Microscopesを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 109件
When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.例文帳に追加
レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。 - 特許庁
In the inspection specimen, syncytium for microscopes, made of slide glass for a target and a biological syncytium set on it, is immobilized by a compound for inducing fluorescent excitation under the conditions of being selected arbitrarily from 100 nm or larger in the width, in a specific wavelength region.例文帳に追加
対象物用スライドガラスおよびその上にセットされた生物合胞体から成る顕微鏡用の合胞体が、特定波長領域内１００ｎｍ以上の幅から任意選択された条件で蛍光励起を起こすことのできる化合物により固定されている検査標本 - 特許庁
To provide an image luminance adjustment method in a transmission electron microscope that enables the acquisition of image data at the optimum luminance with the same optical conditions as those of transmission electron microscopes, regarding an image luminance adjustment method and system in a transmission electron microscope.例文帳に追加
本発明は透過電子顕微鏡における画像の輝度調整方法及びシステムに関し、透過電子顕微鏡の光学条件は同一のまま、最適な輝度で画像データを取得することができる透過電子顕微鏡における画像の輝度調整方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
The magnetic probe for magnetic force microscopes comprises a probe base material made of a nonmagnetic material; a ceramic backing film formed in the surface of a probe tip part of the base material; and the ordered iron (Fe)-platinum (Pt) alloy film formed on the ceramic backing film.例文帳に追加
非磁性材料からなる探針母材と、前記母材の探針先端部表面に形成されたセラミックス下地膜と、前記セラミックス下地膜の上に形成された鉄(Ｆｅ)−白金(Ｐｔ)規則合金膜とを有することを特徴とする磁気力顕微鏡用の磁性探針を提供する。 - 特許庁
In the case of the alignment, when the work mark does not exist inside either of the visual fields of the two alignment microscopes, an alignment mark detecting means 21 provided on a control part 20 spirally moves the work W, and detects the work mark.例文帳に追加
上記アライメントに際し、２個のアライメント顕微鏡のうちのいずれの顕微鏡の視野内にもワークマークＷＡＭが入らないとき、制御部２０に設けられたアライメントマーク検出手段２１により、ワークＷを渦巻き状に移動させワークマークＷＡＭを検出する。 - 特許庁
To provide an optical material having a high refractive index by which optical instruments such as microscopes, cameras and telescopes and display material such as Fresnel lens, lenticular lens, prism sheets, optical waveguides and diffusion sheets and lens systems can be small-sized and lightened, and chromatic aberration due to spherical lens can be minimized.例文帳に追加
高屈折率を有する光学材料により顕微鏡、写真機、および望遠鏡等の光学機器や、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムシート、導光板および拡散シート等の表示用材料、並びに眼鏡レンズにおいて重要な位置を占めるレンズ系をコンパクトにすることができ、軽量化を図ることができる。 - 特許庁
To provide a bonding technique between a probe and a piezoelectric substance for detection capable of acquiring stable oscillating characteristics and detecting characteristics independently of variations of the environment, such as temperature and the like, amount of adhesive bond and adhesion techniques and recycling the piezo-electric element for detection, for the scanning probe microscopes, using a piezo-electric substance as a distance control means of the probe.例文帳に追加
プローブの距離制御手段として圧電体を利用する走査型プローブ顕微鏡において、温度などの環境変化や接着剤の量や接着方法によらず、安定した振動特性や検出特性が得られ、さらに検出用圧電素子の再利用が可能なようなプローブと検出用圧電体の接合方法を提供する。 - 特許庁
A column electron microscope combined device has a structure of arranging: an electron microscope capable of beam tilting for obtaining images by irradiating charged particle beams on an observation defect and detecting electrons emitted from a surface of the observation defect; and compact column electron microscopes enabling imaging from an arbitrary angle on a column of the electron microscope.例文帳に追加
本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子ビームを観察欠陥に照射し、観察欠陥の表面から放出される電子を検出して画像を取得するビームチルトが可能な電子顕微鏡と、当該電子顕微鏡カラムに任意の角度から撮像可能とする小型カラム電子顕微鏡を複数配置した構造とする。 - 特許庁
The overlap evaluation method of the patterns uses an overlap evaluation pattern, acquires an image of the overlap evaluation pattern using electron microscopes 10, 109 (S1), compares the acquired image with layout information in which the overlap evaluation pattern registered in a storage part 111 is to be arranged to calculate the amount and the direction of displacement of each exposure step (S2) and displays an evaluation result (S3).例文帳に追加
重ね合わせ評価パターンを用いるパターンの重ね合わせ評価方法であって、重ね合わせ評価パターンの画像を、電子顕微鏡１０、１０９を用いて取得し（Ｓ１）、取得した画像と、記憶部１１１に登録されていた、重ね合わせ評価パターンが配置されるべきレイアウト情報とを比較して、各露光ステップのずれ量と方向とを算出（Ｓ２）し、評価結果を表示（Ｓ３）する。 - 特許庁
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