「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a nanowire arrangement substrate simple and excellent in patterning property by improving joining force of a nanowire to a substrate.例文帳に追加

基板に対するナノワイヤの結合力を向上させることができ、簡便でパターンニング性に優れたナノワイヤ配列基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element capable of simultaneously improving patterning performance and a light emitting characteristic in the EL element using a photocatalyst.例文帳に追加

光触媒を用いたＥＬ素子であって、パターニング性の向上と発光特性の向上を同時に実現できるＥＬ素子の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a beam shaping method which offers high energy efficiency in the electrode patterning process of a tin oxide film by a laser beam shaped into a rectangular cross section.例文帳に追加

断面矩形に整形したレーザービームによる酸化錫膜の電極パターン加工において、エネルギ利用効率の高いビーム整形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and method for patterning a master disk with the required feature size that does not rely on conventional photolithography or electron-beam lithography.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィあるいは電子線リソグラフィに依存しない、所要のフィーチャー・サイズのマスタ・ディスクをパターン化するためシステム及び方法が必要とされている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic TFT element in which the substantial patterning of organic semiconductor channels can be performed very conveniently and which is stabilized in performance.例文帳に追加

非常に簡便で実質的な有機半導体チャネルのパターニングが可能で、性能が安定な有機ＴＦＴ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a thin film transistor array board, which enables the execution of a patterning process without employing a photo process.例文帳に追加

本発明の目的はフォト工程を使わなくてもパターニング工程を遂行することができる薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a pattering method of an organic EL semiconductor element in which a production process cost for an organic EL semiconductor element is reduced and a highest possible flexibility in a patterning is secured as well.例文帳に追加

有機ＥＬ半導体素子の製造プロセスに係るコストを低減し、同時にパターニングにおいてできるだけ高いフレキシビリティを保証する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing nano-structure capable of simply patterning pores in a porous coat for a large area to a workpiece with less mechanical strength.例文帳に追加

機械的強度が強くない被加工物に対して、ポーラス皮膜の細孔を大面積にわたり簡易にパターニングするナノ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring patterning method in which a coating pattern can be efficiently formed in a place where a pattern of a conductive part is exposed.例文帳に追加

導電部分のパターンが露出している箇所について、被覆パターンの生成を効率的に行えるプリント配線パターン生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method and an etching process device which obtain a patterning shape which is more uniform and does not have variations due to locations on a substrate.例文帳に追加

基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。 - 特許庁

To provide a material for an organic electroluminescence(EL) element, capable of enabling fine patterning, and further to provide a method for producing the material and the organic EL element by using them.例文帳に追加

微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed circuit board, that can manufacture the printed circuit board with improved patterning accuracy of a conductor pattern which is formed on an insulation substrate.例文帳に追加

絶縁基板上に形成する導体パターンのパターニング精度の良いプリント基板を製造することのできるプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce fluctuation of a gap, mainly in a sealing portion of each panel obtained by a multi-panel patterning method and to reduce cost by improving display quality and yield.例文帳に追加

複数個取りで得られる個々のパネルの主にシール部の間隙バラツキを小さくし表示品質の向上と歩留まりの向上によるコストダウンの効果を得る。 - 特許庁

To provide a lithographic device using a programmable patterning means where an effective NA is big in a substrate plane and a manufacturing method of the device.例文帳に追加

基板平面における有効ＮＡの大きいプログラム可能パターニング手段を使用したリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a highly heat-resistant copper clad laminated sheet, which uses an extremely thin copper foil, having no flaw or wrinkles and suitably used for fine patterning.例文帳に追加

傷・シワなどがなく、ファインパターン化に好適に用いられる極薄銅箔を用いた高耐熱性の銅張積層板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone mask for utilizing single photoresist in patterning of a light shielding layer and a semi-light transmitting layer without requiring ashing treatment.例文帳に追加

アッシング処理を要することなく単一のフォトレジストを遮光層及び半透光層のパターニングに利用するハーフトーンマスクの製造方法を提供すること - 特許庁

To form a circuit with a patterning method using the electromagnetic wave such as laser at the internal surface of a base material in the three-dimensional shape having the surfaces opposed with each other.例文帳に追加

対向面を有する立体形状の基材の内面に、レーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成ができるようにする。 - 特許庁

To solve problems that an optical waveguide is very expensive because core patterning by plural times of thin film laminations and semiconductor processes is performed and also constitution and a manufacturing method for a new optical waveguide preparing both economical efficiency and performance are indispensable for a spread of optical communication.例文帳に追加

現状、光導波路は複数回の薄膜積層と半導体プロセスのよるコアパターニングが行われており非常に高コストである。 - 特許庁

To provide a probe card that can deal with fine patterning of a semiconductor integrated circuit and an anisotropic conductive film manufacturing method used for the same.例文帳に追加

半導体集積回路の微細化に対応することができる、プローブカード及びそれに用いられる異方性導電シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck system and method that minimize effects of manufacturing and operational deformations in a chuck, a patterning device, and/or a substrate.例文帳に追加

チャック、パターニングデバイスおよび／または基板における製造の影響および操作上の変形を最小限にする静電チャックシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

ONIUM SALT COMPOUND, POLYMER COMPOUND COMPRISING THE SALT COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION COMPRISING THE POLYMER COMPOUND, AND METHOD FOR PATTERNING USING THE COMPOSITION例文帳に追加

オニウム塩化合物、それを含む高分子化合物、前記高分子化合物を含む化学増幅型レジスト組成物、および前記組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a coating structure for vehicle having an antenna pattern exhibiting enhance gain, and to provide a vehicle mounted antenna and an antenna patterning method for vehicle.例文帳に追加

利得が向上されたアンテナパターンを有する車両用塗膜構造、車載アンテナ及び車両用アンテナパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an inkjet recording apparatus which forms electric wires or electrodes surely and efficiently by patterning treatment with laser beams.例文帳に追加

レーザーのパターニング処理により確実にかつ効率よく電気配線又は電極を形成するインクジェット記録装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning a transparent container capable of putting a pattern or a letter at an optional position when molding the container at a low cost and a mold therefor.例文帳に追加

容器成形時にも任意の位置に模様又は文字を入れることが可能な安価な透明容器の模様入れ方法法及び金型を提供する。 - 特許庁

To form a circuit with a patterning method using the electromagnetic wave such as laser at the internal surface of an insulating base material in the three-dimensional shape such as a cylindrical shape.例文帳に追加

筒形などの立体形状の絶縁基材の内面に、レーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成ができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic EL panel which can reduce the deterioration factor of light emitting characteristics and enables the efficient highly precise patterning of a pixel.例文帳に追加

発光特性の劣化要因を軽減すると共に、高精細な画素の効率的なパターニングを可能とする有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL element, capable of patterning an organic luminescent layer without using a resist, and to provide the organic EL element and an organic EL display device.例文帳に追加

レジストを使用せずに有機発光層をパターニングできる有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子、及び有機ＥＬ表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin-film patterning method for obtaining narrower isolated trench width, without having to depend on the formation technique of a resist pattern, manufacturing method of a thin-film device, and to provide a manufacturing method of a thin-film magnetic head.例文帳に追加

レジストパターンの形成技術に依存することなく、より狭い孤立トレンチ幅を得ることができる薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser radiating device capable of transferring an organic film layer pattern when forming it by using LITI (laser induced thermal imaging), capable of reducing damage to the organic film layer, and capable of enhancing the quality of the transferred organic film layer pattern, a patterning method, and a manufacturing method of an electroluminescent element using the patterning method.例文帳に追加

本発明は，ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成する時，低い強度を有するレーザーで転写が可能であって，有機膜層の損傷を減らすことができ，転写される有機膜層パターンの質も向上させることができるレーザー照射装置，パターニング方法，およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonlinear element manufacturing method which can perform a patterning finer than resolution of an exposure apparatus used in formation of a resist mask, and which is free from contaminating a film pattern obtained by patterning due to the resist; and to provide an electro-optical device.例文帳に追加

レジストマスクを形成する際に用いる露光装置の解像度によりも微細なパターニングを行うことができ、かつ、パターニングにより得た薄膜パターンがレジストによって汚染されることのない非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method by which, even when patterning with a second resist composition is performed without using a freezing material in the formation of a resist pattern by double patterning, a fine resist pattern can be formed while retaining the good shape of a first resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

In the liquid crystal display device and the method for fabricating the liquid crystal display device, the number of mask further can be reduced by forming an active pattern and a storage electrode with a single mask process and also by patterning a pixel electrode, too simultaneously upon the patterning of a gate line.例文帳に追加

アクティブパターンとストレージ電極を１回のマスク工程で形成することによって、また、ゲート配線のパターニング時に画素電極をも同時にパターニングすることによって、マスク数をさらに減少させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for marking a lens includes: a patterning process for forming a layout pattern having machining information of the lens 1 on an ink receiving board 41 with a planar surface; and a transfer process for transferring the layout pattern formed by the patterning process to the surface of the lens 1.例文帳に追加

表面が平面状のインク受板４１にレンズ１の加工情報を有するレイアウトパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程で形成された前記レイアウトパターンを前記レンズ１の表面に転写する転写工程と、を有するレンズのマーキング方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a silicon substrate or the like, which can perform patterning without using resist, patterning of a reserver or of the taking-out port of an electrode without using the resist after the formation of nozzle communication holes in particular to prevent resist protection failures in the nozzle communication hole portion.例文帳に追加

レジストレスでパターニングを行うことができる、特にノズル連通孔の形成後に、レジストレスでリザーバ及び電極取り出し口のパターニングが可能となり、ノズル連通孔部のレジスト保護不良を防止することができるシリコン基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method hardly being influenced by an error even when the error exists in the real moving distance of a stage for scanning a photomask with respect to a set moving distance, and for performing patterning by using the smaller number of photomasks, and to provide an exposure device for the same.例文帳に追加

フォトマスクを走査するステージが、設定移動量に対して実移動量が誤差を保有していても、その誤差の影響を受けにくく、かつより少ない枚数のフォトマスクで対応可能なパターンニング手法およびそのための露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device capable of executing complete patterning by preventing the remainder of polyimide due to deficient exposure at thick parts of a positive photosensitive polyimide film and occurrence of pattern disturbance due to over-exposure at thin parts in the patterning of the positive photosensitive polyimide film whose thickness is ununiform.例文帳に追加

厚みの異なるポジ型感光性ポリイミド膜のパターニングにおいて、厚い箇所での露光不足によるポリイミド残りと浅い箇所での過露光によるパターン乱れを防止して、完全なパターニングができる半導体装置の製造方法を提供すること - 特許庁

To provide a method for forming simply and conveniently a first wiring pattern including patterns of less than resolution limit in a first wiring pattern formation region and a second wiring pattern comprised of usual patterns of more than or equal to resolution limit in a second wiring pattern formation region, by using an SADP method (Self Align Double Patterning) through two-time lithography steps is used to form.例文帳に追加

２回のリソグラフィ工程によるＳＡＤＰ法（Self Align Double Patterning）を用いて、第１配線パターン形成領域には解像限界未満のパターンを含む第１配線パターンを形成し、第２配線パターン形成領域には解像限界以上の通常パターンからなる第２配線パターンを簡便に形成する方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a convenient patterning method employing a metal mask and a method for forming a pattern connected with a large number of circuit units on the surface and rear of a substrate with high connection reliability, in which different patterning can be realized at the electrode part and the wiring part on the circuit board by physical deposition without changing a metal mask set once.例文帳に追加

金属マスクを用いる簡易なパターニング方法で、基板の表裏両面に多数個の回路ユニットが連結されたパターンを接続信頼性のある方法で、且つ、回路基板上の電極部位と、配線部位とでそれぞれ異なるパターニングを、一度セットした金属マスクを交換することなく、物理蒸着にて実現する。 - 特許庁

A display accumulation device volume label character method includes the activation of the accumulation device; detection of whether patterning volume label information is to be downloaded; the inspection of the type of the patterning volume label information; determination on whether the character is the one by a volume label; checking whether the character code of the volume label agrees; and the display of the patterning information of the volume label.例文帳に追加

本発明は、表示蓄積装置ボリュームラベル文字の方法であり、蓄積装置を起動することと、パターン化ボリュームラベル情報をダウンロードするか検知することと、当該パターン化ボリュームラベル情報の種類を検査することと、ボリュームラベルによる文字か判断することと、当該ボリュームラベルの文字コードが符合するかチェックすることと、当該ボリュームラベルのパターン化情報を表示することとを含む。 - 特許庁

To provide a patterning precision measuring method which can grasp the positioning precision between laminated patterns and the dimensional precision of each pattern, a method for forming a pattern, a method for forming a TFT, a method for manufacturing a semiconductor device, an electrooptical device and an electronic apparatus.例文帳に追加

積層パターン間での位置合わせ精度、各パターンの寸法精度を把握できるパターニング精度測定方法、パターンの形成方法、ＴＦＴの形成方、半導体装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING INTERACTION BETWEEN BIOMATERIAL AND SUGAR CHAIN, METHOD OF EVALUATING BIOMATERIAL IN SUGAR CHAIN SELECTIVITY, METHOD OF SCREENING BIOMATERIAL, METHOD OF PATTERNING BIOMATERIALS, AND KITS FOR PERFORMING THESE METHODS例文帳に追加

生体関連物質と糖鎖との相互作用の測定方法、生体関連物質の糖鎖選択性の評価方法、生体関連物質のスクリーニング方法、および生体関連物質のパターニング方法、並びにこれらの方法を実施するためのキット - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING NANO CARBON AND NANO CARBON MANUFACTURED BY THE METHOD, DEVICE FOR MANUFACTURING NANO CARBON, METHOD OF PATTERNING NANO CARBON AND NANO CARBON BASE MATERIAL PATTERNED BY USE OF THE METHOD AND ELECTRON EMISSION SOURCE USING THE PATTERNED NANO CARBON BASE MATERIAL例文帳に追加

ナノカーボンの製造方法及びその方法を用いて製造されたナノカーボン、ナノカーボンの製造装置、ナノカーボンのパターン化方法及びその方法を用いてパターン化されたナノカーボン基材及びそのパターン化されたナノカーボン基材を用いた電子放出源 - 特許庁

This method of manufacturing the electrooptical device includes a resist coating process of applying resist (202) onto the substrate (10), a patterning process of patterning the applied resist into a predetermined shape, and a cleaning process of cleaning the substrate having the patterned resist (202a) using cleaning liquid.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、基板（１０）上にレジスト（２０２）を塗布するレジスト塗布工程と、塗布されたレジストを所定形状にパターニングするパターニング工程と、パターニングされたレジスト（２０２ａ）を有する基板を、洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of a multilayer wiring substrate comprises a bump forming process of forming bumps for interlayer connection on a substrate, an insulating layer formation process of forming an insulating layer on the substrate, wherein the bumps are formed, a thermocompression bonding process for bonding copper foil by thermocompression on an insulating layer, and a patterning process of patterning copper foil.例文帳に追加

基材上に層間接続のためのバンプを形成するバンプ形成工程と、バンプが形成された基材上に絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、絶縁層上に銅箔を熱圧着する熱圧着工程と、銅箔をパターニングするパターニング工程とを有する。 - 特許庁