「Pattern Exposure System」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereby, the photosensitive resin can be formed uniformly in a shape regardless of the surface state of the exposure system and the unnecessary pattern transfer depending on the stage of the exposure system can be prevented.例文帳に追加

これにより、露光機の表面状態に関係なく感光性樹脂を均一なある形状に形成することができ、露光機のステージに依存する不必要なパターン転写を防止することが可能となる。 - 特許庁

To provide an exposure system in which the connection of a complementary pattern does not increase and which does not increase the chromatic aberration of an electronic optical system and to provide a scattering mask, an exposure method, and a semiconductor manufacturing device.例文帳に追加

コンプリメンタリパターンの繋ぎが増えることがなく、電子光学系の色収差を増加させることがない露光装置、散乱マスク、露光方法及び半導体製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a reflection type projection optical system which can project an image of a desired pattern at a desired magnification with the high accuracy, and an exposure system using the same.例文帳に追加

所望のパターンの像を所望の倍率で高精度に投影することが可能な反射型投影光学系、及びそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁

An exposure apparatus exposes a substrate by projecting a pattern of the original onto the substrate by a projection optical system after illuminating the original by an illumination optical system.例文帳に追加

露光装置は、照明光学系によって原版を照明し該原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する。 - 特許庁

The thickness of the resist film is transmitted to the host computer 3 and, further, transferred to the pattern exposure system (steps S105-S201).例文帳に追加

このレジスト膜の膜厚は、ホストコンピュータ３に送信され、さらに、パターン露光装置に転送される（ステップＳ１０５〜Ｓ２０１）。 - 特許庁

A pattern of irregularly spaced grooves is formed on the grating face of the diffraction grating 1 by a laser interference system for holographic exposure.例文帳に追加

回折格子１の格子面にはホログラフィック露光用のレーザー干渉系を用いて不等間隔の溝パターンが形成される。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate by projecting an image of a pattern on the substrate through a projection optical system and liquid.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、基板を露光する。 - 特許庁

Then, a flare value of a projection optical system included in an exposure device is calculated using pattern mean density of the mask patterns after correcting.例文帳に追加

そして、露光装置が備える投影光学系のフレア値を、前記補正後マスクパターンのパターン平均密度を用いて算出する。 - 特許庁

MOVING BODY DRIVING METHOD AND MOVING BODY DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE AND DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

Here, when performing exposure with the photomask 2 for forming a finer pattern, double pole illumination is used as an illumination system.例文帳に追加

ここで、より微細なパターンを形成するためのフォトマスク２で露光する際に、２重極照明を照明系として用いる。 - 特許庁

To provide an exposure device that detects an amount of a relative position shift between a position where a projection optical system projects an exposure pattern and a detection position of a position detection optical system without moving the position detection optical system on a reverse surface side, and performs exposure with high precision using the amount of the position shift.例文帳に追加

裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影する位置と、位置検出光学系の検出位置との相対的な位置ズレ量を検出し、この位置ズレ量を用いて露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

In a step 31, a function of blurring due to a photomask and an exposure optical system is obtained, and in a step 32, an original pattern is subjected to reverse convolution with the function of blurring to obtain a mask pattern.例文帳に追加

ステップ３１でフォトマスクや露光光学系に起因するぼけ関数を求め、ステップ３２で、オリジナルパターンをぼけ関数で逆コンボリューションし、マスクパターンを求める。 - 特許庁

In the case of forming an upper pattern only on the lower pattern 2, using a scanning exposure system on the surface of a wafer where a difference in level exists by the lower pattern 2, dummy patterns 1 having the same height as the lower pattern 2 are arranged in the right and left positions of the lower pattern 2.例文帳に追加

下層パターン２により段差が存在するウェハ表面に，スキャン型の露光装置を用いて下層パターン２上にのみ上層のパターンを形成する場合，下層パターン２と同等の高さを有するダミーパターン１を下層パターン２の左右位置に配置する。 - 特許庁

The pattern manufacturing system comprises measuring the copper thickness of a copper foil formed on the substrate by a copper thickness measuring part 9 on each substrate when forming a circuit pattern on the substrate, finding the exposure correction amount corresponding to the measured copper thickness from the correction table, and correcting an exposure amount by the found exposure correction amount.例文帳に追加

基板に回路パターンを形成する際には、基板毎に銅厚測定部９により基板上に形成された銅箔の銅厚を測定し、測定した銅厚に応じた露光補正量を補正テーブルから求め、求めた露光補正量で露光量を補正する。 - 特許庁

The exposure device equipped with a lighting optical system having a first lighting light source 1 for drawing based upon exposure pattern data and a lighting optical system having a second lighting light source 2 for irradiating a desired area including a pattern-drawn area with an energy beam is used to achieve high-precision pattern formation based on the exposure pattern data with high throughput at low cost.例文帳に追加

露光パターンデータに基づいて描画するための第１の照明光源１を有する照明光学系と、前記パターン描画された領域を含有する所望の面積に対してエネルギー線を照射するための第２の照明光源２を有する照明光学系とを備えた露光装置を用いることにより、露光パターンデータに基づく高精度のパターン形成を高スループットかつ低コストに達成する。 - 特許庁

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

In a pattern imaging system, exposure areas EA1, EA2 and EA3 are relatively moved on an exposure surface SU by moving an X-Y stage 18 in the X-direction.例文帳に追加

パターン描画装置において、Ｘ−Ｙステージ１８をＸ方向に沿って移動させることにより、露光エリアＥＡ１、ＥＡ２、ＥＡ３を露光面ＳＵ上において相対移動させる。 - 特許庁

To develop an exposure apparatus for effectively partly purging an exposure optical path in the apparatus with an inert gas for emitting a pattern of a mask to a photosensitive substrate via a projection optical system.例文帳に追加

マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の露光光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。 - 特許庁

To provide an exposure system, an exposure apparatus, a substrate processing apparatus, a pattern forming method, and a semiconductor device manufacturing method for enhancing the uniformity of line width of a resist film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されるレジスト膜の線幅均一性を向上させる露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure pattern data inspection apparatus, method and program which when a printed circuit board is produced by a direct drawing system, enable exposure pattern data for use in the direct drawing process to be accurately inspected in a shorter period of time than before.例文帳に追加

プリント基板を直描方式により製造する場合において、直描工程で使用する露光パターンデータを従来よりも短時間で正確に検査することのできる露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムを提供すること。 - 特許庁

At the time of an exposure of the pattern of a reticle R, the reticle R is illuminated with exposure light IL1 consisting of pulsed light of a wavelength of 193 nm from an ArF excimer laser beam source 1 and the pattern of the reticle R is transferred on a wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光時にはＡｒＦエキシマレーザ光源１からの波長１９３ｎｍのパルス光よりなる露光光ＩＬ１でレチクルＲを照明し、レチクルＲのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁

An angular distribution of exposure light exposing a substrate is measured using an exposure apparatus having an illumination optical system that illuminates a mask using light from a light source and a projection optical system that projects a mask pattern on the substrate.例文帳に追加

光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置を用いて、基板を露光する露光光の角度分布を計測する。 - 特許庁

Fine exposure by small σ oblique illumination and rough exposure by large σ vertical illumination are conducted on a wafer by changing the spatial frequency transmission spectrum band of a projection optical system, without developing the wafer in the medium with the gate pattern of a mask set at a projection aligner, so that multiple exposure can be attained.例文帳に追加

投影露光装置に設置したマスクのゲートパターンで、ウエハに対して、途中で現像することなく、小σの斜め照明によるファイン露光と大σの垂直照明によるラフ露光の多重露光を行なう。 - 特許庁

MOBILE ENTITY DRIVE METHOD AND MOBILE ENTITY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

An exposure apparatus projects a pattern of an original 1 onto a substrate 9 through a projection optical system 4 and a liquid f to expose the substrate 9.例文帳に追加

露光装置は、原版１のパターンを投影光学系４および液体ｆを介して基板９に投影して該基板９を露光する。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of exposing a mask pattern over the entire surface of a substrate to be exposed with a relatively small occupancy space.例文帳に追加

比較的小さい占有スペースで被露光基板の表面全体にマスクパターンを露光することのできる露光装置を提供する。 - 特許庁

In a pattern definition device (102) to be used for an exposure system, a beam of charged particles is patterned via a plurality of devices.例文帳に追加

露光装置に使用するためのパターン規定デバイス（１０２）において、帯電粒子のビームが複数の装置を介してパターン化される。 - 特許庁

A pattern drawn on the photomask is transferred to the exposure surface of the belt-shaped substrate with light 51 of a light source 47 of an optical system device 45.例文帳に追加

フォトマスクに描かれたパターンは、光学系装置４５の光源４７の光５１によって帯状基板の露光面に転写される。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF DRIVING MOVABLE BODY, METHOD AND DEVICE OF FORMING PATTERN, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an exposure system capable of preventing a pattern image which is projected on a substrate from being deteriorated by liquid pressure variations or the like.例文帳に追加

液体の圧力変動に起因する基板上に投影されるパターン像の劣化等を防止できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure system comprises 6 mirrors and has the projection optical system for projecting and exposing images of a reticle pattern on a wafer, and also has a detection system for detecting a positional offset amount of the images during the projection and exposure.例文帳に追加

６枚のミラーから成り、レチクルのパターンの像をウエハ上に投影露光する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影露光中に、前記像の位置ずれ量を検出する検出系を有することを特徴とする露光装置。 - 特許庁

To provide an apparatus for generating lithographic pattern data which can convert pattern data to lithographic pattern data for an objective electron-beam exposure system and the processing of which is practical and has no problem in accuracy.例文帳に追加

図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置を提供する。 - 特許庁

A program generates data on the original pattern used in an exposure apparatus forming a latent image of a target pattern on a substrate by projecting the original pattern on the substrate through a projection optical system in an original data generation program.例文帳に追加

原版データ生成プログラムは、投影光学系を介して原版パターンを基板に投影することによって該基板に目標パターンの潜像を形成する露光装置で使用される前記原版パターンのデータを生成する。 - 特許庁

To increase contrast, and resolution, and enlarge the margin of the quantity of exposure, by adjusting the quantity of auxiliary exposure, according to the density of patterns, in a scattering angle limitating system of an electron beam exposure method which performs the proximity effect correction by a ghost method at the same time with pattern exposure.例文帳に追加

ゴースト法による近接効果補正をパターン露光と同時に行う散乱角制限方式電子線露光方法において、パターン密度に応じて補助露光量を調整することにより、コントラストを増大させ、解像度を向上し、露光量マージンを大きくすることにある。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF DRIVING MOVABLE BODY, METHOD AND DEVICE OF FORMING PATTERN, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, MEASURING METHOD, AND POSITION MEASURING SYSTEM例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、計測方法、並びに位置計測システム - 特許庁

This exposure apparatus EX exposes a substrate 14 by projecting, by a projection optical system 13, a pattern of an original plate 11 illuminated by an illumination system IL on the substrate 14.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、照明系ＩＬによって照明される原版１１のパターンを投影光学系１３によって基板１４に投影して基板１４を露光する。 - 特許庁

A lighting optical system 24 and a DMD (digital micro-mirror device) 22 are arranged in the exposure unit 20 of a pattern forming apparatus and a frosted diffusion plate 24A is disposed in the optical system 24.例文帳に追加

パターン描画装置の露光ユニット２０内に、照明光学系２４、ＤＭＤ２２を設け、照明光学系２４内にフロスト型拡散板２４Ａを設ける。 - 特許庁

To provide an exposure method and a system in which a desired pattern can be formed with an excellent resolution by suppressing deterioration of image quality due to residual aberration of a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系の残存収差による像質劣化を抑え、所望のパターンを形成することができる解像度に優れた露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method that can be used to substantially reduce or eliminate the slipping of a pattern generator to a stage system that controls the position of the pattern generator during a scanning exposure process.例文帳に追加

スキャニング露光プロセスの間にパターンジェネレータの位置を制御する、ステージシステムに対するパターンジェネレータの滑りを実質的に低減又は排除するために使用されることができるシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

The exposure system 10 has a CAD/CAM system 16 which designs a via hole of a substrate 12 and a pattern covering the via hole and determines their arrangement positions, and sends pattern information 26 and via hole information 28 as digital data.例文帳に追加

露光システム１０は、基板１２のビアホールと、ビアホールを覆うパターンと、を設計して配置位置を決定し、デジタルデータとしてパターン情報２６及びビアホール情報２８を送信するＣＡＤ／ＣＡＭシステム１６を有する。 - 特許庁

To provide an exposure device which can form a desired device pattern on a substrate by removing an unnecessary liquid, when exposing a pattern on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide exposure equipment capable of forming a desired device pattern onto a substrate by removing an unnecessary liquid when projecting and exposing a pattern onto the substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposing system which can predict the quantity of exposure enough to form a resist pattern having a line width equivalent to a design value even if there is any manufacturing error in the line width of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの線幅が製造誤差を有する場合も、設計値と等しい線幅を有するレジストパターンを形成可能な露光量を予測する露光システムを提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can remove unnecessary liquid when exposing a substrate by projecting a pattern onto a substrate through a projection optical system and liquid, and to form a desired device pattern on the substrate.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can form a desired device pattern on a substrate by removing unnecessary liquid, when exposing the substrate by projecting the pattern on the substrate via a projection optical system and liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁