Ra - Yの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 12件
In the formula III, R21 and R22 are each a substituent; and RA, RB, X1 and Y have the same meanings as those in the formula I.例文帳に追加
式(III)中、R^21,R^22は置換基を表し;R^A,R^Bは,X^1,Yは、式(I)と同義。 - 特許庁
In the formula IV, R31 and R32 are each a substituent; and RA, RB, X2 and Y have the same meanings as those in the formula II.例文帳に追加
式(IV)中、R^31,R^32は置換基を表し;R^A,R^B,X^2,Yは式(II)と同義。 - 特許庁
In the formula II, R11 and R12 are each a substituent; RA, RB and Y have the same meanings as those in the formula I; and X2 is a group bonding to C to which RA and RB bond through a heteroatom.例文帳に追加
式(II)中、R^11,R^12は置換基を;R^A,R^B,Yは式(I)と同義;X^2はヘテロ原子を介してR^AおよびR^Bが結合する炭素原子に結合する基を表す。 - 特許庁
It is preferable to adjust the surface roughness Ra in the flaw-removed portion to y or less on the μm unit, wherein y satisfies the equation (1):y=22.71×{1-(d/d_0)^2}^2+1.797×{1-(d/d_0)^2}+6.0839.例文帳に追加
なお、疵除去部の表面粗さRaを、y=22.71×{1−(d/do)^2}^2+1.797×{1−(d/do)^2}+6.0839の式で算出されるμm単位でのy以下とすれば一層よい。 - 特許庁
In one embodiment, SE and RA modules perform the rest of clipping, such as X, Y and far Z clipping.例文帳に追加
一実施形態においては、SEモジュールおよびRAモジュールが、X、Y、および、遠Zクリッピングのような残りのクリッピングを実行する。 - 特許庁
(1) The depth of the intercept (Y-intercept) on the relative curve at 50% contact rate is 1 to 3 times the average surface roughness Ra. (2) The contact rate on the intercept (X-intercept) with the relative load curve at 50% depth of the whole depth is ≥85%.例文帳に追加
(2)深さが全体の50%に於ける相対負荷曲線との切片(X切片)の接触率が85%以上の範囲である。 - 特許庁
The center line surface roughness Ra is measured by using a high precision surface roughness meter OO produced by XX manufacturing Co. Ltd. and a chart is drawn under the condition of cut-off value 0.08mm and OX, according to JIS B0601. A portion of measured length L is cut out from a film surface roughness curve to the direction of the center line. When the center line of the portion is expressed as an X axis, the vertical direction is expressed as a Y axis, and a roughness curve is expressed as Y = f (X), the value obtained from the following expression is Ra (μm). 例文帳に追加
中心線表面粗さRaはJIS B0601に準じ、(株)××製作所の高精度表面粗さ計○○を用いて測定し、カットオフ0.08mm、及び○×の条件下にチャートを書かせ、フィルム表面粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、その抜き取り部分の中心線をX軸、縦方向をY軸として粗さ曲線をY=f(X)で表したとき、次の式で得られた値をμm単位で表す。 - 特許庁
To remove radioactive materials from a waste liquid containing radioactive materials such as Sr-90, Sr-89, Ba-133, Y-90, and Ra with a small-scaled treatment facility.例文帳に追加
小規模な処理設備でSr−90、Sr−89、Ba−133、Y−90及びRa等の放射性物質を含む廃液から放射性物質を除去することを可能とする。 - 特許庁
An encryption device 200 randomly selects r out of Z_q^*, calculates R=g^r, k=H_1(R), c=E_k(m), a=G(c), u=y^rg^ra, respectively, and outputs (u, c) as a ciphertext.例文帳に追加
暗号化装置200は、rをランダムにZ_q^*から選び、R=g^r,k=H_1(R),c=E_k(m),a=G(c),u=y^rg^raをそれぞれ計算し、(u,c)を暗号文として出力する。 - 特許庁
The droplet discharging apparatus is so constructed that a cross-like pinning spot B1 consisting of a band-shaped spot a little longer than the cell width Ra in the direction of the X arrow and a band-shaped spot a little longer than the cell width Ra in the direction of the Y arrow is formed in the area of an impact position.例文帳に追加
着弾位置の領域で、X矢印方向に沿ってセル幅Raよりも若干長い帯状のスポットと、Y矢印方向に沿ってセル幅Raよりも若干長い帯状のスポットとからなる十字状のピニングスポットB1を成形するようにした。 - 特許庁
An operation lever 1 of the composite switch lever device which is operated in 2 inclination movement directions X, Y crossing each other, and also operated in a direction of rotation around an axis line ax, includes a first magnet 21 to detect the operative positions on each of the 2 inclination movement directions X, Y, and a second magnet 22 to detect the operative position on the direction of rotation Ra.例文帳に追加
互いに交差する2つの傾動方向X,Y及び軸線ax周りの回転方向Raに操作されるとともに、2つの傾動方向X,Yに各々沿う操作位置を検出させる第1磁石21と、回転方向Raに沿う操作位置を検出させる第2磁石22とを複合スイッチレバー装置の操作レバー1に設けた。 - 特許庁
A color editing means 40 optionally selects or combines each data by each area concerning separated data RM, GM, BM, RS, GS, BS, RA, GA, BA to freely prepare each color data of R, G, B, C(cyanogens), Y(yellow), M(magenta), BW(white, black) and increases or reduces its level to execute color editing.例文帳に追加
色編集手段40は、分離されたデータRM,GM,BM,RS,GS,BS,RA,GA,BAについて、各領域毎に、各データを任意に選択または組み合わせて、R,G,B,C,Y,M,BWの各色データを自由に作成し、さらにそのレベルを増減することによって色編集を行う。 - 特許庁
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