「STEP COVERAGE」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In this way, both a step coverage and a film deposition rate are highly held.例文帳に追加

これにより、ステップカバレジと成膜レートとを共に高く維持する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper seed layer having excellent step coverage.例文帳に追加

段差被覆性に優れた銅シード層の製造方法を提供する。 - 特許庁

Generating coverage analysisGenerating coverage analysis--Step by stepGenerating coverage analysis data Make sure you have a fresh checkout of pear and peardoc directories from cvs.php.net. 例文帳に追加

網羅状況の生成網羅状況の生成--順を追って説明します網羅状況の解析データの生成 cvs.php.netからチェックアウトしたpear ディレクトリおよびpeardoc ディレクトリが存在することを確認します。 - PEAR

The metal compound layer serves as the barrier metal layer, and has excellent step coverage and low resistance.例文帳に追加

金属化合物層は障壁金属層として、優れたステップカバーレージ及び低い抵抗を有する。 - 特許庁

INTERCONNECTION PORTION METALLIZATION PROCESS HAVING STEP COVERAGE EQUAL TO OR MORE THAN 100%例文帳に追加

１００％又はそれより大きい段差被覆性を有する相互接続部金属化プロセス - 特許庁

To prevent a barrier metal from being undercut, and to make the step coverage satisfactory.例文帳に追加

バリアメタルがアンダーカットされてしまうことを防止し、ステップカバレッジを良好にする。 - 特許庁

To improve step coverage of Al or an Al alloy layer forming wiring in a method for forming wiring.例文帳に追加

配線形成法において、配線を構成するＡｌ又はＡｌ合金層の段差被覆性を改善する。 - 特許庁

To provide an organic EL element capable of enhancing step coverage of an organic capping layer.例文帳に追加

有機キャッピング層のステップカバレッジを良好にすることができる有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of keeping the both of a step coverage and a film deposition rate high.例文帳に追加

ステップカバレジと成膜レートとを共に高く維持することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

PRESSURE MODULATION METHOD TO OBTAIN IMPROVED STEP COVERAGE OF SEED LAYER例文帳に追加

シード層の改善されたステップカバレージを達成する圧力変調方法 - 特許庁

To provide a technique capable of cleanly depositing films such as NS, Pt, NiPt, NiSi, and PtSi, namely, with satisfactory step coverage property or film deposition property.例文帳に追加

Ｎｉ，Ｐｔ，ＮｉＰｔ，ＮｉＳｉ，ＰｔＳｉ等の膜を綺麗に、即ち、段差被覆性良く形成できる技術を提供することである。 - 特許庁

To improve the step coverage of a dielectric film and to reduce the disposal amount of a dielectric substance.例文帳に追加

誘電体膜の段差被覆性がよく、かつ誘電体物質の廃棄量を少なくする。 - 特許庁

Thus, the step coverage can be increased, and the throughput can be kept high.例文帳に追加

これにより、ステップカバレジを向上させることができ、スループットも高く維持することが可能となる。 - 特許庁

To obtain an insulating layer having high dielectric breakdown voltage and large step coverage for a magnetic reading head.例文帳に追加

磁気読み取りヘッド用の絶縁破壊電圧が高く、ステップカバレージの大きい絶縁層を得る。 - 特許庁

To form a thin film of desired film quality while a step coverage is increased.例文帳に追加

ステップカバレッジを高めながらそれとともに所望の膜質で薄膜を形成する。 - 特許庁

The defect of the ta-C film inferior in step coverage can be covered by forming the DLC film 7 superior in step coverage.例文帳に追加

そのため、ステップカバレッジの良いＤＬＣ膜７を形成することにより、ステップカバレッジが劣るというｔａ−Ｃ膜８の欠点をカバーすることができる。 - 特許庁

A coverage of the fine silica particles in the second covering step is made larger than that in the first covering step.例文帳に追加

第二被覆工程でのケイ酸微粒子の被覆率は、第一被覆工程での被覆率よりも大きくなるようにする。 - 特許庁

To provide an insulation film having excellent movable ion resistance, heavy metal resistance, and water resistance and exhibiting excellent step coverage.例文帳に追加

可動イオン耐性、重金属耐性、耐水性に優れ、かつステップカバレッジに優れた絶縁膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a apparatus for achieving the conformal, step coverage on a substrate by an ionized metal plasma deposition.例文帳に追加

イオン化金属プラズマ堆積によって、基板上で共形ステップカバレッジを達成する方法と装置を提供する。 - 特許庁

By suitably increasing or decreasing the amount of active oxygen or ozone generated in a vapor phase, step coverage can be controlled.例文帳に追加

本発明では、気相中に発生した活性酸素またはオゾン量を適宜増減させることにより、ステツプカバレツジをコントロールできる。 - 特許庁

Since the shapes of the interlayer insulation films 2 and 3 are improved by the isotropic etching, the metal interconnection layer can be formed with a good step coverage.例文帳に追加

等方性エッチングにより層間絶縁膜２，３の形状が改善され、金属配線層がステップカバレージ良く成膜される。 - 特許庁

The deterioration of step coverage and the hillock are both prevented when the relation 1 μm<W1-W2<4 μm holds.例文帳に追加

１μｍ＜Ｗ１−Ｗ２＜４μｍの関係にあればステップカバレージの低下とヒロックの両方を防止できる。 - 特許庁

To form a silicon nitride layer being excellent in step coverage and having a uniform film thickness in a high-aspect-ratio hole.例文帳に追加

高アスペクト比のホール内に、良好なステップカバレッジを有する均一な膜厚の窒化シリコン層を形成する。 - 特許庁

Thus, the degree of homogeneity (uniformity of film thickness or the like) of the thin film can be improved, and further its step coverage properties can be improved.例文帳に追加

このように構成すれば、薄膜の均質度（膜厚の均一性等）を向上させるとともに、ステップカバレッジ特性を向上させることができる。 - 特許庁

To form a capacity insulating film provided with a good step coverage and good film quality without lowering throughput.例文帳に追加

スループットを低下させることなく、良好なステップカバレッジ及び良好な膜質を備えた容量絶縁膜を成膜する。 - 特許庁

METHOD OF IMPROVING STEP COVERAGE AT THIN FILM DEPOSITION IN RECESSED PORTION AND APPLICATION TO MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

凹槽に薄膜を沈積させる際のステップカバレージを改善する方法及び半導体素子の製造への適用 - 特許庁

To provide a method of forming metal oxide film to form, with higher throughput, a metal oxide film having excellent step coverage and film quality.例文帳に追加

良好な段差被覆性と膜質とを有する金属酸化膜をスループット高く形成する、金属酸化膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

An electrode 17 having a good step coverage is formed at a contact opening 16 defined by the funnelform hole 14a and the second hole 15.例文帳に追加

漏斗状孔１４aと第２の孔１５とから成るコンタクト開口１６にスッテプカバレージの良い電極１７を形成する。 - 特許庁

An electrode 17 whose step coverage is satisfactory is formed in a contact opening 16 composed of the funnelform hole 14a and the second hole 15.例文帳に追加

漏斗状孔１４ａと第２の孔１５とから成るコンタクト開口１６にステップカバレージの良い電極１７を形成する。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a plasma film deposition apparatus for increasing the step coverage, and accordingly, keeping a throughput high.例文帳に追加

ステップカバレジを向上させることができ、これによりスループットも高く維持することが可能な成膜方法及びプラズマ成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper film on barrier metal so that excellent properties of trench filling and step coverage are provided.例文帳に追加

優れたトレンチ充填およびステップカバレッジを有するように銅膜をバリア金属上に形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a damascene wiring formation method having a seed layer with superior step coverage characteristics, and a structure formed by the method.例文帳に追加

ステップカバレージ特性が優秀なシード層を有するダマシン配線形成方法およびその構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a BGA (ball grid array) of high reliability which prevents disconnection and deterioration of step coverage.例文帳に追加

断線やステップカバレージの劣化を防止し、信頼性の高いＢＧＡを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for depositing a conductive plug for improving a step coverage of a contact hole having high aspect ratio.例文帳に追加

高いアスペクト比を有するコンタクトホールのステップカバリッジを向上させる導電性プラグの堆積方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a memory device having concave BST capacitors of which the step coverage is good and reliability in electrical characteristics is high.例文帳に追加

ステップカバレッジに優れ、電気的特性の信頼性の高い、凹状構造のＢＳＴキャパシタを有するメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for high temperature deposition of an amorphous carbon film having improved step coverage.例文帳に追加

改善されたステップカバレージを有するアモルファスカーボン膜を高温堆積するための方法を提供すること。 - 特許庁

This method facilitates control of the oxygen content in the SRO, and is especially excellent in step coverage, thus allowing high-quality semiconductor devices to be manufactured.例文帳に追加

これにより、ＳＲＯで酸素含量の調節が容易であり、特に、ステップカバリッジに優れており、良質の半導体素子を製造できる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device of borderless contact structure for improving the step-coverage of barrier metal.例文帳に追加

バリアメタルのステップカバレッジを向上させるボーダレスコンタクト構造を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for achieving the conformal step coverage on a substrate by a PVD.例文帳に追加

本発明は、ＰＶＤによって基板上にコンフォーマルな段差被覆性を達成するための方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method for forming a pattern for reducing manufacturing cost and improving a step coverage.例文帳に追加

製造コストを削減を図るとともに、ステップカバレージの向上が図られた半導体装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film depositing method capable of depositing a film which is uniform in film thickness, high in step coverage, and excellent in quality.例文帳に追加

本発明は膜厚の均一性、良好なステップカバレッジ及び高品質な膜を得る成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a highly reliable BGA by preventing open circuit and deterioration of step coverage.例文帳に追加

断線やステップカバレージの劣化を防止し、信頼性の高いＢＧＡを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device in which a step coverage of wiring layers formed on ohmic electrode layers is improved, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加

オーミック電極層上の配線層の段差被覆性が改善された、信頼性が高い半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this case, the TiCl4 is the reaction rate-determination in a thermal chemical reaction, the TiN film 8 having a good step-coverage is formed.例文帳に追加

ここでは、ＴｉＣｌ_4を熱化学反応における反応律速とし、ステップカバレージに優れたＴｉＮ膜８を形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal-containing film in which film deposition under low temperature conditions is excellent, and capable of stable film deposition, and also capable of depositing a thin film enough in step coverage.例文帳に追加

低温条件での成膜に優れ、安定した成膜が可能であり、かつ段差被覆性に富んだ薄膜を形成することができる。 - 特許庁