「VACUUM ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The vacuum ultraviolet light generation device which employs a four-wave mixing method constituted of a cell 10, a visible light source 20, an ultraviolet light source 30, a first lens 40, a second lens 50, and a third lens 60.例文帳に追加

本発明の４波混合法を用いる真空紫外光発生装置は、セル１０と可視光光源２０と紫外光光源３０と第１レンズ４０と第２レンズ５０と第３レンズ６０とからなる。 - 特許庁

In the vacuum ultraviolet light source, the first dielectric tube 10 and the second dielectric tube 12 are arranged so that their central axes match.例文帳に追加

第1誘電体管10と第2誘電体管12とは、その互いの中心軸23を一致させて配置されている。 - 特許庁

A photo-catalyst 26 and a second light source 24 are provided in the photo-catalytic reaction vessel 14 and the photo-catalyst 26 is irradiated with an ultraviolet light containing no vacuum ultraviolet region from the second light source 24, and this photo-catalyst 26 is brought into contact with the above exhaust gas to accelerate decomposition of the hazardous organic substances.例文帳に追加

光触媒反応容器１４には光触媒２６と第２光源２４が設けられ、この第２光源２４から真空紫外領域を含まない紫外光が光触媒２６に照射され、この光触媒２６が前記排ガスに接触して、有害有機物の分解を促進する。 - 特許庁

The contamination prevention device comprises a light source generating vacuum ultraviolet light having a wavelength of 166 nm or shorter, and an optical system (mirrors 104a, 104b, and the like) through which an EUV mask 108 housed in an EUV exposure device 101 is irradiated with vacuum ultraviolet light from the light source.例文帳に追加

本発明の一態様にかかる汚染防止装置は、波長１６６ｎｍ以下の真空紫外光を発生する光源と、光源からの真空紫外光のビームをＥＵＶ露光装置１０１内に収容されたＥＵＶマスク１０８に対して照射させる光学系（ミラー１０４ａ、１０４ｂ等）と、を備えるものである。 - 特許庁

To perform exposure transfer in a wavelength region from vacuum ultraviolet to infrared without depending on the wavelength of an exposure light source.例文帳に追加

露光光源の波長に依存することなく、真空紫外から赤外までの波長域で露光転写を行なうことができるマスクレス露光装置を提供する。 - 特許庁

Electrons emitted by field emission from a cold cathode electron emission source in vacuum are made to collide against the ultraviolet phosphor thin film 4 at a high speed, thereby the film 4 is excited by the electrons to emit UV light.例文帳に追加

紫外蛍光薄膜４は、真空中で冷陰極電子放出源から電界放出させた電子を高速で衝突させることにより、電子により励起されＵＶ光を放出する。 - 特許庁

To provide an oxide phosphor exhibiting higher quantum efficiency when irradiated by a vacuum ultraviolet ray, its producing method, its designing rule and a light source having higher energy efficiency using the phosphor.例文帳に追加

真空紫外線照射時により高い量子効率を示す酸化物蛍光体、その製造方法、その設計規則及び該蛍光体を用いたエネルギー効率のより高い光源を提供する。 - 特許庁

To enhance the emission efficiency of green light emission by vacuum ultraviolet rays using that of not higher than 200 nm wave length as an excitation source.例文帳に追加

波長200nm以下の真空紫外線を励起源として緑色発光する真空紫外線励起蛍光体において、真空紫外線による緑色発光の発光効率を高める。 - 特許庁

To provide phosphor particles having high emission efficiency and their manufacturing method, particularly phosphor particles suitably used in PDP using vacuum ultraviolet rays as the excitation light source, and their manufacturing method.例文帳に追加

発光効率の高い蛍光体粒子及びその製造方法を提供すること、特に真空紫外を励起光源とするＰＤＰに適した蛍光体粒子及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then, it is sucked and fixed on the upper face 102 of the lower fame 100 of the substrate W by evacuating by the vacuum sucking device 120, and the alignment with the mask film M is confirmed, so that exposure is performed by irradiating with ultraviolet rays from an exposure light source.例文帳に追加

その後、真空吸着装置120で真空引きして基板Ｗ下枠100の上面102に吸着固定し、マスクフィルムＭとのアライメントを確認し、露光光源から紫外線を照射して露光する。 - 特許庁

To provide a reflection type polarizing modulation element capable of using a circularly polarized light or a linearly polarized light and modulating these polarized states of the light without using a radiation light source even in a vacuum ultraviolet region where no transmission type polarizing element can be used.例文帳に追加

透過型偏光素子が利用できない真空紫外領域においても円偏光もしくは直線偏光の利用ならびにそれら偏光状態の変調が放射光源を用いずとも可能とする反射型偏光変調素子を提供すること。 - 特許庁

To provide an extreme ultraviolet light source apparatus in which the reflectivity of an EUV collector mirror is hard to degrade when the particles of low transmission coefficient against EUV light stick even if a high speed ion released from plasma collides with a structure within a vacuum chamber.例文帳に追加

プラズマから放出される高速イオンが、真空チャンバ内の構造物に衝突しても、ＥＵＶ光に対する透過率の低い粒子の付着により、ＥＵＶコレクタミラーの反射率が低下し難い極端紫外光源装置を提供する。 - 特許庁

Further, the device 1007 includes: a first collector for detecting the number of first charged particles out of charged particles where a flying distance from the vacuum ultraviolet light source 600 is zero or more; and a second collector for detecting the number of second charged particles out of charged particles at a distance longer than the flying distance of the first charged particles.例文帳に追加

また、装置1007は、真空紫外光源600からの飛行距離が０以上の距離である荷電粒子の第１の荷電粒子数を検出する第１のコレクタと、上記距離よりも長い距離の荷電粒子の第２の荷電粒子数を検出する第２のコレクタとを備える。 - 特許庁

An exposure system projects a mask pattern onto a photosensitive substrate using a fluorine excimer laser as a light source, where the beam of the excimer laser whose wavelengths are in a wavelength range of vacuum ultraviolet rays are used as an exposure light, and an optical axis aligning means in which visible light or infrared beams emitted from the fluorine excimer laser at the same time are used is provided.例文帳に追加

フッ素エキシマレーザを光源とし、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記フッ素エキシマレーザ光の真空紫外域の波長を露光光とし、前記フッ素エキシマレーザ光が同時に発光する可視光または赤外光を用いた光軸合わせ手段を設ける。 - 特許庁