「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the occurrence of patterning defect such as disconnection due to light reflection and collection caused by a reflection layer formed below a transparent conductive film when patterning of the transparent conductive film is performed by a photolithography method, in a reflective liquid crystal display element.例文帳に追加

反射型液晶表示素子において、フォトリソ法により透明導電膜をパターニングする際、透明導電膜の下方に形成された反射層により光が反射集光して断線等のパターニング不良が発生することを防止する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming resist patterns without using a photolithography step and to provide a method of fabricating a liquid crystal display element capable of simplifying a patterning step.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程を使用せずに、レジストパターンを形成し得るパターン形成装備を提供し、且つ、パターニング工程を単純化し得る液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the field emission element, an emitter 50a is formed by a lift-off method and a separation layer 70 for preventing reaction is formed between a sacrifice layer 60 for emitter patterning and an emitter substance.例文帳に追加

リフトオフ法によってエミッタ５０ａを形成し、エミッタパターニングのための犠牲層６０と、エミッタ物質との間にこれらの間の反応を防止する隔離層７０とを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element to make a patterning of an organic EL layer using a photolithography method, having no defect and having a high safety and reliability.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法を用いて有機ＥＬ層をパターニングする有機ＥＬ素子の製造方法であって、欠陥がなく、安定性、信頼性の高い有機EL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for quickly and inexpensively manufacturing a large-area organic thin film patterned finely and regularly in comparison with that manufactured by a conventional method in patterning of the organic thin film.例文帳に追加

有機物薄膜のパターン化において、従来の方法に比較し、微細かつ規則的にパターン化された有機薄膜を大面積、迅速、且つ安価に製造可能する手法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for film formation, which can simply form a film through the utilization of a chemical species such as a reactively active species, and to provide a method for patterning.例文帳に追加

本発明は、反応活性種等の化学種を利用することにより、簡便に膜を形成することができる製膜方法、あるいはパターニング方法を提供することを目的の一つとする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor includes at least a step for forming a coat, a step of patterning, a step for forming interconnection and a step of reduction using the metal reducing method.例文帳に追加

本発明の半導体の製造方法は、被膜形成工程と、パターニング工程と、配線形成工程と、本発明の金属の還元方法を用いた還元工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

To provide a patterning method for a multi-layered resist film and a manufacturing method for a semiconductor device that can improve reliability of the semiconductor device and shorten an etching stage.例文帳に追加

半導体装置の信頼性を向上させるとともに、エッチング工程を短縮化することが可能な、多層レジスト膜のパターニング方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cross-linkable polymer which can be developed with an aqueous developer and has good patterning properties; its production method; a photosensitive composition and a method for forming patterns.例文帳に追加

水性現像液で現像可能であり、良好なパターニング性を有する、架橋性高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask pattern having a fine pattern equal to or below the optical limit of an exposer or the like and to provide a method for making thin film patterning fine with the mask pattern.例文帳に追加

露光器などの光学的限界以下の狭小なパターンを有するマスクパターンを作製する方法を提供し、もって薄膜パターニングを狭小化する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a mask pattern, which prevents pattern collapse of the mask pattern by omitting an etching process of an antireflection film when forming the mask pattern by a Side Wall Patterning (SWP) method.例文帳に追加

ＳＷＰによりマスクパターンを形成する場合に、反射防止膜のエッチング工程を省略し、マスクパターンのパターン倒れを防止することができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display device, capable of surely carrying out patterning on a comparatively large area with the use of a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

本発明の目的は、凸版反転印刷法を用いて、比較的大きな面積のパターニングを確実に行うことが可能な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To establish a method for patterning a protein supermolecule appropriately on a silicon substrate, and to provide a new semiconductor device employing protein by that method.例文帳に追加

従来確立していなかったタンパク質超分子をシリコン基板上で適切にパターニングする方法を確立し、当該方法によるタンパク質を用いた半導体新規デバイスを提供する。 - 特許庁

To satisfy both patterning accuracy and light shielding performance in using a hard mask and a light shielding band light shielding film in common relating to a method of manufacturing a halftone phase shift mask and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法に関し、ハードマスクと遮光帯遮光膜を兼用する場合に、パターニング精度と遮光性を両立する。 - 特許庁

In executing the method of manufacturing of the phase change memory, a wafer is wet-cleaned using a cleaning liquid such as water or a chemical after patterning the phase change layer.例文帳に追加

相変化メモリを製造する方法を実施する際に、相変化層をパターニングした後にウェハを水や薬液などの洗浄液でウェット洗浄する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color conversion filter enabling a precise patterning while simplifying the manufacturing process, and a color filter with color converting function.例文帳に追加

製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とする色変換フィルタの製造方法、ならびに色変換機能付カラーフィルタの提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for enabling a double patterning process in which a substrate is processed by one-time dry etching, and a resist material used therefor.例文帳に追加

１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a conveyance method of a film with a pattern, enabling high-definition patterning and highly-accurate lamination at a delivery destination after conveying to the delivery destination, etc.例文帳に追加

納入先等に搬送後、納入先にて高精細なパターニング加工や高精度な貼合が可能なパターン付フィルムの搬送方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for nano-patterning by incorporating one or more block copolymers and one or more nano-imprinting steps in a fabrication process.例文帳に追加

１つ以上のブロック共重合体および１つ以上のナノインプリントステップを製造プロセスに組込むことによってナノパターン化するための方法を提供する。 - 特許庁

The organic layers 18a, 18b, 18c are produced by a light irradiating dry etching method whereby an organic substance layer 12 is irradiated with light so that patterning is made.例文帳に追加

有機層１８ａ、１８ｂ、１８ｃを、有機材料層１２に光を照射してこれをパターニングする光照射ドライエッチング法によって形成する。 - 特許庁

To provide a simple method where cost effect for patterning a mutual connection structure, in which the material subjected to spin-on is used as a hard mask, is high.例文帳に追加

スピンオンされた材料がハード・マスクとして使用される相互接続構造をパターン化するコスト効果が高くかつ簡単な方法を提供すること。 - 特許庁

At least one of the solutions 210 and 230 is applied by an actively-controlled patterning or blanketing method.例文帳に追加

前記陽イオン溶液２１０と前記陰イオン溶液２３０のうちの少なくとも一方は、能動的に制御されたパターニング方式又はブランケット方式にて適用される。 - 特許庁

According to the manufacturing method, without using an expensive patterning device and an etching device, less expensive and precise shadow mask is available.例文帳に追加

本発明によるシャドウマスクの製造方法によれば、高価なパタニング装置やエッチング装置を使用しなくても、安値で精密なシャドウマスクを生産できる。 - 特許庁

To provide a method or the like for manufacturing a semiconductor device which enables high precision patterning by using a resist pattern, whose wall surfaces are smoothened to reduce its roughness.例文帳に追加

壁面を平滑化しラフネスを低減したレジストパターンを用いて高精細なパターニングを可能とした半導体装置の製造方法等の提供。 - 特許庁

To provide a patterning method using a liquid material while using an inkjet system, which directly forms a wiring pattern of a complicated shape on a substrate at a low cost and on-demand.例文帳に追加

インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、複雑形状の配線パターンを低コスト、オンデマンドに基板に直描すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic light emitting element in which patterning of a water-soluble organic material can be carried out simply without deteriorating an element characteristic.例文帳に追加

素子特性を劣化させずに簡便に水溶性有機材料をパターニングすることができる有機発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THIS COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

The sensor part is formed by patterning a conductor layer, and the signal processing part is formed by providing a metal connecting layer on the conductor layer to be formed on the connecting layer by a flip chip method.例文帳に追加

センサ部は導体層をパターニングで形成し、信号処理部は導体層上に金の接続層を設け、接続層上にフリップチップ方法で形成する。 - 特許庁

To obtain a method and a device for manufacturing a photovoltaic device, performing fine laser patterning on an etching resistant film by means of a laser beam having a large focused spot size.例文帳に追加

集光スポットサイズの大きいレーザビームで耐エッチング膜に微細なレーザパターニングを行う光起電力装置の製造方法及び製造装置を得ること。 - 特許庁

A method for patterning a wafer using a phase shifting photolithography that can produce a critical symmetrical 2-dimensional structure such as a magnetic write pole of a magnetic write head.例文帳に追加

磁気書き込みヘッドの書き込み磁極等の重要な対称２次元構造を生産できる、位相シフト光リソグラフィを使用するウェハのパターニング方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a field emission element which can reduce the number of photomask patterning processes and can improve a manufacturing yield of the field emission element.例文帳に追加

フォトマスクパターニング工程数を減らし、電界放出素子の製造歩留まりを高めることのできる電界放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, a high overlay accuracy of a pattern can be achieved even when a pattern is formed on a wafer by utilizing a double patterning method.例文帳に追加

これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁

In the stencil mask manufacturing method, a plurality of thin films are laminated, and patterning is performed by etching processing for each of the thin films.例文帳に追加

本発明のステンシルマスク製造方法は、薄膜を複数積層し、それぞれの薄膜についてエッチング加工によるパターン形成を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display element of high productivity in which a patterning is easy and adhesive property of joint faces is improved.例文帳に追加

容易にパターンニングすることができ、接合面の接着性を改善すると同時に、生産性の良い有機ＥＬ表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing organic electroluminescence element which can protect an organic EL element against physical damage, and is capable of patterning a sealing film.例文帳に追加

有機ＥＬ素子を物理的な損傷から保護することができ、かつ、封止膜をパターニングすることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the ferroelectric memory device comprises the steps of laminating and patterning a conductive film on an interlayer insulating film having a contact plug, and forming a capacitor lower part electrode pattern.例文帳に追加

本発明よると、コンタクトプラグを有する層間絶縁膜上に導電膜を積層してパターニングしてキャパシタ下部電極パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an optical waveguide by which no white cloud occurs during the patterning of a core layer and an optical waveguide having small optical loss is manufactured as a result.例文帳に追加

コア層のパターニングの際に白濁が生じず、光損失の少ない光導波路を得ることのできる光導波路の製法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color filter having enhanced contact strength of a seal part at low cost without patterning a transparent protective layer nor transparent conductive film.例文帳に追加

透明保護層や透明導電膜をパターニングすることなく、シール部の密着強度を強くしたカラーフィルタを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring board capable of forming a plating film uniform in thickness with respect to a pattern to be plated by an electrolytic plating method.例文帳に追加

電解めっき法により被めっきパターンに厚みが均一なめっき膜を被着させることが可能な多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide an aromatic ring-containing polymer for a resist underlayer, a resist underlayer composition containing the polymer and a method for patterning a device.例文帳に追加

レジスト下層膜用芳香族環含有重合体、この重合体を含むレジスト下層膜組成物、および素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce dispersion of a pattern dimension and a pattern shape, and to improve superposition accuracy in manufacturing a semiconductor device using superposition on a lower layer or a double patterning method.例文帳に追加

パターン寸法やパターン形状ばらつきの低減や下層との重ね合わせやダブルパターニング法を用いた半導体デバイス製造時の重ね合わせ精度向上。 - 特許庁

To provide an inspection method for a photomask and an inspection apparatus for a photomask, for determining a defect of a photomask for double patterning and verifying a degree of influences by defects.例文帳に追加

ダブルパターニング用フォトマスクの欠陥判定及び欠陥影響度を検証するフォトマスクの検査方法及びフォトマスクの検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method of an organic film capable of preventing stitching unevenness occurring between widths of laser beams due to limit of beam sizes of a laser.例文帳に追加

レーザのビームサイズ（幅）の限界によるレーザビームの幅間に発生するステッチングむらを防止することができる有機膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

Thus, even when a pattern is formed on a wafer by using a double patterning method, it is possible to achieve the high overlay accuracy of the pattern.例文帳に追加

これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁

To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加

パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁