「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, AND PATTERNING METHOD USING THE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料、該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

METHOD OF MAGNETICALLY PATTERNING THIN FILM BY USE OF MASK-CONTROLLED LOCAL PHASE TRANSITION例文帳に追加

マスク制御された局所的な相転移によって薄膜を磁気的にパターン形成する方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, PIEZOELECTRIC DRIVING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

パターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRONIC APPARATUS AND PATTERNING APPARATUS例文帳に追加

電子素子の製造方法、回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及びパターニング装置 - 特許庁

PATTERNING PRECISION MEASURING METHOD, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROOPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

パターニング精度測定方法、パターンの形成方法、薄膜トランジスタの製造方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 - 特許庁

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method such as a double patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist treatment method in which an ultrafine pattern having satisfactory accuracy is formed from a resist composition for the first resist pattern formation in a multi-patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MULTIPLE-LAYER ELECTRODE STRUCTURE ON SOLAR CELL, METALLIZATION CONTACT STRUCTURE, PATTERNING METHOD OF LAYER, AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL STRUCTURE例文帳に追加

太陽電池上に多層電極構造を形成する方法、金属配線コンタクト構造、層のパターニング方法、機能構造の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING METAL FOIL, ELECTRIC WIRING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND CIRCUIT BOARD AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

金属箔のパターニング方法、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 - 特許庁

To provide a method of patterning a catalyst layer for synthesis of carbon nanotubes and a method of fabricating a field emission device using the method.例文帳に追加

炭素ナノチューブの合成のための触媒層のパターニング方法及びそれを利用した電界放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRIVING MOVABLE BODY, PATTERNING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE, POSITION CONTROL METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、位置制御方法及び位置制御システム、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a method for reducing one process, enabling highly precise patterning and easily manufacturing a device when patterning a structure layer consisting of an organic material.例文帳に追加

有機系材料からなる構造層のパターニングの際に、工程を一つ減らすことができ、また、高精度のパターニングを可能にし、デバイスを容易に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of high topography patterning which results in a uniform pattern density facilitating the next processing steps and obtains relaxed requirements for active patterning lithography.例文帳に追加

次の処理を簡単にすることができる均一なパターン密度が得られ、アクティブ・パターニング・リソグラフィについての緩和要求が得られる高トポグラフィ・パターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for performing accurate and wide ranged patterning without using high cost and high energy-consuming equipment in surface structure patterning of a biodegradable polymeric compound.例文帳に追加

生分解性高分子化合物の表面構造パターニングにおいて、高コスト、高エネルギー消費の機器を使用せずに、正確かつ広域のパターニングが可能な方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device uses double patterning, including a step of preparing a plurality of masks to be used in the double patterning.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、ダブルパターニングを用いた半導体装置の製造方法であって、ダブルパターニングで用いる複数枚のマスクを準備する工程を備える。 - 特許庁

To provide a patterning method for manufacturing a semiconductor device that can compensates for process deviation and further can minimize rework in a patterning process.例文帳に追加

工程偏差を補償することができ、しかもパターニング工程での再作業を最小化することができる半導体装置の製造のためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING MATERIAL, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING METHOD, PATTERNED FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID IMAGING ELEMENT例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

To provide a system and a method that does not limit performance of a dynamic patterning device based upon the restrictions in which generated pattern data are applied to only a static patterning device.例文帳に追加

生成されるパターンデータが、スタティックパターニング装置にのみ適用される制約に基づいてダイナミックパターニング装置の性能を制限しないシステムおよび方法を提供すること。 - 特許庁

NAPHTHALENE DERIVATIVE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME, RESIST BOTTOM LAYER MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST BOTTOM LAYER, AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

ナフタレン誘導体及びその製造方法、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which uniform patterning can be performed, and a manufacturing method for a color filter.例文帳に追加

ムラのないパターニングが可能なパターン形成方法及びカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF PATTERNING THIN FILM USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法 - 特許庁

To provide a micro-patterning culture substrate which can micro-pattern cells using a simple method, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

簡便な方法で細胞のマイクロパターニングが可能なマイクロパターニング培養基板及びその作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning an insulating layer, the insulating layer manufactured by the method and a display element comprising the insulating layer.例文帳に追加

絶縁層のパターニング方法、前記方法によって製造された絶縁層及びそれを含む表示素子を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE APPLIED WITH PATTERNING AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターニングが施された基板およびその製造方法、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法 - 特許庁

SILSESQUIOXANE-BASED COMPOUND MIXTURE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME MIXTURE AND RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD EACH USING THE SAME MIXTURE例文帳に追加

シルセスキオキサン系化合物混合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

EXPOSURE DEVICE, ELECTROSTATIC CHUCK FOR REFLECTIVE EXPOSURE MASK, PATTERNING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光装置、反射型露光マスク用静電チャック、パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁

To provide a new patterning method in which freedom of selection of the material is high and a film forming method, and a manufacturing method of an organic electroluminescent element using the above patterning method, and a manufacturing method of a color filter, and further an electro-optical device and its manufacturing method and an electronic equipment.例文帳に追加

特に材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法を提供するとともに、膜形成方法、前記パターニング方法を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とカラーフィルタの製造方法、さらには電気光学装置とその製造方法、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加

選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁

To provide a new patterning method which allows a wider range of options of materials, a film forming method, a patterning device, a film forming device, an electro-optical device and its manufacturing method, electronic equipment and an electronic device and its manufacturing method.例文帳に追加

材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法を提供するとともに、膜形成方法、パターニング装置、膜形成装置、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及び電子装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new method for patterning in which a degree of flexibility in selection of materials is increased, in addition, a film formation method, a patterning apparatus, a film formation apparatus, an electro-optic apparatus and a method for manufacturing the same, an electronic instrument, and an electronic apparatus and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法を提供するとともに、膜形成方法、パターニング装置、膜形成装置、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及び電子装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH THE FILTER, AND DEVICE AND METHOD FOR INK JET PATTERNING例文帳に追加

フィルター製造装置、フィルター製造方法、このフィルターを備えた表示装置の製造方法、インクジェットパターニング装置及びインクジェットパターニング方法 - 特許庁

In the patterning method, marks on a wafer W are detected by mark detection systems ALG1, ALG2, patterning for the wafer W is started using the detection results, marks on the wafer W are also detected by the mark detection systems ALG1, ALG2 even after starting the patterning, and the detection results are used in the patterning.例文帳に追加

パターン形成方法では、ウエハＷ上のマークをマーク検出系ＡＬＧ１、ＡＬＧ２で検出し、その検出結果を用いてウエハＷに対するパターン形成を開始するとともに、パターン形成開始後もマーク検出系ＡＬＧ１、ＡＬＧ２でウエハＷ上のマークを検出し、パターン形成でその検出結果を用いる。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of making exposure patterning in a short time possible, and improving the accuracy of the exposure patterning as well at the time of performing patterning on the surface of a substrate, especially the substrate surface of low photosensitivity or the substrate surface to which surface treatment is performed with a liquid-repellent agent, a coupling agent or plasma treatment or the like.例文帳に追加

基板の表面、特に感光性が低い基板表面、あるいは撥液剤、カップリング剤、プラズマ処理等で表面処理を行なった基板表面にパターニングを行うに際して、より短時間での露光パターニングを可能とし、併せて露光パターニングの精度も向上させることができるパターニング方法を提案する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a less expensive organic EL display device by enabling a large-area patterning which is hardly attained with a conventional patterning method for conventional organic EL display device and improving productivity in the manufacturing method.例文帳に追加

従来の有機ＥＬ表示素子のパターニング方法において困難であった大面積のパターニングを可能にし、かつ、生産性の高い製造方法とすることで、より安価な有機ＥＬ表示素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of enlarging a device and highly precisely forming a fine pattern without deteriorating characteristics of a thin film including an organic EL material, and to provide a device manufacturing method using the patterning method.例文帳に追加

有機ＥＬ材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF PATTERNING SUBSTRATE BY FEEDING MASK DEFECT DATA FORWARD FOR SUBSEQUENT CORRECTION例文帳に追加

後の修正のためにマスク欠陥データをフィードフォワードすることによって基板にパターンを形成する方法 - 特許庁

To provide a method of patterning a semiconductor film in manufacturing of a transistor array which is used in a display device.例文帳に追加

表示デバイスに使用するトランジスタアレイの製造における半導体膜のパターニングを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of patterning and fabricating poled dielectric microstructures in dielectric materials.例文帳に追加

誘電体材料に分極反転誘電体微小構造をパターン化し製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a patterning grinding sheet having pattern structure of an optional irregular pattern corresponding to its application.例文帳に追加

用途に応じた任意の凹凸模様のパターン構造を有する研磨シートの製造方法の提供。 - 特許庁

To enable formation of a desired pattern regardless of a density of the pattern when a double patterning method is used.例文帳に追加

ダブルパターニング法を用いる場合にパターンの疎密に拘わらず、所望のパターンを形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern, patterning a resin layer on a plastic base material with good accuracy.例文帳に追加

プラスチック基材上に、樹脂層を精度良くパターニングすることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a self-aligned spacer multiple patterning method which permits the formation of a high-density resist pattern.例文帳に追加

高密度レジストパターンの形成を可能にする、自己整合型スペーサー多重パターニング方法を提供する。 - 特許庁

CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PATTERNING AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

架橋剤、ネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

To provide a patterning method for reducing imperfect patterns of a semiconductor device due to contamination.例文帳に追加

本発明は、異物による半導体装置のパターン不良を低減するためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁