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Pattern Exposure Systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 360件
A scanning exposure type projection optical system, which forms a pattern image of a mask M on a plate by moving the mask M and a plate P relatively to the projection optical system, has at least one deflection member, and the continuation direction of the periodic waving of the reflecting surface of the deflection member is made to cross the direction orthogonal to the scanning direction of the mask and plate.例文帳に追加
マスクＭおよびプレートＰを投影光学系に対して相対的に移動させることによりマスクのパターン像をプレート上に形成する走査露光型の投影光学系において、投影光学系は、少なくとも１つの偏向部材を有し、偏向部材の反射面に存在する周期性を持つうねりの連続方向をマスクおよびプレートの走査方向と直交する方向と交差する方向とした。 - 特許庁
In an immersion exposure apparatus which exposes the substrate 5 by projecting a pattern of an precursor 2 on the substrate 5 through a projection optical system 4 and a liquid 17, a stage 6 which holds the substrate 5 includes: a first liquid holding part 8 disposed surrounding the substrate 5; and a second liquid holding part 23 disposed between the substrate and first liquid holding part.例文帳に追加
原版２のパターンを投影光学系４および液体１７を介して基板５に投影し該基板を露光する液浸露光装置は、基板５を保持するステージ６が、該基板５を取り囲むように配置される第１液体保持部８と、該基板と前記第１液体保持部との間に配置される第２液体保持部２３とを含む。 - 特許庁
In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加
空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁
To provide a method for acquiring photomask information, for acquiring photomask information that facilitates evaluation of a photomask reflecting on factors by an optical system of an exposure machine and various factors such as spectral characteristics of a light source and developing characteristics of a resist and that facilitates determination of a pattern feature and appropriate determination of a raw material or thickness of a film to be formed in a semitransmitting portion.例文帳に追加
露光機の光学系による要因、光源の分光特性、レジストの現像特性などの諸要因を反映したフォトマスクの評価を可能として、パターン形状の決定、及び、半透過部に形成する膜の素材、または、膜厚の決定が的確に行えるようになされたフォトマスク情報を取得するフォトマスク情報の取得方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加
所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁
The aligner comprises a projection optical system having a plurality of reflectors (M1-M6) performing exposure and transfer of a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate using extreme ultravoilet light wherein at least one of the plurality of reflectors is held in a state insulated from the outside.例文帳に追加
極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡（Ｍ１−Ｍ６）を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つの反射鏡を外部と絶縁した状態で保持することを特徴とする露光装置である。 - 特許庁
The exposure apparatus projects and exposes a pattern formed on a reticle using EUV light on an object to be processed through a projection optical system, illuminates the mark with second light whose wavelength differs from that of the EUV light, and comprises a detection means to detect the information about the position of the mark by receiving the second light from the mark through the projection optical system.例文帳に追加
ＥＵＶ光を用いてレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体上に投影露光する露光装置であって、 前記露光装置は、前記ＥＵＶ光とは異なる波長の第２の光でマークを照明し、該マークからの前記第２の光を前記投影光学系を介して受光することにより該マークの位置に関する情報を検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a circuit pattern lithography system which can reduce the computing time by alleviating the load on the electronic computer which computes for correcting the proximity effect and loading effect and can appropriately correct those effects by adjusting exposure when manufacturing photomask blanks on which circuit patterns are drawn.例文帳に追加
回路パターンの描画されたフォトマスクブランクスの製造過程における近接効果やローディング効果の補正を施す際に、電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減することで当該計算処理にかかる時間を短縮することができ、また露光量の調節によって近接効果とローディング効果の補正を適切に行うことが出来る回路パターンのパターン描画装置を提供する。 - 特許庁
In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加
空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁
The device 1 for dividing trapezoid of a variable forming electron beam exposure system is provided with a discriminating means 11 which discriminates the presence of a pair of dividing lines which are faced to each other at an interval smaller than a prescribed size in a combination of dividing lines forming the optimum dividing pattern.例文帳に追加
可変成形型電子ビーム露光装置における台形分割装置１は、最適な分割パターンを形成する分割線の組合せにおいて、所定の大きさよりも小さい間隔で互いに対向するような分割線対が存在するか否かを判定する判定手段１１と、判定手段１１で分割線対が存在すると判定されたとき、分割線対に直交するストッパー線を新たに設定し、このストッパー線を用いて台形分割すべき図形を分割する第１の分割手段１２と、を備える。 - 特許庁
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