「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

When a patterned thin film is formed using a photoresist method; one surface of the thin film 200 before the patterning is treated by a treating solution 300 containing lactate, and then a photoresist mask is formed.例文帳に追加

フォトレジスト法を用いてパターン化された薄膜を形成するに当たり、パターン化前の薄膜２００の一面を、乳酸エステルを含有する処理液３００で処理し、その後に、フォトレジストマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing power semiconductor device, with which reduction of the number of steps for patterning both sides of a semiconductor substrate can be realized and cost reduction is realized.例文帳に追加

半導体基板両面のパターニングを行なう際の工程数を削減し、コストダウンを図ることが可能となるパワー半導体装置の製造方法及びパワー半導体装置の製造装置を提供すること。 - 特許庁

To execute good patterning at an overall etching face by suppressing a surface roughness of the overall etching face and generation of micropyramids in a method for manufacturing ink jet heads of an electrostatic driving form.例文帳に追加

静電駆動方式インクジェットヘッドの製造方法において、全面エッチング面の表面粗さ及びマイクロピラミッドの発生を抑えることにより、全面エッチング面での良好なパターニングを行う。 - 特許庁

To pattern a transparent conductive thin film laminated product comprising a transparent, high-refraction factor thin film layer and a transparent metal thin film layer by a fine patterning dry etching method.例文帳に追加

透明高屈折率薄膜層と透明金属薄膜層からなる透明導電性薄膜積層体を反応ガスを用いたドライエッチング手法により、微細なパターニドライエッチング法を用いてパターニングする。 - 特許庁

To provide lamination equipment for improving a lamination property and patterning in a laser thermal transfer process by improving a method for fixing a donor substrate and a substrate inside a thermal transfer device.例文帳に追加

熱転写装置内においてドナー基板と基板の固定方法を改善することによって、ラミネーション特性及びレーザ熱転写工程のパターニングを改善させることができるラミネーション装備を提供する。 - 特許庁

In patterning ribs of a plasma display panel by a sand-blast method, the sand-blast processing is performed after previously disposing a shielding member to cover parts that should not be damaged by the blast.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのリブをサンドブラスト法によりパターニングするに際し、ブラストによってダメージを受けてはならない部分を覆うように予め遮蔽部材を配置してからサンドブラスト加工を行うようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device by which a desired patterning is facilitated irrespective of the presence of the etching-face azimuth dependency of a semiconductor layer in the wet etching of the semiconductor layer having crystallizability.例文帳に追加

結晶性を有する半導体層のウェットエッチングにおいて、半導体層のエッチング面方位依存性の有無に起因せずに所望なパターニングが容易な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for efficiently and easily drying substrates on which fine patterning is performed, such as photomasks and printing plates for fine printing after wet-washing using a washing liquid or the like.例文帳に追加

フォトマスクや精密印刷用の刷版など、微細なパターニングが施されている基板を、洗浄液等を使用してウェット洗浄した後、効率よく容易に乾燥させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of shortening a tact time of pattern forming, calcining a pattern layer and a dielectric layer in a lump, and totally lowering the cost of pattern formation.例文帳に追加

パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a flash memory device which facilitates the etching process of a device isolation film to be executed after gate patterning by lowering the height of the device isolation film formed in a peripheral region.例文帳に追加

周辺領域に形成される素子分離膜の高さを下げるように形成して、ゲートパターニング後に実施する素子分離膜のエッチング工程を容易にするフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic light emitting display device capable of reducing a number of steps of a patterning process utilizing a mask and suppressing an increase in resistance due to non-uniform doping in a capacitor, and a method for manufacturing the organic light emitting display device.例文帳に追加

マスクを利用したパターニング工程段階を減らし、キャパシタの不均一ドーピングによる抵抗増加を抑制可能な有機発光表示装置とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method and apparatus for fabricating the flat panel display element include patterning a thin film of the flat panel display element by utilizing a soft mold formed with a repulsion layer having high repulsive force to an etch-resist on the surface.例文帳に追加

本発明の平板表示素子の製造方法及び装置は、エッチレジストとの反発力が大きい反発層が表面に形成されたソフトモールドを利用して平板表示素子の薄膜をパターニングする。 - 特許庁

To provide a device for organic layer deposition, which is suitable for mass production of large substrates and allows highly fine patterning, and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the organic layer deposition device.例文帳に追加

大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which allows a precise and uniform patterning of a film to be etched even if a pattern comprises a mixture of pattern elements of various line widths and sparsenesses.例文帳に追加

種々の線幅／スパース幅のパターンが混在していても、高精度で均一な被エッチング膜のパターニングを行うことができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a copper foil for printed wiring board, and its producing method, exhibiting excellent stripping strength without increasing the surface roughness in order to deal with fine patterning of circuit wiring and high function of a basic material.例文帳に追加

本発明は、回路配線の微細化及び基材の高機能化に対応するため、表面粗さを上げることなく、引きはがし強さに優れるプリント配線板用銅箔とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a thin film transistor forms an oxide semiconductor thin film 6 by patterning and then heating a precursor thin film 6' formed by the application of a precursor solution.例文帳に追加

前駆体溶液を塗布して形成される前駆体薄膜６’をパターニングした後、加熱することにより酸化物半導体の薄膜６を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

To provide a patterning method of a film that simplifies the manufacturing process of an electron discharge element, can inexpensively manufacture an image forming apparatus having excellent display quality for a long term, and is made of carbon fibers.例文帳に追加

電子放出素子の作製プロセスを簡易化するとともに、長期に渡り表示品位に優れた画像形成装置を安価に製造し得るカーボンファイバーからなる膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The other substrate 3 is manufactured by patterning and forming transparent electrodes 16 for display by the photolithography method using the mask on the one surface 15a of the plastic substrate 15 having the translucency.例文帳に追加

他方基板３は、透光性を有するプラスチック基板１５の一方表面１５ａにマスクを使用してフォトリソグラフィ法によって表示用透明電極１６をパターン形成して作製される。 - 特許庁

To provide a resist protective film material for forming a protective film on a photoresist film to protect the photoresist film in liquid immersion photolithography, and a patterning method using the material.例文帳に追加

本発明は、液浸フォトリソグラフィーにおいて、フォトレジスト膜を保護すべくフォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料及びこれらの材料を用いたパターン形成方法に関する。 - 特許庁

The method of manufacturing an extreme-ultraviolet photomask includes a step of forming an upper pattern 45, having an inclined sidewall by patterning an upper film, after forming the upper film on a photomask substrate 10.例文帳に追加

極紫外線フォトマスクの製造方法は、フォトマスク基板１０上に上部膜を形成した後、上部膜をパターニングして傾いた側壁を有する上部パターン４５を形成する段階を含む。 - 特許庁

With the photosensitive film 47 as a mask, patterning is performed so as to allow the first metallic layer 43 to have the width W1 through the use of an anisotropic etching method, and then, the gate electrode with the lamination structure is formed ((c) in Fig.5).例文帳に追加

次に、感光膜４７をマスクとして第１金属層４３を異方性エッチング方法で幅（Ｗ１）を持つようにパターニングして積層構造のゲート電極を形成する（図５（ｃ））。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an image sensor capable of performing fine patterning while enhancing a fill factor even if roughness or uniformity is not improved by a CMP or WET process.例文帳に追加

本発明は、フィルファクターを高めながら、ＣＭＰやＷＥＴ工程による粗さやユニフォーミティの改善を施さなくても、微細パターニングすることができるイメージセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming process of applying the above resist pattern thickening material to cover the surface of a resist pattern after the resist pattern is formed on the objective surface to be worked; and a patterning process of patterning the surface to be worked by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工表面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method is used to manufacture a wiring board, wherein a pattern wiring is formed on a board, and it includes an aerosol film formation step of forming a conductive layer by collision of aerosol and a patterning step of patterning the conductive layer by etching and form the pattern wiring including the conductive layer.例文帳に追加

基板上にパターン配線が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記基板上に、エアロゾルの衝突によって導電層を形成するエアロゾル成膜工程と、前記導電層をエッチングによりパターニングして当該導電層を含む前記パターン配線を形成するパターニング工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical waveguide comprising a core and upper and lower clads between which the core is held comprises: a patterning process of performing the patterning of the core shapes by irradiating the surface of core material stacked on the lower part clad material with laser beams; and a development process of developing the core material on which the core shapes are patterned.例文帳に追加

コアと、コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされたコア材料を現像する現像工程と、を含むものとすることができる。 - 特許庁

The magnetoresistance effect element 10 is manufactured by the method including a ferromagnetic layer formation process for forming a layer made of a ferromagnetic material on a substrate 14, and a patterning process for patterning the formed layer to set the maximum length of the nano-junction 12 for connecting the ferromagnetic layers 11, 13 to the Fermi length or smaller of the ferromagnetic material.例文帳に追加

こうした磁気抵抗効果素子１０は、基板１４上に強磁性材料からなる層を形成する強磁性層形成工程と、形成された層をパターニングして、前記２つの強磁性層１１，１３を連結するナノ接合部１２の最大長さを前記強磁性材料のフェルミ長以下にするパターニング工程とを有する方法により製造される。 - 特許庁

This manufacturing method of the semiconductor device comprises (a) a step of forming the rare metal layer on a semiconductor substrate provided with the semiconductor device, (b) a step of forming a TaO film on the rare metal layer, (c) a step of patterning the TaO film using a resist pattern, and (d) a step of patterning rare metal layer using the patterned TaO film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ア）半導体素子を形成した半導体基板上にレアメタル層を形成する工程と、（イ）前記レアメタル層上にＴａＯ膜を形成する工程と、（ウ）前記ＴａＯ膜をレジストパターンを用いてパターニングする工程と、（エ）前記パターニングされたＴａＯ膜を用いて前記レアメタル層をパターニングする工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for optimizing the parts patterning position in a laminated die in which the area of an iron plate required in patterning the parts is reduced by reducing the distance between the parts as much as possible without breaking the relative positional relationship between the parts, and the yield is improved while maintaining the plainness of the assembling position of each parts in the assembling work.例文帳に追加

各パーツの相対的な位置関係を崩すことなしに各パーツの距離を可能な限り近づけることにより、パーツの型取りに必要な鉄板の面積を縮小し、組み付け作業時の各パーツの組み付け位置の分かり安さを維持しながら歩留り率を向上せしめた、積層金型におけるパーツの型取り位置最適化法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming step of forming a resist pattern on the surface to be processed and then applying the thickening material for a resist pattern to cover the surface of the resist pattern to thereby thicken the resist pattern; and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method includes a preparing process 14 of preparing a silicon wafer, a patterning process 16 of patterning the wafer with a blocking agent in selected regions where deposition of ZnO is to be inhibited, a depositing process 20 of depositing a layer of ZnO on the wafer by ALD, and a removing process 24 of removing the blocking agent from the wafer.例文帳に追加

上記方法は、シリコンウェーハを用意する工程１４と、ＺｎＯの堆積を抑制させることを選択した領域のパターンを、阻害作用物を用いることにより該ウェーハにパターン形成する工程１６と、ＡＬＤにより該ウェーハ上にＺｎＯの層を堆積させる工程２０と、該ウェーハから該阻害作用物を除去する工程２４とを含む。 - 特許庁

This method is characterize in comprising a step of including a magnetic sensitive layer with a magnetization in plane, forming a current perpendicular to plane type magneto resistive effect film 4 which perpendicularly runs the sense current to a film plane and carrying out patterning into a component configuration, and a step of forming a magnetic yoke 12 which covers the magneto resistive effect film 4 carried out patterning into the component configuration.例文帳に追加

膜面内に磁化を有する感磁層を備え、膜面に対して垂直方向にセンス電流を流す面内垂直通電型の磁気抵抗効果膜４を形成し、素子形状にパターニングする工程と、素子形状にパターニングされた磁気抵抗効果膜４を覆う磁気ヨーク１２を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In the substrate processing method including an organic film patterning processing for processing the organic film pattern formed on a substrate, a dissolution deforming treating (step 3) of dissolving and deforming the organic film pattern and a third removal processing (step J3) of removing a portion of the dissolved and deformed organic film pattern are performed in this order in the organic film patterning processing.例文帳に追加

基板上に形成された有機膜パターンを加工する有機膜パターン加工処理を備える基板処理方法において、有機膜パターン加工処理では、有機膜パターンを溶解させ変形させる溶解変形処理（ステップＳ３）と、溶解変形した変形有機膜パターンを第三の除去処理（ステップＪ３）とをこの順に行う。 - 特許庁

To provide a multiple patterning ceramic substrate to be a small-size electronic component storing package, which is easily divided along dividing lines and provided with a metallize layer capable of rigidly connecting and fixing an external electric circuit substrate, a lid body or the like, and to provide the manufacturing method therefor as well as a multiple patterning electronic component storing package and an electronic device.例文帳に追加

小型の電子部品収納用パッケージとなる多数個取りセラミック基板であって、分割線に沿って分割が容易であるとともに、外部電気回路基板や蓋体等を強固に接続固定できるメタライズ層を備えた多数個取りセラミック基板およびその製造方法ならびに多数個取り電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring substrate effectively suppressed in occurrence of warpage and penetration of water into space between insulating layers and a method of manufacturing the same, and to provide a wiring substrate suppressed in occurrence of warpage and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

反りの発生および絶縁層の層間への水分の浸入が効果的に抑制された多数個取り配線基板およびその製造方法、ならびに反りの発生が抑制された配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical device having functions of reflection prevention, wavelength selection, wavelength dispersion and the like by forming a nano pattern by a highly accurate and simple method in a joining portion where patterning is difficult by a conventional lithographic technology and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

従来のリソグラフィ技術ではパターニングが困難な接合部位に高精度でかつ簡便な手法によりナノパターンを形成し、反射防止、波長選択、波長分散などの機能を持たせる光デバイスとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method capable of treatment a substrate with high accuracy by improving the resist coating property of the edge of the substrate having a recess, thereby improving the patterning accuracy of a resist film, and to provide a method for manufacturing a liquid ejection head.例文帳に追加

凹部を有する基板のエッジ部のレジスト被膜性を向上させることにより、レジスト膜のパターニング精度を向上させ、高精度な基板加工が可能となる基板加工方法、および液体吐出ヘッドの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for reducing impurities in an organic polymer by an easy method, after patterning and curing an organic polymer resin on a substrate and vaporizing a part of the organic polymer resin constituting the obtained pattern by chemical reaction.例文帳に追加

有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンを構成する有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、簡便な方法で有機ポリマー中に含まれる不純物を低減する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method for highly accurately performing patterning when performing pattern-forming by using a flexible substrate, and to provided an electronic element and an organic electroluminescent element each having a pattern-formed layer using the method.例文帳に追加

可撓性基板を用いてパターン形成する場合に、高精度にパターニングを行うことができる蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

To form a switching device by surely and easily forming wiring on a plastic board through patterning, and to provide a method of forming a liquid crystal display device electrode capable of coping with color moving images and a method of manufacturing a liquid crystal display device.例文帳に追加

プラスチック基板上に、容易かつ確実に配線のパターニングを行うことによって、スイッチング素子を形成し、カラー動画に対応し得る液晶表示装置電極の形成方法、液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid drop ejector in which flushing can be carried out without damaging the productivity, and without having any adverse effect on film deposition or patterning while protecting the liquid drop ejector against contamination and its driving method, system and method for depositing a film, and the like.例文帳に追加

生産性を損なうことなく、しかも製膜やパターニングに悪影響を及ぼしたり、装置を汚したりすることが防止されたフラッシングを可能とする、液滴吐出装置とその駆動方法、製膜装置と製膜方法などを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for manufacturing a color filter for liquid crystal display device which can be formed as a pattern by a photolithographic method in a single base of manufacturing line, can have layers that does not require patterning to be formed, and is suitable for small-lot production.例文帳に追加

１基の製造ラインで、フォトリソグラフィ法によりパターンとして形成し、また、パターニングを要しない層を形成するとができ、且つ少量生産に好適な液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置、及び製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a direct-write patterning method which can very easily and simply cope with the direct writing method from data from a computer in a bright room, even with printed boards having through-holes in the manufacturing technology of electronic circuits.例文帳に追加

電子回路の製造技術において、極めて簡便に、かつ明室下で可能な、コンピュータからのデータの直接描画方法に対応することができる直描作製方法であり、かつスルーホールを有する配線板も直描作製可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive patterning composition having photosensitivity which can be patterned by a photolithographic method and which can develop the conductivity by heat treatment at a relatively low temperature and to provide a method for manufacturing a conductive pattern film by using the composition.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によりパターニングすることができる感光性を有し、かつ比較的低温の加熱処理で導電性を発現させることができる導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法を得る。 - 特許庁

The patterning method includes a step of forming a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate, and the method includes steps of preparing a substrate on which an alignment mark to be used for alignment is formed, drawing a first pattern by aligning using the above alignment mark, and drawing a second pattern by aligning using the above alignment mark.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成する工程を有するパターン形成方法において、位置合わせに用いるアライメントマークが形成された基板を準備する工程と、上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第１のパターンを描画する工程と、さらに上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第２のパターンを描画する工程とを含む。 - 特許庁

With the photosensitive film 47 as a mask, patterning is performed so as to allow the second metallic layer 45 to have the smaller width W2 of 1 μm to 4 μm than the width W1 of the photosensitive film through the use of an isotropic wet etching method ((b) in Fig.5).例文帳に追加

感光膜４７をマスクとして第２金属層４５を等方性のウェットエッチング方法で感光膜の幅（Ｗ１）よりも１μｍ乃至４μｍ程度小さな幅（Ｗ２）にパターニングする（図５（ｂ））。 - 特許庁