「electric field pulse method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This control method is through exposing a semiconductor 1 put in an electric field to coherent pulse pumping light P1 and probe light P2, and the variations of the transmissivity and reflectance of the semiconductor 1 are controlled by varying electric field strength and a time difference between the pumping light P1 and the probe light P2 or electric field strength or a time difference between the pumping light P1 and the probe light P2.例文帳に追加

電界中に置いた半導体１にコヒーレントなパルスであるポンプ光Ｐ１とプローブ光Ｐ２とを当てて行うものであって、電界の強度及びポンプ光Ｐ１とプローブ光Ｐ２との時間差、または、電界の強度若しくはポンプ光Ｐ１とプローブ光Ｐ２との時間差を変化させることで、半導体１の透過率、反射率の変化を制御する。 - 特許庁

In the method for generating terahertz electromagnetic waves by using coherent phonon in a quantum structure, a light pulse is made to resonate with an exciton absorption peak in the quantum structure, or an electric field is applied to the quantum structure and an electric field shield is instantly induced by a light pulse in the quantum structure, thereby coherent phonon with a large amplitude are generated, causing polarization oscillation to generate terahertz electromagnetic waves.例文帳に追加

量子構造におけるコヒーレントフォノンを用いてテラヘルツ電磁波を発生させる方法において、その量子構造において光パルスを励起子吸収ピークと共鳴させるか、或いは、量子構造に電場を印加し光パルスで量子構造内に電場遮蔽を瞬間的に起こさせることで、高振幅のコヒーレントフォノンを生成し、それによる分極の振動でテラヘルツ電磁波を発生させる。 - 特許庁

This cultivation method of Sparassis crispa comprises using a container in which an artificial medium having conifer as the base material is filled, putting the container in the inside of a solenoid conductor, and letting pulse electric current of a pulse width of 3-20 microsecond flow to produce 300-500 gauss magnetic field.例文帳に追加

針葉樹を基材とする人工培地を詰めた容器を用いて、ハナビラタケを栽培し、この容器をソレノイド状の導線の内部に入れ、パルス幅が３〜２０マイクロ秒のパルス電流を流して３００〜５００ガウスの磁場を発生させる。 - 特許庁

In this driving method of the plasma display, the erasing of electric charges is performed sufficiently by making the peak value of the voltage of an erasing pulse different for every sub-field.例文帳に追加

プラズマディスプレイの駆動方法において、サブフィールド毎に消去パルスの電圧の波高値を異なる値にするもので、十分に壁電荷の消去を行うことができる。 - 特許庁

The method comprises applying an electric field pulse 29 to the ferromagnetic region 22 so as to cause orientation of magnetic anisotropy to change for switching magnetization between the first and second orientations.例文帳に追加

この方法は、電界パルス（２９）を強磁性領域（２２）に与えることにより、磁気異方性の配向を変えて磁化を第１と第２の配向の間に切り換えることを含む。 - 特許庁

An electric field time waveform of a terahertz pulse train composed of a plurality of terahertz pulses is temporally expanded on the basis of the principle of an asynchronous optical sampling method and is rapidly acquired without using any mechanical stage for time delay scanning.例文帳に追加

複数のテラヘルツ・パルスから構成されるテラヘルツ・パルス列の電場時間波形を、非同期光サンプリング法の原理に基づいて時間的に拡大し、時間遅延走査用機械式ステージ無しで高速取得する。 - 特許庁

A method for operating the magnetoresistive device includes a step of applying an electric field pulse to the ferromagnetic region so that the magnetic anisotropy direction of the ferromagnetic region is changed in order to switch the magnetization between the first and second directions.例文帳に追加

磁気抵抗素子を動作させる方法は、第一及び第二の方向の間で磁化を反転させるために、強磁性領域の磁気異方性の方向を変化させるように、強磁性領域に電場パルスを印加するステップを含んでいる。 - 特許庁

To provide a sterilizer and a sterilizing method which effectively sterilize a large amount of liquid without applying a high frequency pulse electric field.例文帳に追加

高周波パルス電界を印加することなく、大量に効率よく液体を殺菌することのできる殺菌装置及び殺菌方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

This method for aerobically treating organic liquid waste comprises elm a step to concentrate all or a part of the sludge produced at an aerobic treatment step, modify the sludge by subjecting it to high-voltage pulse discharge treatment and/or pulse electric field treatment and/or supersonic treatment and return the modified sludge to the aerobic treatment step.例文帳に追加

有機性廃液の好気性処理に際し、好気性処理によって生成する汚泥の全部または一部を濃縮して、高電圧パルス放電処理及び／またはパルス電界処理及び／または超音波処理により改質し、該改質された汚泥を前記好気性処理工程に返送する工程を含む様にして操業する。 - 特許庁

The discharge plasma processing method and the apparatus thereof are characterized, by setting a solid dielectric on at least one opposite surface of a pair of opposed electrodes under a pressure near the atmospheric pressure, introducing a process gas between the opposed electrodes, applying a pulse-like electric field to obtain a plasma, and exposing a circuit board to the plasma.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られるプラズマを回路基板に接触させることを特徴とする回路基板の放電プラズマ処理方法及び装置。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor element comprises the steps of introducing a material gas between facing electrodes under a pressure near atmospheric pressure, in the case of forming the interlayer insulating film and/or the passivation film of the element, applying a pulse-like electric field between the opposed electrodes, thereby generating the glow discharge plasma in the material gas, and forming the interlayer insulating film and/or the passivation film.例文帳に追加

半導体素子における層間絶縁膜及び／又はパシベーション膜のプラズマＣＶＤ法による形成において、大気圧近傍の圧力下で対向電極間に原料ガスを導入し、該対向電極間にパルス状の電界を印加することにより、原料ガスをグロー放電プラズマ化させ、層間絶縁膜及び／又はパシベーション膜の形成を行うことを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 特許庁

This method for the hydrophilization treatment of the polyimide base material comprises treatment of the polyimide base material in an atmosphere of ≥45% relative humidity under a pressure of nearly atmospheric pressure with a glow discharge plasma, especially treatment with the glow discharge plasma generated by impressing a pulse-shaped electric field between counter electrodes in which at least one of opposite sides is covered with a solid dielectric substance.例文帳に追加

大気圧の近傍の圧力下、相対湿度４５％以上の雰囲気下でポリイミド基材をグロー放電プラズマによる処理、特に、電極対向面の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆された対向電極間にパルス状電界を印加して発生するグロー放電プラズマによる処理を行うことを特徴とするポリイミド基材の親水化処理方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor element comprises the steps of introducing a material gas between the counterposed electrodes under the pressure which is close to the atmospheric pressure, in the case of forming the low permittivity interlayer insulating thin film in the element, applying a pulse-like electric field between the opposed electrodes to generate the glow discharge plasma in the material gas, and forming the thin film.例文帳に追加

半導体素子における低誘電率層間絶縁薄膜の形成において、大気圧近傍の圧力下で対向電極間に原料ガスを導入し、該対向電極間にパルス状の電界を印加することにより原料ガスをグロー放電プラズマ化させ、薄膜を形成することを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 特許庁

In the method, a solid dielectric is fitted to at least one of facing electrodes of a pair under atmospheric pressure in an atmosphere containing at least 4 vol.% of oxygen, and the glass substrate is brought into contact with discharge plasma generated by applying a pulse electric field between the electrodes.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で、酸素を４体積％以上含有する雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間にパルス化された電界を印加することにより発生させた放電プラズマを液晶用ガラス基板に接触させることを特徴とする液晶用ガラス基板の洗浄方法。 - 特許庁

In the method of manufacturing an electronic component with a semiconductor chip connected to a substrate, a pretreatment prior to die bonding step, comprises installing a solid dielectric on at least one opposed surface of a pair of opposed electrodes under near the atmospheric pressure, introducing a process gas between the pair of opposed electrodes, applying a pulse-like electric field to obtain a plasma, and contacting the plasma with the substrate.例文帳に追加

半導体チップを基板に接続してなる電子部品の製造方法において、ボンディング工程の前処理として、大気圧近傍の圧力下、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られるプラズマで基板を接触処理することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 特許庁