「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for accurately patterning microcapsules on a substrate without complicating processes in a method for manufacturing an electrophoretic display device.例文帳に追加

電気泳動表示装置の製造方法において、工程の複雑化を招くことなくマイクロカプセルを基板上に正確にパターニングするための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can decrease the number of patterning processes and reduce the manufacture cost, in a manufacturing method for an array substrate used for reflection type flat display.例文帳に追加

反射型平面表示装置に用いるアレイ基板の製造方法において、パターニング工程数及び製造コストを低減できるものを提供する。 - 特許庁

To provide a mask that has reduced warp and high positional accuracy of patterning and a method for producing the mask, and a mask blanks that has a reduced warp and a method for producing the blanks.例文帳に追加

反りが低減されたパターン位置精度の高いマスクおよびその製造方法と、反りが低減されたマスクブランクスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of a substrate is a method comprises a patterning process wherein a semiconductor substrate 1 on an insulating layer 4 formed with a recessed part 7 is polished and the substrate 1 is left only in the recessed part 7.例文帳に追加

凹部７が形成された絶縁層４上の半導体基板１を研磨し、凹部７内にのみ半導体基板１を残すパターニング工程を行う。 - 特許庁

To provide a mask for exposure that is suitable for highly integrated device pattern, a mask set for exposure, a method of manufacturing mask for exposure, and a film patterning method.例文帳に追加

高集積化されたデバイスパターンに適した露光用マスク、露光用マスクセット、露光用マスクの製造方法、及び膜のパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning thin-film forming method capable of removing a resist mask reliably without generating so-called burr or the like, and to provide a manufacturing method of a microdevice.例文帳に追加

いわゆる「バリ」等を生じることなく、レジストマスクを確実に除去し得るパターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNING MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE OR PATTERNED RESIN MATERIAL, AND PATTERING MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE OR PATTERNED RESIN MATERIAL MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

人造大理石又は柄入り樹脂材料用柄材の製造方法及びこの製造方法により製造した人造大理石又は柄入り樹脂材料用柄材 - 特許庁

To provide a method of nano-patterning using surface plasmon, a method of manufacturing a master for nano-imprint and a discrete track magnetic recording medium using the same.例文帳に追加

表面プラズモンを利用したナノパターニング方法、これを利用したナノインプリント用マスター及び離散トラック磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EL element and its manufacturing method eliminating the need for a partition wall or the like for enabling a high-accuracy patterning as when patterning a luminous layer with the use of a discharge method such as an ink-jet method, with little soil on a substrate or the like.例文帳に追加

本発明は、インクジェット法等の吐出法を用いて発光層をパターニングする際、高精度なパターニングを可能とするために設けられる隔壁等を不要とし、かつ基板等の汚損の少ないＥＬ素子およびその製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a processing method for patterning a thin film capable of providing a substrate which is less thermally damaged and has high quality at the patterning of the substrate constituted with the thin film of a thickness several μm or below on the substrate.例文帳に追加

基板上に厚さ数μｍ以下の薄膜が構成された基板に対してパターニングを行う際、熱ダメージが少なく品質の高い基板を提供することが可能な薄膜パターニング加工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a patterning method for forming a predetermined resist pattern uniformly and stably even on a substrate having a hydrophobic surface because of immersion exposure, and to provide a patterning device for use therein.例文帳に追加

液浸露光のために基板表面が疎水性である基板であっても、所定のレジストパターンを均一に安定して形成することができるパターン形成方法およびそれに用いられるパターン形成装置を提供すること。 - 特許庁

An organic EL material, which has been considered impossible to make patterning, is formed and arranged by an ink-jet method to enable arbitrarily patterning an organic luminescent layer having red, green and blue luminous colors on each pixel.例文帳に追加

従来、パターニングができないとされた有機ＥＬ材料をインクジェット方式により形成および配列することで、赤、緑、青の発光色を備える有機発光層を画素毎に任意にパターニングすることが可能となった。 - 特許庁

In the manufacturing method of the optical element with a plurality of metal wire grids provided on a substrate, the metal wire grids are manufactured according to an LSP (Liquid Self-patterning Process).例文帳に追加

本発明は、基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを、ＬＳＰ(Liquid Self-patterning Process)で作製することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for directing a radiation beam to illuminate a patterning array in a direction other than a vertical direction of individually controllable elements used for patterning the radiation beam.例文帳に追加

放射線ビームをパターン化するために使用する個々に制御可能な素子のパターニング・アレイを垂直でない方向に照明するため放射線ビームを向けるのに使用するシステムおよび方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film which does not erode a supplemental electrode when patterning, disusing a complicated patterning process like photolithographic etching, and a manufacturing method of the same, and to provide an electroluminescent element using the same.例文帳に追加

フォトリソ・エッチングなどの複雑なパターニング工程が不要であり、また、パターニング時に補助電極を侵食しない透明導電性フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

The method aims to produce a mask blank having a thin film for patterning on a light-transmitting substrate, and the method includes: a step of forming a thin film for patterning comprising a material containing a transition metal and silicon on the light-transmitting substrate; and a step of subjecting the thin film for patterning to a flame treatment.例文帳に追加

透光性基板上にパターン形成用薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、前記透光性基板上に、遷移金属及びケイ素を含有する材料からなる前記パターン形成用薄膜を成膜する工程と、前記パターン形成用薄膜を火炎処理する工程と、を備えることを特徴とするマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method of reducing a part which is not etched when an etching film is formed into an extremely fine pattern by patterning through wet etching.例文帳に追加

ウェットエッチングを用いてエッチング被膜を微細なパターンにパターニングする際に、エッチング残りを低減する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a more inexpensive EL element wherein a patterning of a large area is enabled and a manufacturing method of a high productivity is obtained.例文帳に追加

大面積のパターニングを可能にし、且つ、生産性の高い製造方法とすることで、より安価なＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a fifth step of patterning by etching an Si wafer 1 using the SiO_2 layers 3 after the fourth step as a mask.例文帳に追加

さらに、第４工程後のＳｉＯ_2層３をマスクにして、Ｓｉウエハ１をエッチングしてパターニングする第５工程を備えている。 - 特許庁

To provide a method for producing a resist pattern for forming a preferable pattern by a double-patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニング法により良好なパターンを形成することができるレジストパターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a short-period construction method for a building, wherein no dispersion occurs in patterning finishing surfaces.例文帳に追加

短期間で、かつ、仕上げ面の模様付け等の品質にばらつきが生じることのない建築物の施工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new patterning method enabling scalable nano arrangement-wiring freely and easily.例文帳に追加

自由自在に、容易に、かつスケーラブルなナノ配列・配線を可能とする新規なパターニング方法を提供することを課題としている。 - 特許庁

The method for manufacturing the array substrate comprises the step of patterning the three-layer metal film 5 at stages of just etching by wet etching using a mixed acid (first etching).例文帳に追加

まず、混酸を用いるウェットエッチングによりジャストエッチングの段階まで三層金属膜５をパターニングする（第１のエッチング）。 - 特許庁

To provide a dry etching method that forms a fine pattern, provides a high etching selection ratio, and allows patterning at a high aspect ratio.例文帳に追加

微細パターンに形成でき、エッチング選択比が高く、かつ高いアスペクト比でパターニングできるドライエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a rubber hose, capable of restraining reduction in patterning performance of a steel wire for forming a reinforcing layer.例文帳に追加

補強層を形成するスチールワイヤの型付け性の低下を抑制することができるゴムホースの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method in which alignment between layers is performed precisely when a pattern is formed using imprint lithography.例文帳に追加

インプリントリソグラフィを用いてパターン形成する際のレイヤ間の位置合わせを精度良く行なうパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The method also comprises the step of patterning a second resist 2, so as to expose a part which becomes the corner mirror of the polygonal semiconductor ring laser in Fig. (c).例文帳に追加

（ｃ）において、多角形半導体リングレーザのコーナーミラーとなる部分が露出するように、第二のレジスト２をパターニングする。 - 特許庁

To provide a method for patterning characteristics of a minute size in a quick and highly parallel manner, using a solution-type organic semiconductor.例文帳に追加

溶液系有機半導体を用いて迅速で高い平行様式で微細なサイズの特徴をパターニングする方法を提供する。 - 特許庁

The method also includes a step of patterning this polyimide resin film 34, and thereby forming a second opening 35 on the first opening 33.例文帳に追加

そして、このポリイミド樹脂膜３４をパターニングすることにより、第１開口部３３上に第２開口部３５を形成する。 - 特許庁

To provide a method for the patterning of the functional material on a substrate simply and cheaply, and a sheet for a pattern formation.例文帳に追加

簡単で安価に基材上の機能材料をパターニングするための方法、およびパターン形成用シートを提供すること。 - 特許庁

To improve reliability in the patterning process of a negative resist layer and a wiring layer, in the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、ネガレジスト層及び配線層のパターニング工程における信頼性の向上を図る。 - 特許庁

To narrow core width of a magnetic head in a manufacturing method of a magnetic head having a patterning process of a magnetic film.例文帳に追加

磁性膜のパターニング工程を有する磁気ヘッドの製造方法について、磁気ヘッドのコア幅を狭くすることを課題とする。 - 特許庁

To provide a self-alignment patterning method that can be used to manufacture a plurality of thin film transistors on a substrate.例文帳に追加

本発明は、基板上に複数の薄膜トランジスタを製造するために用いることができる自己整合パターニング方法に関する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method using double patterning capable of obtaining a fine pattern having a good shape.例文帳に追加

良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

LASER APPARATUS FOR PATTERNING AT LIGHT GUIDE PLATE OF BACK LIGHT UNIT AND METHOD FOR FORMING PATTERN AT LIGHT GUIDE PLATE OF BACK LIGHT UNIT USING THEREOF例文帳に追加

バックライトユニット用導光板パターン形成レーザ装置、及びこれを用いたバックライトユニット用導光板パターンの形成方法 - 特許庁

The method includes a step of patterning the buffer film 3 by dry etching performed by the use of an etching gas containing oxygen.例文帳に追加

本製造方法は、バッファ膜３を酸素含有エッチングガスによりドライエッチングしてバッファ膜パターンを形成する工程を含む。 - 特許庁

PATTERNING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER, ETCHING PASTE, PATTERN TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND FLEXIBLE FUNCTIONAL ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

透明導電層のパターニング方法とエッチングペースト、及びパターン透明導電フィルム並びにそれを用いたフレキシブル機能性素子 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of accurately patterning nickel silicide, and also to provide the semiconductor device.例文帳に追加

ニッケルシリサイドのパターニングを精度よく行なうことのできる半導体装置の製造方法と半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for decomposing a target pattern to be printed on a wafer into multiple patterns upon using double patterning techniques.例文帳に追加

ダブルパターニングを使用する際に、ウェーハに印刷されるターゲットパターンを複数のパターンに分解するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical patterning device and its method that improves luminance and phase modulation characteristics of an individually controllable element array.例文帳に追加

個々に制御可能な素子アレイの輝度および位相変調特性を改善する光パターン形成装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a line patterning method to perform line working with a liner laser beam emitted from a LD bar alley.例文帳に追加

ＬＤバーアレイから出射されるライン状のレーザー光によって均質にライン加工するラインパターンニング方法を提供する。 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOSITION, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE LAYER, PERMANENT PATTERN, WAFER LEVEL LENS, SOLID STATE IMAGING ELEMENT AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 - 特許庁

A patterning method is disclosed which includes steps of forming a resist film from the above negative resist composition and exposing and developing.例文帳に追加

また、これらのネガ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、露光、現像工程を含むパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, having a rare metal layer which reduces the problems in patterning and in annealing in hydrogen.例文帳に追加

パターニング、水素中アニーリングにおける問題を低減したレアメタル層を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁