「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a transfer sheet which makes highly precise transfer possible without using the laser transferring method in the case patterning of an organic EL layer of EL element is carried out by the transferring method.例文帳に追加

本発明は、ＥＬ素子の有機ＥＬ層を転写法でパターニングする際に、レーザ転写法を用いることなく高精細な転写を可能とする転写シートを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The EL element manufacturing method comprises patterning at least one of organic EL layers constituting the EL element using a photolithographic method.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition device which can deposit a molybdenum layer suitably removable when performing patterning using a LASER scribe method, and a film deposition substrate manufacturing method and a film deposition substrate.例文帳に追加

ＬＡＳＥＲスクライブ法を用いてパターニングする際に、好適に除去できるモリブデン層を成膜可能な成膜装置、成膜基板製造方法、及び成膜基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a patterning method, a manufacturing method of an electro-optical device and the device, a manufacturing method of a semiconductor device and the device, and a manufacturing method of a piezoelectric driving element and the element, capable of improving productivity without degrading machining accuracy.例文帳に追加

加工精度を損なうことなく生産性を向上させることができるパターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer print patterning method capable of simply and accurately forming a print pattern such as a thin-film electrical circuit and the like on a large area substrate.例文帳に追加

大面積の基板上に高精度で薄膜電気回路等の印刷パターンを簡便に形成することができる転写式印刷パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for manufacturing display plate, permitting to carry out patterning of a thin film with efficiency and high accuracy without using a photo etching process.例文帳に追加

本発明は、写真エッチング工程を使用せずに効率的でかつ、高精度に薄膜をパターニングできる表示板の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus for carrying out patterning while suppressing unevenness in the resist film thickness in an edge region of a substrate, and to provide a deposition method.例文帳に追加

基板周縁部領域におけるレジスト膜厚の不均一を抑制して、良好なパターニングを行うことができる成膜装置、及び、その成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of liquid crystal display panel with which the productivity can be improved by excluding reattachment of an optical film in a manufacturing step according to a multiple patterning.例文帳に追加

多面取りによる製造工程において光学フィルムの貼り直しを排除して、生産性が向上する液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacture of such a semiconductor device, a window is formed in the column of the protective material by patterning the window with a photoetching method, using a mask material and removing the protective material by etching.例文帳に追加

すなわち、保護材料の柱部分の窓をあける時に、マスク材料を用いて、窓を写真食刻法でパターニングし、保護材料をエッチング除去して行う。 - 特許庁

To provide a precursor composition for resists having excellent liquid film-formation ability and pattern formation ability suitable for photo-nanoinprint and a method for micro-patterning using the composition.例文帳に追加

光ナノインプリントに適した液膜形成能、およびパターン形成能のすぐれたレジスト前駆体組成物ならびにこれを用いた微細なパターンの形成法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-speed patterning method using electron beam lithography that reduces time for forming a total pattern including a ultra-fine circuit pattern with a high dimensional accuracy.例文帳に追加

高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。 - 特許庁

The forgery preventing medium includes a patterning optically anisotropic layer formed by discharging an ink composition containing a liquid crystal compound to an alignment layer by an inkjet method.例文帳に追加

液晶化合物を含有するインク組成物をインクジェット法により配向層上に吐出して形成したパターニング光学異方性層を有する偽造防止媒体。 - 特許庁

To provide a method and device for appropriately evaluating the deviation and overlapped region between first and second patterns formed by double patterning.例文帳に追加

本発明の目的は、ダブルパターニングによって形成される第１パターンと第２パターン間のずれ、重なり領域の評価を適正に行い得る方法，装置の提供にある。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist material capable of suppressing pattern defects of a chemically amplified resist film caused by base species from outside, and to provide a patterning method using the same.例文帳に追加

外部からの塩基種に起因する化学増幅レジスト膜のパターン欠陥を抑制できる化学増幅レジスト材料と、それを用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of dipping pen nano-lithography (DPN), a substrate processed by patterning by DPN, a kit for carrying out DPN, and an AFM chip coated by hydrophobic compound.例文帳に追加

「つけペン」ナノリソグラフィ（ＤＰＮ）の方法、ＤＰＮによってパターニングされた基板、ＤＰＮを行うためのキット及び疎水性化合物で被覆されたＡＦＭチップを提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR TRANSMISSION IMAGE DETECTION FOR USE IN LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND METHOD FOR DETERMINING THIRD ORDER DISTORTION OF PATTERNING DEVICE AND/OR PROJECTION SYSTEM OF SUCH A LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

リソグラフィ投影装置で使用する透過像検出デバイス及びこのようなリソグラフィ装置のパターニングデバイス及び／又は投影システムの３次歪みを割り出す方法 - 特許庁

In the patterning method for plating, the surface of a substrate is etched, irradiated with plasma using a pattern mask together, and then subjected to catalyst treatment and electroless plating.例文帳に追加

基材表面をエッチングした後、パターンマスクを併用して該基材表面にプラズマ照射し、次いで、キャタリスト処理を行った後、無電解めっきを行うめっきのパターニング方法。 - 特許庁

Next, after an organic semiconductor layer is formed over the gate insulating layer 3, an organic semiconductor pattern 4 is formed by patterning the organic semiconductor layer by laser ablation method.例文帳に追加

続いて、ゲート絶縁層３の上に有機半導体層を形成したのち、レーザアブレーション法により有機半導体層をパターニングして有機半導体パターン４を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that suppresses reflected light from a foundation layer when patterning a photoresist film by exposure and reduce manufacturing cost.例文帳に追加

露光によるフォトレジスト膜のパターニングに際し、下地層からの反射光を抑制することができ、かつ、製造コストが抑えられる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and method which measure a different interlayer overlay in a semiconductor manufacturing technology such as double patterning process and the like by the use of an imaged device pattern.例文帳に追加

撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide a donor substrate for transfer allowing for a high precision fine patterning and a method of manufacturing a device such as an organic EL element using the donor substrate.例文帳に追加

高精度な微細パターニングが可能である転写用ドナー基板、および、かかるドナー基板を用いて有機ＥＬ素子などのデバイスを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).例文帳に追加

形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine structure patterning method capable of preparing a uniform pattern into large area by easily solidifying various kinds and properties of substance fluids.例文帳に追加

簡便に、様々な種類、性質の物質流体を固化させることで均質なパターンを大面積に作製することのできる新しい微細構造パターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a producing method of multi-layer circuit board for improving close contact strength between wiring and insulating resin film while preventing a patterning fault accompanied by advancement in microfabrication.例文帳に追加

微細化に伴うパターニング不良を回避しながら、配線と絶縁樹脂膜との間の密着強度を高めることができる多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optoelectronic device with which the number of patterning processes can be suppressed and the reduction of electric power consumption is made possible, a driving method for the optoelectronic device, and electronic equipment.例文帳に追加

パターニングの工程数を抑制するとともに、低消費電力化を図ることができる電気光学装置、電気光学装置の駆動方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁

The method for patterning comprises the step of ejecting a chemical species or its precursor through at least one nozzle onto a base to provide a plurality of films formed of the above chemical species.例文帳に追加

本発明は少なくとも１つのノズルから化学種又はその前駆体を吐出して前記化学種からなる複数の膜を配置するパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing apparatus for reducing dimensional errors even in the case of performing pattern formation for patterning a part leaving a resist, and to provide a drawing method using the apparatus.例文帳に追加

レジストを残す部分をパターンとするパターン形成を行なう場合でも寸法誤差を低減させる描画装置と、その装置を用いた描画方法を提供。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing an organic EL element which can easily carry out patterning of an organic function layer as well as obtaining uniformity in the film thickness.例文帳に追加

有機機能層を簡易にパターン形成できると共に、その膜厚の均一性を実現できる有機ＥＬ素子の製造方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for preventing an etching damage to the other region while patterning precision and high speed are maintained, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

パターニング精度、高速性を維持しつつ他の領域へのエッチングダメージを防止する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste capable of carrying out a fine patterning and exhibiting conductivity in a comparatively lower temperature cure, and to provide a method of manufacturing a conductive pattern.例文帳に追加

微細なパターンニングが可能で、比較的低温のキュアで導電性を発現することができる感光性導電ペーストおよび導電パターンの製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a patterning method for an aluminum shape having a pattern with a sense of natural texture or a three-dimensional and geometric pattern, and an aluminum shape obtained thereby.例文帳に追加

自然の風合い感のある模様や立体感のある幾何学的模様を備えたアルミニウム形材の模様付け方法と、それにより得られたアルミニウム形材を提供する。 - 特許庁

To perform patterning of a conductive layer, formed of a light-reflective conductive material, with high quality in a method of manufacturing an electrooptical device such as a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、光反射性を有する導電性材料から形成された導電層を高品位にパターニングする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nano-carbon material composite substrate capable of favorably patterning and growing a nano-carbon material on a substrate.例文帳に追加

本発明は、基板にナノ炭素材料を好適にパターニングして成長させること出来るナノ炭素材料複合基板製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method with which it becomes possible to precisely and simply inspect the quality of a process for patterning a photosensitive resin film using a semiconductor lithography technique.例文帳に追加

半導体リソグラフィ技術を用いて感光性樹脂膜をパターニングする工程の良否を正確且つ簡易に検査することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element in which patterning of a silicon oxide film by photolithographic technique is possible without requiring hydrophobic treatment.例文帳に追加

本発明は、疎水化処理を要することなく、フォトリソグラフィー技術による酸化シリコン膜のパターニングが可能な半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent the loss caused by the crack and air bubbles generated in core patterning by dry etching in a method for manufacturing an optical wiring layers having cores and clads.例文帳に追加

コアとクラッドを有する光配線層の製造方法において、ドライエッチングでコアパターン時に生ずる亀裂及び気泡により発生する損失を防止することを目的とする。 - 特許庁

It is desirable to manufacture the template 1 made of resin by carrying out a patterning on a front surface of a PE sheet 1a laminated on a PMMA sheet 1b by a thermal cycling nano imprint method.例文帳に追加

樹脂製テンプレート１は、ＰＭＭＡシート１ｂ上にラミネートされたＰＥシート１ａの表面に熱サイクルナノインプリント法でパターニングすることにより作製するとよい。 - 特許庁

The method further comprises steps of forming the protective oxide film in this state by a thermal oxidation treating step, thereafter patterning the amorphous silicon film, and forming the gate electrode on the element region.例文帳に追加

さらにこの状態で保護酸化膜を熱酸化処理工程により形成し、その後で前記アモルファスシリコン膜をパターニングして前記素子領域にゲート電極を形成する。 - 特許庁

To provide a method for patterning thin film by which the degree of freedom of etchant selection can be improved and a thin film can be etched evenly over a large area.例文帳に追加

本発明では、エッチングにおける液の選定の自由度が高く、大面積にわたり均一にエッチングできる薄膜のパターン形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

In addition, a lift-off method without requiring an etching process for patterning a source electrode and a drain electrode of the pixel part, and source wiring extending in the terminal part is employed.例文帳に追加

さらには、画素部のソース電極及びドレイン電極と端子部に延在するソース配線のパターニングにエッチング工程を必要としないリフトオフ方法を採用する。 - 特許庁

To form a device pattern of uniform thickness on a substrate while reducing the production process and production cost in a device patterning method employing a liquid ejection head.例文帳に追加

液体吐出ヘッドを用いたデバイスパターン形成方法において、製造工程および製造コストを抑えつつ、基板上に均一な膜厚のデバイスパターンを形成可能にする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element of which patterning of an organic El layer is easy and influence of a photo-catalyst is small.例文帳に追加

本発明は、有機ＥＬ層のパターニングが容易であり、かつ、光触媒の影響の少ないＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The method further includes forming of a resist pattern 8 on a hard mask 6, patterning of the hard mask 6 and the low permittivity film 4 with the resist pattern 8 as a mask, and forming of an opening 10.例文帳に追加

ハードマスク６上にレジストパターン８を形成し、このレジストパターン８をマスクとしてハードマスク６と低誘電率膜４をパターニングし、開口１０を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate for optical waveguides which can perform high resolution core patterning, and to provide a manufacturing method of an optical waveguide using the substrate for an optical waveguide.例文帳に追加

高解像度のコアパターニングを行うことができる光導波路用基材、及びその光導波路用基材を用いた光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method for the biopolymer analytical chip 1, the solid imaging device 3 is formed at first by patterning double gate transitors 20, 20 on the transparent substrate 17.例文帳に追加

生体高分子分析チップ１を製造するには、まず透明基板１７上にダブルゲートトランジスタ２０，２０，…をパターニングすることによって、固体撮像デバイス３を形成する。 - 特許庁