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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > beam analysisに関連した英語例文

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beam analysisの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 244



例文

ELECTRON BEAM ANALYSIS DEVICE例文帳に追加

電子線分析装置 - 特許庁

ION BEAM ANALYSIS METHOD例文帳に追加

イオンビーム分析方法 - 特許庁

METHOD OF ELECTRON BEAM ANALYSIS例文帳に追加

電子線分析方法 - 特許庁

ELEMENTAL ANALYSIS DEVICE BY ION BEAM例文帳に追加

イオンビームによる元素分析装置 - 特許庁

例文

ION BEAM ANALYSIS METHOD AND ION BEAM ANALYZING APPARATUS例文帳に追加

イオンビーム分析方法およびイオンビーム分析装置 - 特許庁


例文

CARBON ANALYSIS METHOD USING ION BEAM例文帳に追加

イオンビームを用いた炭素分析方法 - 特許庁

ANALYSIS SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加

分析システムおよび荷電粒子ビームデバイス - 特許庁

ELECTRON BEAM DEVICE HAVING LINE ANALYSIS FUNCTION例文帳に追加

線分析機能を備える電子線装置 - 特許庁

SPECTRAL ANALYSIS METHOD OF GAS BY LASER BEAM例文帳に追加

レーザ光によるガスの分光分析方法 - 特許庁

例文

NEUTRAL PARTICLE BEAM FORMATION DEVICE, SURFACE ANALYSIS DEVICE, NEUTRAL PARTICLE BEAM FORMATION METHOD, AND SURFACE ANALYSIS METHOD例文帳に追加

中性粒子ビーム形成装置、表面分析装置、中性粒子ビーム形成方法、および表面分析方法 - 特許庁

例文

a beam balance of great precision used in quantitative chemical analysis 例文帳に追加

定量化学分析に使用される高精度のはかり - 日本語WordNet

FOCUSED ION-BEAM MASS SPECTROMETER AND ANALYSIS METHOD THEREOF例文帳に追加

集束イオンビーム質量分析装置および分析方法 - 特許庁

The position of the cut is based upon the analysis of the charged particle beam image.例文帳に追加

そのカット位置は荷電粒子ビーム画像の分析に基づく。 - 特許庁

ANALYTICAL AUXILIARY TOOL USED IN ANALYSIS BY ELECTRON BEAM MICROANALYZER例文帳に追加

電子線マイクロアナライザーの分析で用いるための分析補助具 - 特許庁

SAMPLE ANALYSIS DEVICE EQUIPPED WITH FOCUSING ION BEAM MACHINING/OBSERVATION APPARATUS例文帳に追加

収束イオンビーム加工観察装置を備える試料解析装置 - 特許庁

MAGNETIC SHIELD ANALYSIS METHOD, MAGNETIC SHIELD ANALYSIS PROGRAM AND DESIGN METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

磁気シールド解析手法、磁気シールド解析プログラム及び荷電粒子線露光装置の設計手法 - 特許庁

METHOD FOR ANALYSIS OF ELECTRON BEAM DIFFRACTION IMAGE AND TRANSMISSIVE ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

電子線回折像の解析方法及び透過型電子顕微鏡 - 特許庁

This ion implantation device is equipped with the analysis electromagnet 30 that carries out movement analysis of the ion beam 20 and the analysis slit 40.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム20の運動量分析を行う分析電磁石30および分析スリット40を備えている。 - 特許庁

TEST PIECE COOLING DEVICE, AND ELECTRON BEAM ANALYSIS OBSERVATION DEVICE EQUIPPED WITH IT例文帳に追加

試料冷却装置およびそれを備えた電子線分析観察装置 - 特許庁

MEASURING METHOD OF TESTPIECE SURFACE, ANALYSIS DEVICE AND ELECTRON BEAM DEVICE例文帳に追加

試料鏡面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置 - 特許庁

POSITIVE ELECTRON ANALYSIS MICROSCOPE AND MEASUREMENT METHOD USING POSITIVE ELECTRON BEAM例文帳に追加

陽電子分析顕微鏡および陽電子ビームを用いた測定方法 - 特許庁

MINUTE PART ANALYZER USING FOCUSED ION BEAM AND MINUTE PART ANALYSIS METHOD USING FOCUSED ION BEAM例文帳に追加

集束イオンビームを用いる微細部位解析装置および集束イオンビームを用いる微細部位解析方法 - 特許庁

MAGNET FOR ION ANALYSIS AND METHOD TO MEASURE ION BEAM CURRENT WITH IT例文帳に追加

イオン分析マグネット及び該マグネットを用いたイオンビーム電流測定方法 - 特許庁

Substantial beam loss accompanied with beam deflection from a mass spectrometric analysis electromagnet 3 inlet to a mass spectrometric analysis slit 4 and pressure rise of a beam line in the mass spectrometric analysis magnet in the beam transport section is corrected by estimation from the pressure measured value in the vicinity of wafer region at a further downstream than the mass spectrometric analysis slit is.例文帳に追加

質量分析電磁石3入り口から質量分析スリット4までのビーム偏向及びビーム輸送区間における質量分析磁石内部のビームラインの圧力上昇に伴う実質ビーム損失を、質量分析スリットより下流のウエハ近傍領域の圧力測定値からの推定により補正する。 - 特許庁

The rigidity analysis is performed by utilizing the beam element model, and a force applied to both ends of the beam element is calculated (S4).例文帳に追加

はり要素モデルを利用して剛性解析を行い、はり要素の両端に係る力を計算する(S4)。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING SAMPLE FOR ANALYZING POLE SURFACE LAYER PART IN ELECTRON BEAM MICRO-ANALYSIS例文帳に追加

電子線マイクロアナリシスにおける極表層部分析用試料作製方法 - 特許庁

METHOD OF DISPLAYING FACE ANALYSIS DATA IN SURFACE ANALYZER USING ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 - 特許庁

GAS CLUSTER ION BEAM GUN, SURFACE ANALYSIS DEVICE AND SURFACE ANALYTICAL METHOD例文帳に追加

GCIB(ガスクラスターイオンビーム)銃、表面分析装置および表面分析方法 - 特許庁

OBSERVATION/ANALYSIS METHOD FOR SAMPLE SURFACE BY OBLIQUE EMISSION PROTON BEAM INDUCED CHARACTERISTIC X- RAY ANALYSIS AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

斜出射プロトンビーム誘起特性X線分析による試料表面の観察・分析方法およびそのための装置 - 特許庁

SAMPLE-COOLING DEVICE AND ELECTRON BEAM IRRADIATION TYPE ANALYSIS/OBSERVATION APPARATUS HAVING THE SAME例文帳に追加

試料冷却装置及びそれを備えた電子線照射型分析/観察装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS, SCANNING ELECTRON MICROSCOPE APPARATUS, AND X-RAY ANALYSIS APPARATUS例文帳に追加

電子線照射装置、及び走査型電子顕微鏡装置、X線分析装置 - 特許庁

METHOD FOR IDENTIFYING DRUGS BY NEAR-IR BEAM SPECTROSCOPIC ANALYSIS, AND EQUIPMENT FOR THE SAME例文帳に追加

薬物を近赤外線分光分析によって特定する方法およびそのための機器 - 特許庁

The structure analysis processing for the small angle electron beam scattering portion may be combined for use.例文帳に追加

また、小角電子線散乱部分の構造解析処理を併用することができる。 - 特許庁

DETERMINATION OF BODY STRUCTURE USING FANSHAPED BEAM DOUBLE ENERGY X-RAY ABSORPTIOMETRIC ANALYSIS例文帳に追加

扇形ビーム二重エネルギX線吸光光度分析を使用した体構成の決定 - 特許庁

After the probe needles are brought into contact, an electronic beam is emitted onto the analysis subject net 1000.例文帳に追加

プローブ針の接触後、電子ビームを照射し解析対象ネット1000に対する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR IMPROVING SIMULATING BEAM-TO-SURFACE CONTACT IN FINITE ELEMENT ANALYSIS例文帳に追加

有限要素解析法におけるビーム−面接触をシミュレートする改善方法およびシステム - 特許庁

The beam F irradiates a sample LA placed on an analysis plane P_D and having a defect D_1.例文帳に追加

ビーム(F)は、解析平面(P_D)上で欠陥(D_1)を有したサンプル(LA)を照射する。 - 特許庁

A circuit cooperation analysis simulation device executes steps of: modelling all wirings in a circuit model as one model; introducing a beam current element to a low-frequency electromagnetic field analysis; using a vector potential and a scalar potential to formulate the low-frequency electromagnetic field analysis by a finite element method; and combining the low-frequency electromagnetic field analysis with a circuit analysis.例文帳に追加

回路モデルのすべての配線を1つのモデルとしてモデル化し、低周波電磁界解析にビーム電流要素を導入して、ベクトルポテンシャルとスカラーポテンシャルを用いて有限要素法で定式化し、回路解析と連立させる。 - 特許庁

To automatically adjust an optical path length difference between measurement beam and reference beam at a desired timing in optical coherent tomography measurement of acquiring tomographic images by performing the frequency analysis of the interference beam of the measurement beam and the reference beam.例文帳に追加

測定光と参照光の干渉光の周波数解析を行うことにより断層画像を取得する光コヒーレンストモグラフィー計測において、所望のタイミングで、自動的に測定光と参照光の光路長差を調整する。 - 特許庁

To provide an analyzer 11 capable of stably performing the elementary analysis of a sample 12 such as glass or a resin pervious to a pulse laser beam L, a mirror or metal reflecting the pulse laser beam L, with good reproducibility by laser beam breakdown spectral analysis.例文帳に追加

パルスレーザ光Lを透過するガラスや樹脂、パルスレーザ光Lを反射する鏡や金属などの試料12をレーザ光ブレイクダウン分光分析によって再現性よく安定して元素分析できる分析装置11を提供する。 - 特許庁

To prevent deviation of a focus of an ion beam from a position of an analysis slit affected by a space charge in an ion implanting device equipped with an analysis electromagnet and an analysis slit.例文帳に追加

分析電磁石および分析スリットを備えるイオン注入装置において、空間電荷の影響によってイオンビームの焦点が分析スリットの位置からずれるのを防止する。 - 特許庁

NEGATIVE ION SOURCE, ION BEAM ANALYSIS DEVICE, ETCHING DEVICE, OXYGEN RADICAL GENERATION DEVICE AND WASTE GAS PROCESSOR例文帳に追加

負イオン源、イオンビーム分析装置、エッチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置 - 特許庁

To provide a thermal analysis device having a balance beam replaceable easily with safety.例文帳に追加

天秤ビームの交換を容易且つ安全に行うことができる熱分析装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ANALYZING FOREIGN MATTER BY OBLIQUE EMISSION ELECTRON BEAM PROBE MICRO-X-RAY ANALYSIS例文帳に追加

斜出射電子線プローブマイクロX線分析による異物の分析方法およびその装置 - 特許庁

In particular, the image data of the small angle electron beam scattering image 15 can be processed for structure analysis.例文帳に追加

特に、小角電子線散乱像15の画像データに構造解析処理を施すことができる。 - 特許庁

To provide an analyzer 11 capable of stably performing the elementary analysis of a liquid material with good reproducibility by laser beam breakdown spectral analysis.例文帳に追加

液体状の物質をレーザ光ブレイクダウン分光分析によって再現性よく安定して元素分析できる分析装置11を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam analyzer for carrying out accurate elemental analysis, without displacing the position to be analyzed.例文帳に追加

分析位置ずれのない正確な元素分析を行うことができる電子線分析装置を提供する。 - 特許庁

SAMPLE FIXING TABLE, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE EQUIPPED WITH IT, AND OBSERVATION/ANALYSIS OBJECT PART IDENTIFYING METHOD例文帳に追加

試料固定台、及びそれを備えた荷電粒子線装置、並びに観察/解析対象箇所特定方法 - 特許庁

To solve a problem at the time of matching a beam with an object in X-ray based analysis.例文帳に追加

X線に基づいた分析の際に対象物にビームをマッチングさせる際の問題点を解決する。 - 特許庁

例文

Thus, the parallel X-ray beam can be extracted at the same position in the same direction in the two stages of spectroscopic analysis.例文帳に追加

これにより、二つの分光段階で、同じ位置と方向に平行X線ビームが取り出される。 - 特許庁




  
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