relative to the outer diameter of a sleeve 5, between an upper flange member 6 and a lower flange member 8 which are fixed in the sleeve 5 by press fitting or shrink fitting, fixing it by bringing it contact with the lower flange member 8 with an elastic member 9, and mirror finishing it.例文帳に追加

スリーブ５の外径とクリアランスを有するように挿入されたポリゴンブランクを、スリーブ５に圧入又は焼嵌めにて固定した上部フランジ部材６と下部フランジ部材８間に位置させ、弾性部材９により下部フランジ部材８に当て付けて固定し、鏡面加工することにより回転体４を製造する。 - 特許庁

Further, the lamination of the polyester layer becoming the outermost layer is performed by extrusion or coextrusion lamination and the recording surface can be enhanced in glossiness by pressing/press-bonding a molten polyester by a cooling roll of which the surface is subjected to mirror surface finishing treatment and a nip roll with a hardness of 80° or above.例文帳に追加

また、最外層となるポリエステルからなる層の積層を、押出しラミネーション又は共押出しラミネーションにより行い、表面を鏡面仕上げとしたクーリングロールと硬度８０度以上のニップロールとで、溶融ポリエステルを押圧・圧着することで、この記録面を高光沢とすることができる。 - 特許庁

In the film forming method of large-size pellicle, a film is formed by a slit coater on a glass substrate having at least one side ≥500 mm, subjected to mirror surface finishing, wherein coating is performed by setting the slit width of a die to ≥20μm and ≤140μm.例文帳に追加

記課題を解決するために、本発明に係る大型ペリクルの成膜方法は、少なくとも１辺が５００ｍｍ以上の鏡面研磨されたガラス基板上にスリットコーターを用いて成膜する成膜方法において、ダイのスリット幅を２０μｍ以上１４０μｍ以下として塗布を行うことを特徴とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the synthetic quartz glass substrate for the polysilicon TFT formed by multistage polishing consisting of a lapping process and a polishing process, the end surface of the substrate is subjected to mirror surface finishing just prior to the final polishing process of the polishing process and after subjecting the substrate to etching.例文帳に追加

ラッピング工程とポリッシュ工程からなる多段研磨により形成されるポリシリコンＴＦＴ用合成石英ガラス基板の製造方法において、前記ポリッシュ工程は複数の研磨工程からなり、該ポリッシュ工程の最終の研磨工程の直前、かつ、前記基板にエッチングを施した後に前記基板の端面に鏡面加工を施す。 - 特許庁

In this machining method for cutting the surface of a workpiece by a non-rotary cutting tool, trial work in which cutting depth from the surface of the workpiece is changed is preliminarily conducted in plural machining conditions to find a cutting depth range where a processed surface changes from a foggy surface to a mirror finished surface, and finishing work is conducted under this machining condition.例文帳に追加

非回転切削工具にてワーク表面を切削加工する切削加工方法において、予め、ワーク表面からの切り込み深さを変化させていく複数の加工条件で試し加工して、加工表面が曇り面から鏡面に変化する切り込み深さ領域を探し出し、この加工条件で、仕上げ加工を行う。 - 特許庁

To provide a polishing method of a spherical surface and an aspherical surface capable of polishing/finishing a surface having large roughness as a mirror surface having small surface roughness without collapsing a surface shape such as a spherical or aspherical lens highly accurately molded in a shape or a molding surface of a lens molding metal mold for molding these lens by NC grinding work or NC cutting work.例文帳に追加

ＮＣ研削加工もしくはＮＣ切削加工によって高精度に形状が成形された球面もしくは非球面レンズまたはこれらのレンズを成形するレンズ成形用金型の成形面等の面形状を崩すことなく粗度の大きな表面を面粗度の小さな鏡面に研磨仕上げすることのできる球面、非球面の研磨方法を提供する。 - 特許庁

In the system for mirror finishing a wafer, first slide means (152, 154) can be positioned at two positions separated by a distance equal to the interval of two abrasive discs 8a and 8b and the notch of a wafer W supported on a wafer chuck table 12 is disposed relatively at a position facing one of two abrasive discs 8a and 8b at each of two positions.例文帳に追加

このウェハ鏡面加工装置においては、第１スライド手段（１５２、１５４）は、上記２つの研磨ディスク８ａ、８ｂの間隔と等しい距離だけ離れた２つの位置に位置決め可能であり、ウェハチャックテーブル１２は、これに支持されたウェハＷのノッチが上記２つの位置のそれぞれにおいて、２つの研磨ディスク８ａ、８ｂの内の一方と向かい合う位置に相対的に配置されている。 - 特許庁

Next, the mold part 13 is formed by blast-finishing the first surface, and the mold part 12 is formed by mirror-processing the second surface 12a.例文帳に追加

光学パネル用金型１１に、拡散面３を形成するための拡散面形成用金型部１３と、鏡面２を形成するための鏡面形成用金型部１２とを形成するにあたって、先ず拡散面形成用金型部１３を形成するための第１の面１３ａに、形成しようとする拡散面形成用金型部１３の概略形状を形成し、鏡面形成用金型部１２を形成するための第２の面１２ａに、形成しようとする鏡面形成用金型部１２の概略形状を形成し、その後、第１の面１３ａにブラスト加工を施して拡散面形成用金型部１３を形成し、その後、第２の面１２ａを鏡面加工して鏡面形成用金型部１２を形成する。 - 特許庁

The mirror finishing device is equipped with a rotating shaft 18, an approximately round milling cutter 13 attached to the tip of the rotating shaft 18, a recessed part 19 enclosing the side surface 13a of the milling cutter 13, and a hood 16 opening in the front side of the milling cutter.例文帳に追加

回転軸１８と、この回転軸１８の先端に取り付けられた略円形のフライスカッタ１３と、このフライスカッタ１３の側面１３ａを取り囲む凹部１９を有し、フライスカッタ１３の前面側が開口したフード１６とを備え、凹部１９の略円形断面の中心に原点Ｏを有し、フライスカッタ１３が被加工物に対して相対移動する方向ＡをＸ軸の正の方向とするＸＹ直交座標系に関して、回転軸１８の軸心Ｓが第４象限に位置し、かつ、原点Ｏと回転軸１８の軸心Ｓを結ぶ直線Ｌと、原点Ｏから正の方向に向かうＸ軸とのなす角θが０〜９０°であり、吸引ダクト１７ｂが第３象限に位置する切削部材２０１である。 - 特許庁