P-Typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9428件
The p-type gallium nitride-based semiconductor layer 37 includes, for example, a p-type AlGAn electron block layer and a p-type GaN contact layer.例文帳に追加
p型窒化ガリウム系半導体層37は、例えばp型AlGAn電子ブロック層及びp型GaNコンタクト層を含む。 - 特許庁
The fourth p-type layer is provided between the second p-type layer and the third p-type layer, and the concentration of the p-type impurity gradually decreases from the second concentration to the third concentration along the direction toward the p-type semiconductor layer from the n-type semiconductor layer.例文帳に追加
第4p形層は第2p形層と第3p形層との間に設けられ、p形不純物の濃度はn形半導体層からp形半導体層への方向に沿って第2濃度から第3濃度に漸減する。 - 特許庁
All of a p-type cap layer 6, a p-type clad layer 7, a p^--type contact layer 8, and a p^+-type contact layer 9 which consist of a crystalline nitride semiconductor, already contain a p-type dopant, and are formed in this order.例文帳に追加
予めp型不純物を含有する状態で、結晶性の窒化物半導体からなるp型キャップ層6,p型クラッド層7,p^-型コンタクト層8、およびp^+型コンタクト層9を、この順に成膜する。 - 特許庁
In an upper layer of the P-type region 7a, a P-type doped polysilicon film 12 having an impurity concentration higher than that of the P-type region 7a and equivalent to that of the P-type region 4 is formed in contact with the P-type region 7a.例文帳に追加
P型領域7aの上層には、不純物濃度はP型領域7aより高く、P型領域4と同程度のP型ドープトポリシリコン膜12がP型領域7aに接触して形成されている。 - 特許庁
A p-type contact layer 16 is formed of a three-layered structure stacked from the side of a p-type clad layer 15 in the order of a first p-type contact layer 16a, a second p-type contact layer 16b, and a third p-type contact layer 16c.例文帳に追加
p型コンタクト層16は、p型クラッド層15側から第1p型コンタクト層16a、第2p型コンタクト層16b、第3p型コンタクト層16cの順に積層された3層構造である。 - 特許庁
An n^+-type source region 18 and a p^+-type region 19 are formed on the p-type base layer 11.例文帳に追加
p型ベース層11上にはn^+型ソース領域18とp^+型領域19とが形成されている。 - 特許庁
The p-type organic layer forms an NP junction between the n-type organic layer and the p-type organic layer.例文帳に追加
p型有機物層は、n型有機物層とp型有機物層との間でNP接合を形成する。 - 特許庁
The p-type layers 2 and 12 are formed on the primary surface 11A of the n-type substrate 11, and the conductive type of the layers is p type.例文帳に追加
p型層2、12は、n型基板11の主表面11A上に形成され、導電型がp型である。 - 特許庁
Then an n-type electrode 15 is formed on the n-type semiconductor layer 11 exposed by removing the layers and a p-type electrode 16 is formed on the p-type semiconductor layer.例文帳に追加
そして、前記p型半導体層およびi型半導体層を除去して露出したn型半導体層の上にn型電極15が設けられ、前記p型半導体層上にp型電極16が設けられている。 - 特許庁
METHOD FOR GROWING P-TYPE NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型窒化物半導体の成長方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF P-TYPE GaN-BASED BASE MATERIAL例文帳に追加
p型GaN系基材の製造方法 - 特許庁
The p-type body region 50a and a p-type base region 220 are connected electrically.例文帳に追加
p型ボディ領域50aと、p型ベース領域220とは、電気的に接続されている。 - 特許庁
The p-type drain region 230 and a p-type base region 220 are connected electrically.例文帳に追加
p型ドレイン領域230と、p型ベース領域220とは、電気的に接続されている。 - 特許庁
The p-type deep well region 5a is adjacent to at least the p-type well region 2.例文帳に追加
p型深ウェル領域5aは、少なくともp型ウェル領域2と接している。 - 特許庁
A p-type electrode 46 is electrically connected to the p-type GaN contact layer 36.例文帳に追加
p型電極46がp型GaNコンタクト層36に電気的に接続されている。 - 特許庁
The p layer 3 consists of p-type a-Si:H, the n layer 5 consists of n-type a-Si:H.例文帳に追加
p層3は、p型a−Si:Hからなり、n層5は、n型a−Si:Hからなる。 - 特許庁
A p-type contact electrode 5 is formed on the surface of the p-type silicon carbide region 4.例文帳に追加
p型炭化ケイ素領域4の表面にp型コンタクト電極5が形成されている。 - 特許庁
The (p) layer 3 consists of p-type a-Si:H, the (n) layer 5 consists of n-type a-Si:H.例文帳に追加
p層3は、p型a−Si:Hからなり、n層5は、n型a−Si:Hからなる。 - 特許庁
The p-type body region 50a is electrically connected to a p-type base region 220.例文帳に追加
p型ボディ領域50aと、p型ベース領域220とは、電気的に接続されている。 - 特許庁
The p-type silicon nitride film 3 includes a plurality of quantum dots 31 made of p-type Si.例文帳に追加
p型シリコン窒化膜3は、p型Siからなる複数の量子ドット31を含む。 - 特許庁
P-TYPE SEMICONDUCTOR DISPERSING ELEMENT, P-TYPE SEMICONDUCTOR LAYER, PN JUNCTION, AND ENERGY CONVERTER例文帳に追加
P型半導体分散体、P型半導体層、PN接合体及びエネルギー変換体 - 特許庁
The gate electrodes 15 and 25 are constituted of p-type SiGe or p-type Ge.例文帳に追加
ゲート電極15,25はp型SiGeまたはp型Geにより構成されている。 - 特許庁
The p-type semiconductor layer 7 is formed into a p-type semiconductor having a first concentration.例文帳に追加
p型半導体層7は、第1の濃度を有するp型半導体に形成されている。 - 特許庁
An insulating layer 222 is provided between the p-type electrode 230 and the p-type semiconductor layer.例文帳に追加
p型電極230とp型半導体層の間に絶縁層222が設けられている。 - 特許庁
tariquidar is a type of multidrug resistance inhibitor and a type of p-glycoprotein antagonist. 例文帳に追加
タリキダルは多剤耐性阻害薬の一種であり、p糖蛋白拮抗薬の一種でもある。 - PDQ®がん用語辞書 英語版
Si of 1×1016 cm^-3 to 1×1018 cm^-3 is contained in a p-type layer.例文帳に追加
p型層にはSiが1×1016cm-3以上1×1018cm-3未満含有されている。 - 特許庁
The p-side electrode 15 is connected to the p-type surface 20ap.例文帳に追加
p側電極15は、p型表面20apに接続されている。 - 特許庁
The p-type AlGaAs layer 18 is isolated by etching, and this etching is stopped in the undoped AlGaAs resistive layer 17 between the p-type AlGaAs layers 18.例文帳に追加
p型AlGaAs層18の分離はエッチングにて行われており、このエッチングがp型AlGaAs層18間のアンドープAlGaAs抵抗層17で止まっている。 - 特許庁
A P-type source region 6 and a P-type drain region 7 are arranged in opposition in a second direction at right angles to the first direction.例文帳に追加
P形ソ−ス領域6とP形ドレイン領域7とは第1の方向に直角な第2の方向において対向配置されている。 - 特許庁
To provide a method for epitaxially growing a p-type compound semiconductor thin film.例文帳に追加
pタイプ化合物半導体薄膜の結晶成長させる方法。 - 特許庁
The rectifying element is the p-i-n diode comprising a p-type semiconductor layer, an n-type semiconductor layer, and an intrinsic semiconductor layer between them.例文帳に追加
整流素子は、p型半導体層、n型半導体層及びこれらの間の真性半導体層から構成されるp-i-nダイオードである。 - 特許庁
To provide a p-type wide gap semiconductor having a new structure.例文帳に追加
新規な構成を有するp型ワイドギャップ半導体を提供する。 - 特許庁
A reflection layer 25, a p-type first layer 24, an n-type second layer 23, a p-type third layer 22 and an n-type fourth layer 21 are successively formed on a p-type substrate 51.例文帳に追加
p型基板51上に、反射層25、p型の第1層24、n型の第2層23、p型の第3層22、n型の第4層21が順次形成されている。 - 特許庁
To reduce area by providing deep n-type wells at the middle of a p-type semiconductor substrate, p-type wells contacting the above n-type wells and n-type wells contacted of the above p-type wells.例文帳に追加
半導体基板の中部に深いウエルを有する場合、面積低減ができ、しかも高性能な半導体素子を有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The second protective element 28 is a p-n diode constituted on an n-type well and a p+-type diffused region 32 provided in the p-type well and lets positive charges escape to a p-side substrate via a leakage current from the p-n junction between the n-type well and p-type substrate.例文帳に追加
第2の保護素子は、nウエルと、nウエル内に設けられたp^+ 拡散領域32とから構成されたpnダイオードであって、nウエルとp型基板との間のpn接合間リーク電流を介して正の電荷をp側基板に逃がす。 - 特許庁
A P-type well layer 2 is formed on a P-type silicon substrate 1, and a gate finger-type N-channel transistor 3 is formed on the P-type well layer 2.例文帳に追加
P型シリコン基板1上にP型ウェル層2が形成され、P型ウェル層2上にゲートフィンガー型のNチャネルトランジスタ3が形成されている。 - 特許庁
A p^+-type diffusion layer 6 is formed on a crust part of a p^--type substrate 5, and an n^--type epitaxial layer 7 is formed on the p^+-type diffusion layer 6.例文帳に追加
P^-型の基板5の表層部にP^+型拡散層6が形成され、このP^+型拡散層6上にN^-型エピタキシャル層7が形成されている。 - 特許庁
A p-type anode area 7 and an n-type short area 9 adjacent to the p-type anode area 7 are formed on the surface layer of the p-type diffusion area 5.例文帳に追加
p形拡散領域5の表面層にp形アノード領域7とこのp形アノード領域7と隣接してn形ショート領域9を形成する。 - 特許庁
The p type frame part 30 is formed by p type silicon, the n type inversion part 35 is inverted to an n type in conductivity by impurity and the p+ type electric circuit 36, is further made a p+ type by impurity.例文帳に追加
p型の枠部30はp型シリコンで形成されており、n型の反転部35は不純物によりn型に導電性が反転されており、p^+型の電路36はさらに不純物によりp^+型になっている。 - 特許庁
A ridge Ri is formed which comprises the p-type clad layer 104, the p-type contact layer 105, and the p-type ohmic electrode 106.例文帳に追加
p型クラッド層104、p型コンタクト層105およびp型オーミック電極106からなるリッジ部Riが形成されている。 - 特許庁
The p-type window layer 8 is made of a conductive p-type GaP transmitting an infrared ray and doped with zinc as a p-type dopant.例文帳に追加
p型ウインドウ層8は、赤外線を透過でき、p型のドーパントとして亜鉛がドープされた導電性のp型GaPからなる。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING p-TYPE THERMOELECTRIC CONVERSION MATERIAL例文帳に追加
p型熱電変換材料の製造方法 - 特許庁
The p+ type impurity region 33 has a higher impurity concentration than the p-type well 29 and the p+ type impurity region 33 is formed shallower than the p-type well 29.例文帳に追加
p^+型不純物領域33の不純物濃度はp型ウェル29の不純物濃度よりも高く、また、p^+型不純物領域33はp型ウェル29よりも浅く形成されている。 - 特許庁
The p type frame part 30 and the p type electrode 32 are insulated across a groove part 600 and the p type electrode 32 is electrically connected with the p+ type electric circuit 36.例文帳に追加
p型の枠部30とp型の電極32とは溝部600を隔てて絶縁されており、p型の電極32はp^+型の電路36とのみ電気的に接続されている。 - 特許庁
The multilayer film 25 consisting of the two p-type AlInAs layers and the one p-type AlAs layer is formed into the constitution of a multilayer film formed by making the p-type AlAs layer 25b interpose between the p-type AlInAs layers 25a.例文帳に追加
p−AlInAs層/p−AlAs層の多層膜25は、p−AlInAs層25aの間にp−AlAs層25bを介在させた多層膜の構成になっている。 - 特許庁
The semiconductor layer is composed of an n-type GaN layer (n-type semiconductor layer) 22 and a p-type GaN layer (p-type semiconductor layer) 23.例文帳に追加
この半導体層は、n型GaN層(n型半導体層)22と、p型GaN層(p型半導体層)23とからなる。 - 特許庁
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