「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for easily forming microscopic patterns exceeding the limit of exposure in the patterning technique utilizing the photolithography method in the vacuum deep ultraviolet ray region.例文帳に追加

真空深紫外線領域でのフォトリソグラフィー手法によるパターニング技術において、露光限界を越えての微細なパターン描画を簡単に行う方法の確立が課題である。 - 特許庁

The resist pattern can be formed by any one of a method of patterning while providing a photosensitive resist layer and a method of screen printing the non-photosensitive paste for resist.例文帳に追加

レジストパターンは、感光性レジスト層を設けてパターニングを行う方法と非感光性のレジスト用ペーストをスクリーン印刷する方法のいずれも用いることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive layer in which the conductive layer can be formed selectively in a predetermined region without using an etching as a patterning method.例文帳に追加

パターニング方法としてエッチングを用いることなく、導電層を所定の領域に選択的に形成することができる導電層の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method for forming a resist pattern on a support by two or more patterning operations using a chemically-amplified resist composition, to reduce damage from the second patterning to the first resist pattern formed by the first patterning, and a resist composition useful for forming the first resist pattern in the resist pattern forming method.例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物を用い、パターニングを２回以上行って支持体上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、２回目のパターニングが、１回目のパターニングで形成した第一のレジストパターンに与えるダメージを低減できるレジストパターン形成方法、および該レジストパターン形成方法における第一のレジストパターン形成用として有用なレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a method for simultaneously realizing a patterning technique capable of forming a large area pattern at a low cost and a fine patterning technique capable of forming a small feature pattern as a method for forming a patterned thin film layer for IC that can be utilized in manufacture of a large area electronic device.例文帳に追加

大面積の電子装置の製造に利用できるパターニングされたIC用薄膜層の形成方法として、安価に大面積のパターンを形成できるパターニング技術と、小さな特徴パターンを形成できる微細パターニング技術と、を同時に実現する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine patterning method capable of forming a sparse pattern while suppressing deformation and "tilting" by improving various tolerances of etching, and the like, utilizing the curing effect of vacuum UV-rays, and to provide a fabrication process of semiconductor device employing the fine patterning method.例文帳に追加

真空紫外線によるキュア効果を利用してエッチングなどの各種の耐性を改善し、変形や「倒れ」などを抑制できる疎なパターンを形成可能とした微細パターン形成方法及びこの微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high product yield in which patterning process accuracy variations by a photolithography is reduced in a method of manufacturing a semiconductor device, in which, after HMDS processing is performed in a semiconductor substrate in the middle of manufacturing, a photoresist is formed on the semiconductor substrate and patterning processing is performed.例文帳に追加

製造途中にある半導体基板をＨＭＤＳ処理した後、半導体基板上にフォトレジストを形成してパターニング加工を施す半導体装置の製造方法であって、フォトリソグラフィによるパターニング加工精度ばらつきを低減した、製品歩留まりの高い製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprints that exhibits good patternability in transferring high-aspect patterns or repeatedly transferring patterns and, particularly, repeatedly transferring high-aspect patterns, to provide a patterning method using the same, and to provide a pattern obtained by the patterning method.例文帳に追加

高アスペクトパターンを転写する際、または繰り返しパターン転写を行う際、更には高アスペクトパターンを繰り返し転写する際に良好なパターン形成を有するインプリント用硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンの提供。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor that is high in mobility and can be manufactured stably, and to provide a method of manufacturing the transistor and a thin film transistor sheet on which thin film transistors are arranged two-dimensionally and which is reduced in cost by reducing the patterning step performed on the sheet and making substantial patterning possible by a simple method.例文帳に追加

移動度が高く、安定的な製造が可能なＴＦＴ及びその製造方法と、ＴＦＴを２次元的に配列したＴＦＴシートにおけるパターンニング工程を削減し、簡便な方法で実質的なパターンニングを可能とし、低コストのＴＦＴシートを提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning method of a conductive thin film, where resist and an etching liquid having a large environment load as in chemical etching are not used, damage is small and treatment time is short to a base and a conductive thin film having weak chemical resistance properties, in the plasma patterning method of the conductive thin film.例文帳に追加

導電性薄膜のプラズマパターニング方法において、ケミカルエッチングのように環境負荷の大きいレジストやエッチング液を使用せず、更に耐薬品性に弱い基材や導電性薄膜に対して、ダメージが少なく、処理時間の短い導電性薄膜のパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning method for a layer structure including a metal or metal silicide layer on a polycrystal silicon layer, by which method a doping material is distributed homogeneously across the entire deposit surface to improve a deposit film's surface property and adhesion to an adjacent layer, and patterning is made with high selectiveness and great homogeneity to form a straight etched side face across all etched layers.例文帳に追加

金属或いは金属シリサイド層を多結晶シリコン層の上に含む層構造のパターニング方法において、ドーピング物質が全析出面にわたって均質に分布され、その表面性質及び隣接の層との接着性ができるだけ良くなる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic electroluminescence display panel for which patterning of organic electroluminescence layers and negative electrodes can be implemented without short circuiting without deterioration and an organic electroluminescence device having a good device performance is obtained by solving varies problems in conventional patterning method.例文帳に追加

従来のパターニング方法における種々の問題点を解消して、ショートや劣化を引き起こすことなく有機ＥＬ層および陰極のパターニングを行うことができ、良好な素子性能を有する有機ＥＬ素子を得ることができる有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a soft mold and a manufacturing method therefor which prevent that resin becomes hydrophobic since area is reduced in surfaces of a PDMS (polydimethylsiloxane) mold where organic substances are transferred, and to provide a patterning method using the manufacturing method.例文帳に追加

ＰＤＭＳモールドの表面において有機物が転移される表面積を低減して、樹脂が疏水性となるのを防止できる、ソフトモールド及びその製造方法並びにパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.例文帳に追加

コア基板９ａの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン１９〜２２を形成する。 - 特許庁

To provide a method for patterning on the surface of a rock wool board which can be continuously produced with a novel surface appearance, capable of forming stripe-like grooves on a surface of the rock wool board and thereafter continuously forming a rugged pattern by a patterning roll having pins implanted to a stripe-like rugged part or a patterning roll having protruding parts.例文帳に追加

ロックウール基板の表面にストライプ状の凹溝を切削加工で形成し、その後でストライプ状の凹凸部にピンを植設した模様付けロールや突起部を有する模様付けロールで連続的に凹凸模様を形成することができる新規表面外観を有する連続的に生産可能なロックウールボードの表面模様付け方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for producing an ink-jet printhead comprises the steps of forming a first patterning layer 20 on the surface of a first substrate 10, forming a second patterning layer 28 on the surface of a second substrate 100, bringing the surface of the first layer into intimate contact with the surface of the second substrate to join them, and removing the second substrate 100 from the second patterning layer 28.例文帳に追加

インクジェットプリントヘッドを作製する方法は、第１基板１０の表面上に第１パターニング層２０を形成すること、第２基板１００の表面上に第２パターニング層２８を形成すること、第１および第２層を面と面を密着して接合させること、および、第２パターニング層２８から第２基板１００を除去することを含む。 - 特許庁

The method for forming the silicon carbide film 13 includes: a step for forming a silicon film 14 containing at least either amorphous silicon or polysilicon on a substrate 11, a patterning step for patterning the silicon film 14, and a step for applying carbonizing treatment to the silicon film 14 to form the silicon carbide film 13 after the patterning step.例文帳に追加

本発明の炭化シリコン膜１３の製造方法は、基板１１上にアモルファスシリコンとポリシリコンとの少なくとも一方を含むシリコン膜１４を形成する工程と、シリコン膜１４をパターニングするパターニング工程と、パターニング工程の後にシリコン膜１４を炭化処理し炭化シリコン膜１３を形成する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which prevents the corrosion of a metal wiring during an ITO (indium tin oxide) wet etching process and conducts in-plane uniform patterning of ITO.例文帳に追加

ＩＴＯウエットエッチング処理時の金属配線腐食を防止し、かつ面内均一なＩＴＯパターニングを行う製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a third film is formed to cover the patterned second film and the releasable film, and the third film is subjected to patterning by a lift-off method.例文帳に追加

次に、パターニング後の第２の膜および剥離膜を覆うように第３の膜が形成され、リフトオフ法によって第３の膜がパターニングされる。 - 特許庁

The patterning method comprised of such steps has a benefit that the pattern line width can be adjusted by adjusting the surface energy of the substrate.例文帳に追加

このように構成された本発明は、基板の表面エネルギーを調整してパターンの線幅を調整することができるという利点がある。 - 特許庁

The method further comprises the steps of patterning the polycrystalline silicon film and the high melting point metal silicide film or the like, and forming a gate electrode of a MOS transistor.例文帳に追加

そして、上記の多結晶シリコン膜と上記高融点金属シリサイド膜等とをパターニングしＭＯＳトランジスタのゲート電極を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor element, which embodies double patterning by utilizing a difference of solubility between a plurality of substance layers.例文帳に追加

複数の物質層間の溶解度差を利用してダブルパターニングを具現する半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an inexpensive and easy-to-fabricate semiconductor device having a low contact resistance and a method of fabrication which can deal with fine patterning of semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の微細化に対処しうる、製造が容易で安価な低コンタクト抵抗の半導体装置およびその製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a method of forming a drawing pattern, capable of using ink for forming the pattern only for image line parts, and capable of high-definition patterning.例文帳に追加

パターンを形成するためのインクを画線部分のみに使用し、かつ高精細なパターニングが可能な描画パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of adjusting a resistance value capable of adjusting a resistance value when stamping individual resistors from a multiple-patterning board.例文帳に追加

複数個取りの基板から、個々の抵抗器を打ち抜く際に抵抗値調整を行うことができる抵抗値調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which reduces time and effort required for design of a mask used for patterning an etching target layer.例文帳に追加

エッチング対象層をパターニングするためのマスクの設計にかかる手間を軽減することができる、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser patterning apparatus for processing a workpiece with high precision, and to provide a black matrix forming method using the same.例文帳に追加

被加工物に対して高精度に加工を行うことができるレーザパターニング装置及びこれを用いたブラックマトリクス形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method for patterning a semiconductor element, a fine pattern is formed according to a BLR (bi-layer resist) process using the negative resist composition.例文帳に追加

本発明の半導体素子のパターン形成方法では、ネガティブ型レジスト組成物を使用してＢＬＲ工程によって微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a material for an organic EL element and its manufacturing method, and the organic EL element using them, in which fine patterning is possible.例文帳に追加

微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a new method of manufacturing an optical waveguide structure, which eliminates the need of removing a remaining film of a resist layer used for core patterning.例文帳に追加

コアパターニングのために使用したレジスト層残膜を除去する必要がない新しい光導波路構造の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing multilayer circuit board which has a high adhesion of an electric insulation layer and a conductor layer and is superior in patterning formability.例文帳に追加

電気絶縁層と導電体層との密着性が高く、且つパターニング性に優れた多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent substrate having high reliability without discontinuity in lines or peeling in the patterning step of a transparent conductive film, and to provide a manufacturing method threfor.例文帳に追加

透明導電膜のパターン加工工程における断線・剥離のない信頼性の高い透明基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus and method that enable accurate positional measurement and/or movement of a large work piece during patterning of the work piece.例文帳に追加

パターン形成中に、大きい被加工物の正確な位置測定及び／又は移動を可能にするリソグラフィ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The method involves providing a mixture of carbon nanotubes that is substantially disaggregated and patterning carbon nanotubes through the use of electrostatic force.例文帳に追加

本方法は実質的に分離したカーボンナノチューブの混合物を用意すること及び静電気力でカーボンナノチューブをパターニングすることを含む。 - 特許庁

The method comprises the step of supplying a cleaning plasma for removing the coating material from the patterning device by means of a plasma etching process.例文帳に追加

この方法は、パターニングデバイスからコーティング材料をプラズマエッチング処理により除去するための洗浄プラズマを供給する工程を含む。 - 特許庁

To provide a self-align patterning method for forming patterns capable of forming fine pitch patterns by overcoming the resolution limit of a photolithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程での解像限界を克服し微細ピッチのパターンを実現可能なパターン形成のためのセルフアラインパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method using a contractile photoresist film in which a distance between pad electrodes can be set equal to a minimum necessary interval.例文帳に追加

収縮性フォトレジスト膜を使用した、パッド電極間の距離を最小必須間隔とすることの出来るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The patterning method on the semiconductor element may include a two-stage spacer formation step in order to provide ultra-fine line width and interval.例文帳に追加

半導体素子上のパターン形成方法は、微細ライン幅及び間隔を提供するために２段階のスペーサ形成工程を含むことができる。 - 特許庁

A dry etching method is to apply patterning to a stack including the element which does not form the volatile compound, using the conventional reactive-ion etching.例文帳に追加

本発明は、従来の反応性イオンエッチングを用いて、揮発性の化合物を形成しない元素を含むスタックをパターニングする方法に関する。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a process of forming an upper electrode layer 46 and a process of patterning the piezoelectric material layer 44 and an upper electrode layer 46.例文帳に追加

さらに、上部電極層４６を成膜する工程と、圧電体層４４および上部電極層４６をパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

A particular embodiment may be fabricated utilizing a sequential laminating, patterning, selective stripping and selective epitaxial deposition method.例文帳に追加

特定の実施形態は、順次の積層、パターン化、選択的な剥離、および選択的なエピタキシャル堆積法を利用して製作されることができる。 - 特許庁

To provide a material for an organic EL element, together with its manufacturing method, wherein fine patterning is allowed, as well as an organic EL element using them.例文帳に追加

微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method and a patterning roller used therefor capable of easily corresponding to architectural design efficiency of a diversified piece to be coated.例文帳に追加

多様化した被塗装物の意匠性を容易に対応することができる塗装方法及びそれに用いられる模様付けローラを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition with which a pattern having a favorable feature can be formed, and to provide a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

良好な形状のパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of an element contains a plurality of patterning processes patterning a layer structuring an element on a flexible board 10 as well as forming alignment marks 16, 26 simultaneously, and further, a process patterning another layer selecting an alignment mark formed in some process in the above plurality of patterning processes based on the selected alignment mark when another layer structuring the element is patterned.例文帳に追加

可撓性基板１０上に素子を構成する層をパターニングすると同時にアライメントマーク１６，２６を形成するパターニング工程を複数回含み、さらに、前記素子を構成する別の層をパターニングするときに、前記複数回のパターニング工程において形成したアライメントマークのうち、いずれかの工程で形成したアライメントマークを選択し、該選択したアライメントマークに基づいて前記別の層のパターニングを行う工程を含むことを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁